[發明專利]一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器及制備方法在審
| 申請號: | 202210349931.7 | 申請日: | 2022-04-02 |
| 公開(公告)號: | CN114709281A | 公開(公告)日: | 2022-07-05 |
| 發明(設計)人: | 賀懷樂;盧凱翔;趙天麗;邢志文;錢松程;王順利;郭道友 | 申請(專利權)人: | 浙江理工大學 |
| 主分類號: | H01L31/032 | 分類號: | H01L31/032;H01L31/0336;H01L31/109;H01L31/18 |
| 代理公司: | 杭州敦和專利代理事務所(普通合伙) 33296 | 代理人: | 姜術丹 |
| 地址: | 310000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 氧化 鎵異質 結構 紫外 探測器 制備 方法 | ||
1.一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器,其特征在于:包括藍寶石的襯底(1),置于所述襯底(1)上方的β-Ga2O3薄膜(2),置于所述β-Ga2O3薄膜(2)上方的SSO層(3),置于所述SSO層(3)上的第一測試電極(4),置于所述SSO層(3)一側且位于所述β-Ga2O3薄膜(2)上的第二測試電極(5),所述β-Ga2O3薄膜(2)與所述SSO層(3)形成β-Ga2O3/SSO異質結,構成內界電場。
2.根據權利要求1所述的一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器,其特征在于:所述β-Ga2O3薄膜(2)的厚度為300~700nm,所述SSO層(3)的厚度為50~300nm。
3.根據權利要求2所述的一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器,其特征在于:所述β-Ga2O3薄膜(2)的面積大于所述SSO層(3)的面積,所述SSO層(3)的面積為所述β-Ga2O3薄膜(2)的面積的三分之二。
4.根據權利要求3所述的一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器,其特征在于:所述SSO層為SrSnO3,且SrSnO3需在氧氣氛圍中退火且進行Y元素摻雜形成Y-O2-SrSnO3。
5.根據權利要求4所述的一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器,其特征在于:所述SSO層(3)為SrSnO3,且所述SrSnO3需在氧氣氛圍中退火且進行Y元素摻雜形成Y-O2-SrSnO3,所述退火的氧氣流量為1-100sccm,退火溫度為100~900℃,退火時間5-120min。
6.根據權利要求5所述的一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器,其特征在于:所述Y元素的摻雜量為0.01-0.1%。
7.根據權利要求5所述的一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器,其特征在于:所述第一測試電極(4)和所述第二測試電極(5)均為Ti/Au復合電極,所述Ti/Au復合電極由Ti層和Au層構成,所述Ti層厚度為10~50nm,所述Au層厚度為10~100nm。
8.一種基于氧化鎵異質結構的日盲紫外探測器的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:將藍寶石的所述襯底(1)進行預處理,分別用丙酮,無水乙醇和去離子水超聲10min,將處理后的所述襯底(1)放入沉積室內采用金屬氧化物化學氣相沉積法(MOCVD)生長β-Ga2O3薄膜,形成β-Ga2O3光吸收層,即所述β-Ga2O3薄膜(2),所述MOCVD的生長沉積條件如下,三乙基鎵(TEGa)和高純O2為前驅體,高純Ar作為載氣,TEGa的氣體流量為10~500sccm,工作氣壓為25Torr。
步驟二:在所述襯底(1)和所述β-Ga2O3光吸收層上旋涂SSO溶液,形成所述SSO層(3),獲得位于所述襯底(1)上的所述β-Ga2O3/SSO異質結;
步驟三,采用磁控濺射方法在所述β-Ga2O3/SSO異質結的所述SSO層3上制作Ti/Au薄膜第一測試電極(4),在所述β-Ga2O3薄膜(2)上制作Ti/Au薄膜第二測試電極(5),形成基于氧化鎵基異質結構的日盲紫外探測器。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





