[發明專利]半焦加壓處理裝置、系統及半焦加壓處理方法

在審

• 申請號: 202210348390.6
• 申請日: 2022-04-01
• 公開（公告）號: CN114672353A
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 王奕唯;周三;張正旺;王蕾;孫中衛
• 申請（專利權）人: 新奧科技發展有限公司
• 主分類號: C10L1/32
• 分類號: C10L1/32;C10J3/72
• 代理公司: 北京開陽星知識產權代理有限公司 11710
• 代理人: 楊佩

1.一種半焦加壓處理裝置，其特征在于，包括加壓外殼(110)、移動件(120)及驅動件(130)；所述加壓外殼(110)具有可供半焦進入的進料口(140)、可供加壓后的半焦排出的排料口(160)及排氣口(150)；

所述移動件(120)設于所述加壓外殼(110)內，且所述移動件(120)可在所述驅動件(130)的驅動下沿所述加壓外殼(110)的長度方向移動以在初始位置、第一位置、第二位置和第三位置之間切換；所述移動件(120)由所述初始位置移動至所述第一位置時，可使進入至所述加壓外殼(110)內的所述半焦中混合的氣體經所述排氣口(150)排出；所述移動件(120)由所述第一位置移動至所述第二位置時，可對所述半焦進行加壓；所述移動件(120)由所述第二位置移動至所述第三位置時，可使加壓后的所述半焦經所述排料口(160)排出。

2.根據權利要求1所述的半焦加壓處理裝置，其特征在于，在沿所述長度方向上，所述第一位置距離所述初始位置的距離為d1，d1≤d(1-ψ)；所述第二位置距離所述初始位置的距離為d2，d2＝(ρ2-ρ1ψ)d/ρ2；所述第三位置距離所述初始位置的距離為d3，d3＝d-r；

其中，d為所述初始位置距離所述加壓外殼(110)的遠離所述驅動件(130)的一側的距離；r為所述排料口(160)在所述加壓外殼(110)的長度方向上的尺寸；ρ1為所述半焦的密度；ρ2為加壓后的所述半焦的密度；ψ為填充系數。

3.根據權利要求1所述的半焦加壓處理裝置，其特征在于，所述半焦加壓處理裝置包括進料裝置(300)，所述進料裝置(300)包括存儲半焦的半焦倉(310)、插板閥(320)以及進料管(330)；

所述進料管(330)的一端與所述半焦倉(310)連通，所述進料管(330)的另一端與所述進料口(140)連通；所述插板閥(320)設于所述進料管(330)和所述半焦倉(310)之間，以控制所述進料管(330)和所述半焦倉(310)連通或封閉。

4.根據權利要求3所述的半焦加壓處理裝置，其特征在于，所述加壓外殼(110)的遠離所述驅動件(130)的一側側壁上設置有料位開關(400)，所述料位開關(400)用于在經所述進料口(140)進入至所述加壓外殼(110)內的所述半焦達到預設填充量時觸發所述插板閥(320)，以使得所述進料管(330)與所述半焦倉(310)封閉。

5.根據權利要求4所述的半焦加壓處理裝置，其特征在于，在所述加壓外殼(110)的寬度方向上，所述料位開關(400)位于所述加壓外殼(110)的寬度中心。

6.根據權利要求4所述的半焦加壓處理裝置，其特征在于，在所述加壓外殼(110)的高度方向上，所述料位開關(400)距離所述加壓外殼(110)的頂部的距離為h，h≤d*tanα；d為所述初始位置距離所述加壓外殼(110)的遠離所述驅動件(130)的一側的距離；α為半焦安息角；

其中，h＝d*tanα時，所述半焦達到所述預設填充量。

7.根據權利要求3所述的半焦加壓處理裝置，其特征在于，所述進料裝置(300)還包括旋轉閥(340)，所述旋轉閥(340)設于所述進料管(330)內。

8.根據權利要求1至7任一項所述的半焦加壓處理裝置，其特征在于，所述半焦加壓處理裝置還包括排氣裝置(500)，所述排氣裝置(500)包括排氣管(510)以及排氣閥(520)，所述排氣管(510)與所述排氣口(150)連通，所述排氣閥(520)設于所述排氣管(510)內；且所述移動件(120)由所述初始位置移動至所述第一位置時，所述排氣閥(520)開啟；所述移動件(120)由所述第一位置移動至所述第二位置以及由所述第二位置移動至所述第三位置時，所述排氣閥(520)關閉。