[發(fā)明專利]一種用于細管道內(nèi)壁的磁控濺射鍍膜裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210354033.0 | 申請日: | 2022-04-06 |
| 公開(公告)號: | CN114752902A | 公開(公告)日: | 2022-07-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉佳明;王鵬程;劉順明;譚彪;孫曉陽;關(guān)玉慧 | 申請(專利權(quán))人: | 散裂中子源科學(xué)中心;中國科學(xué)院高能物理研究所 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/04;C23C14/52 |
| 代理公司: | 深圳鼎合誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281 | 代理人: | 廖金暉;彭家恩 |
| 地址: | 523808 廣東省東莞*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 細管 內(nèi)壁 磁控濺射 鍍膜 裝置 | ||
一種用于細管道內(nèi)壁的磁控濺射鍍膜裝置,包括:連接導(dǎo)向機構(gòu),配重導(dǎo)向機構(gòu),陰極絲以及磁場發(fā)生機構(gòu);連接導(dǎo)向機構(gòu)包括:連接管,導(dǎo)體固定件,以及絕緣連接件;導(dǎo)體固定件的內(nèi)部設(shè)有第一連接穿孔,絕緣連接件的內(nèi)部設(shè)有第二連接穿孔,陰極絲的一端穿設(shè)于第一連接穿孔與第二連接穿孔中,并固定在導(dǎo)體固定件上;配重導(dǎo)向機構(gòu)包括:導(dǎo)向管以及配重件;配重件可滑動的設(shè)置在導(dǎo)向管中,配重件上設(shè)有固定位,陰極絲的另一端連接于固定位;磁場發(fā)生機構(gòu)用于套設(shè)在被鍍管道的外側(cè)。陰極絲的兩端分別與連接導(dǎo)向機構(gòu)和導(dǎo)線配重導(dǎo)向機構(gòu)連接,并通過連接導(dǎo)向機構(gòu)和配重導(dǎo)向機構(gòu)保持陰極絲與細長管道的同軸度,避免陰極絲接觸細長管道而導(dǎo)致其短路的現(xiàn)象。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及磁控濺射鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于細管道內(nèi)壁的磁控濺射鍍膜裝置。
背景技術(shù)
隨著現(xiàn)代工業(yè)技術(shù)的迅速發(fā)展,薄膜技術(shù)已經(jīng)成為當代真空技術(shù)和材料科學(xué)中最活躍的研究領(lǐng)域之一,在新技術(shù)革命中,具有舉足輕重的作用。管道內(nèi)表面鍍膜技術(shù)是其中重要的領(lǐng)域。在工業(yè)生產(chǎn)中應(yīng)用廣泛,例如:管道內(nèi)表面沉積超硬材料提高耐磨性;在加速器領(lǐng)域中,真空盒內(nèi)表面沉積氮化鈦降低二次電子發(fā)射系數(shù),沉積非蒸散型吸氣劑薄膜(NEG)使真空盒具有抽氣能力。
對于常規(guī)尺寸管道內(nèi)表面鍍膜,可利用帶有永磁鐵的陰極或內(nèi)置一根金屬絲進行磁控濺射鍍膜,但對于極細管道(直徑小于10mm、長度大于500mm)而言,永磁體陰極受尺寸限制無法置入管道內(nèi)部,內(nèi)置金屬細絲的方式也因易短路的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種用于細管道內(nèi)壁的磁控濺射鍍膜裝置,以保證陰極絲的同軸度,避免與被鍍管道接觸,進而不會造成短路。
本申請?zhí)峁┝艘环N用于細管道內(nèi)壁的磁控濺射鍍膜裝置,包括:連接導(dǎo)向機構(gòu),配重導(dǎo)向機構(gòu),陰極絲以及磁場發(fā)生機構(gòu);所述連接導(dǎo)向機構(gòu)包括:連接管,導(dǎo)體固定件,以及絕緣連接件;所述導(dǎo)體固定件設(shè)置在所述連接管的內(nèi)部,所述絕緣連接件設(shè)置在所述連接管的一端端口處,且所述絕緣連接件與所述導(dǎo)體固定件連接;所述導(dǎo)體固定件的內(nèi)部設(shè)有第一連接穿孔,所述絕緣連接件的內(nèi)部設(shè)有第二連接穿孔,所述陰極絲的一端穿設(shè)于所述第一連接穿孔與所述第二連接穿孔中,并固定在所述導(dǎo)體固定件上;所述配重導(dǎo)向機構(gòu)包括:導(dǎo)向管,以及配重件;所述配重件可滑動的設(shè)置在所述導(dǎo)向管中,所述配重件上設(shè)有固定位,所述陰極絲的另一端連接于所述固定位;所述連接管的另一端用于連接被鍍管道的一端,所述導(dǎo)向管用于連接被鍍管道的另一端,所述磁場發(fā)生機構(gòu)設(shè)置在被鍍管道的外側(cè),用于產(chǎn)生平行于陰極絲的磁場;所述陰極絲、第一連接穿孔、第二連接穿孔、導(dǎo)向管、固定位均同軸。
一種實施例中,還包括:
第一觀察窗組件,所述第一觀察窗組件包括:第一過渡連接管以及第一觀察件;所述第一過渡連接管具有第一過渡連接通道,所述第一觀察件具有第一觀察通道,所述第一觀察件連接在所述第一過渡連接管上,所述第一觀察通道與所述第一過渡連接通道連通;所述第一過渡連接管的一端與所述絕緣連接件連接,所述第一過渡連接管的另一端用于與被鍍管道的一端連接。
第二觀察窗組件,所述第二觀察窗組件包括:第二過渡連接管以及第二觀察件;所述第二過渡連接管具有第二過渡連接通道,所述第二觀察件具有第二觀察通道,所述第二觀察件連接在所述第二過渡連接管上,所述第二觀察通道與所述第二過渡連接通道連通;所述第二過渡連接管的一端與所述導(dǎo)向管的一端連接,所述第二過渡連接管的另一端用于與被鍍管道的另一端連接。
一種實施例中,還包括:
第一屏蔽管,所述第一屏蔽管穿設(shè)于所述第一過渡連接通道、所述第一連接穿孔與所述第二連接穿孔中,且所述第一屏蔽管固定在所述導(dǎo)體固定件上,所述陰極絲的一端穿設(shè)于所述第一屏蔽管;
第二屏蔽管,所述第二屏蔽管穿設(shè)于所述第二過渡連接通道,且所述第二屏蔽管與所述配重件固定連接;所述陰極絲的另一端穿設(shè)于所述第二屏蔽管。
一種實施例中,
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





