[發明專利]檢測系統和圖像形成裝置

在審

• 申請號: 202210349529.9
• 申請日: 2022-04-02
• 公開（公告）號: CN115201146A
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發明（設計）人: 鄉田達人
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G01N21/3581
• 分類號: G01N21/3581
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 宋巖

公開了檢測系統和圖像形成裝置。一種檢測系統包括：多個太赫茲光源；以及多個太赫茲波檢測設備，所述多個太赫茲波檢測設備檢測太赫茲波，其中，所述多個太赫茲光源包括第一太赫茲光源和第二太赫茲光源，第一太赫茲光源以具有第一周期的第一開啟/關閉模式輸出太赫茲波，第二太赫茲光源以具有不同于第一周期的第二周期的第二開啟/關閉模式輸出太赫茲波。

技術領域

本發明涉及通過用太赫茲波照射物體來獲取信息的檢測系統。

背景技術

已知使用太赫茲波的檢查技術。太赫茲波可以被定義為頻率為至少30GHz且不超過30THz的電磁波。日本專利申請公開No.2020-153973公開了一種檢測系統，該檢測系統例如通過用太赫茲波照射諸如人或動物之類的檢查目標并通過接收透過布、皮膚等并被反射的太赫茲波獲取圖像來檢測諸如槍、刀、爆炸物等之類的危險物品。

根據日本專利申請公開No.2020-153973，在從多個方向對檢查目標進行檢查的情況下，檢測系統由部署有檢測太赫茲波的檢測設備(下文中，太赫茲波檢測設備)以及發射太赫茲波的光源(太赫茲光源)的多個組構成。在該多個組中，第一組由第一太赫茲光源和第一太赫茲波檢測設備構成，并且第二組由第二太赫茲光源和第二太赫茲波檢測設備構成。在如上的構成中，當僅從第二太赫茲光源發射的太赫茲波要被第二太赫茲波檢測設備檢測時，從第一太赫茲光源發射的不需要的太赫茲波也被檢測，并且可能阻礙由第二太赫茲波檢測設備進行的檢測。

發明內容

本公開的目的是提供可以消除不需要的太赫茲波以便精確地檢測來自所期望的光源的太赫茲波的具有多組太赫茲波檢測裝置和太赫茲光源的太赫茲波檢測系統。

本公開的第一方面是一種檢測系統，該檢測系統包括：多個太赫茲光源；以及多個太赫茲波檢測設備，多個太赫茲波檢測設備檢測太赫茲波，其中，多個太赫茲光源包括第一太赫茲光源和第二太赫茲光源，第一太赫茲光源以具有第一周期的第一開啟/關閉模式輸出太赫茲波，第二太赫茲光源以具有不同于第一周期的第二周期的第二開啟/關閉模式輸出太赫茲波。

本公開的第二方面是一種圖像形成裝置，該圖像形成裝置包括：多個太赫茲光源；以及多個太赫茲波檢測設備，多個太赫茲波檢測設備檢測太赫茲波，其中，多個太赫茲光源包括第一太赫茲光源和第二太赫茲光源，第一太赫茲光源以具有第一周期的第一開啟/關閉模式輸出太赫茲波，第二太赫茲光源以具有不同于第一周期的第二周期的第二開啟/關閉模式輸出太赫茲波，多個太赫茲波檢測設備中的每一個具有至少具有太赫茲波檢測部、信號放大部和信號累積部并以矩陣狀態部署成多個的像素，多個太赫茲波檢測設備包括第一太赫茲波檢測設備和第二太赫茲波檢測設備，第一太赫茲波檢測設備與第一開啟/關閉模式同步地檢測太赫茲波，第二太赫茲波檢測設備與第二開啟/關閉模式同步地檢測太赫茲波。

根據本公開，提供了可以消除不需要的太赫茲波以便精確地檢測來自所期望的光源的太赫茲波的具有多組太赫茲波檢測裝置和太赫茲光源的太赫茲波檢測系統。

根據以下參考附圖對示例性實施例的描述，本發明的其他特征將變得清楚。

附圖說明

圖1是用于說明根據實施例的太赫茲波檢測系統的示例的示圖；

圖2A和圖2B是用于說明比較例中的太赫茲光源的光發射定時的示圖；

圖3是根據該實施例的太赫茲波檢測傳感器的框圖；

圖4是根據該實施例的構成像素區域的每個像素的像素電路的示例；

圖5是用于說明根據該實施例的信號累積部的操作的示圖；

圖6是用于說明根據該實施例的太赫茲波檢測設備的驅動方法的示圖；

圖7是用于說明根據該實施例的第N行的像素電路的操作的示圖；

圖8是用于說明該實施例帶來的效果的示圖；