[發(fā)明專利]流體處理裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210347784.X
• 申請(qǐng)日: 2018-07-11
• 公開（公告）號(hào): CN114620797A
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭栽鶴;鄭相旭;鄭雄基;崔載榮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 首爾偉傲世有限公司
• 主分類號(hào): C02F1/30
• 分類號(hào): C02F1/30;C02F1/32;C02F1/72;A61L9/18;A61L9/20
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 習(xí)瑞恒;姜長星

1.一種處理流體的裝置，包括：

配管，提供所述流體流動(dòng)的路徑，并且包括外管及內(nèi)管，所述外管具有使所述流體流入的流入口，所述內(nèi)管設(shè)置于所述外管內(nèi)并且具有使所述流體以與在所述流入口的流速不同的流速流出的排出口，

至少一個(gè)光源模塊，結(jié)合于所述配管并向所述配管內(nèi)照射處理所述流體的光；以及

第一基座和第二基座，設(shè)置于所述外管及所述內(nèi)管的第一端部和第二端部，

其中，所述內(nèi)管具有開口，使流入到所述流入口的所述流體能夠流動(dòng)到所述內(nèi)管內(nèi)，

所述開口的直徑小于所述流入口的內(nèi)部直徑，

以第一速度從所述流入口流入的流體經(jīng)由所述開口以小于所述第一速度的第二速度移動(dòng)到所述內(nèi)管的內(nèi)部，

所述光源模塊包括基板以及至少一個(gè)發(fā)光元件，所述發(fā)光元件包括發(fā)光二極管以及設(shè)置于所述基板與所述發(fā)光二極管之間的反射層，

所述光源模塊沿與所述配管的延伸方向垂直的方向設(shè)置，并且設(shè)置于所述基座與所述路徑之間，

所述基座接觸所述光源模塊的底面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，

所述光源模塊還包括：粘結(jié)層，設(shè)置于所述反射層與所述基板之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中，

所述光源模塊還包括：防擴(kuò)散層，設(shè)置于所述粘結(jié)層與所述反射層之間，

其中，所述防擴(kuò)散層防止金屬元素從所述粘結(jié)層或所述基板擴(kuò)散到所述反射層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，還包括：

光反射材料，形成于朝向所述配管的內(nèi)部的所述基板的面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中，

所述光反射材料是紫外線反射率高的材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，

所述外管的至少一部分具有通過去除所述外管的一部分而形成的光源開口，

所述光源模塊布置于所述光源開口內(nèi)部。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，

所述發(fā)光模塊還包括利用透明絕緣材料構(gòu)成的透明構(gòu)件，所述透明構(gòu)件設(shè)置于所述基板與所述路徑之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，

所述透明構(gòu)件設(shè)置為與所述配管的光源開口對(duì)應(yīng)的形狀和尺寸。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，

所述外管還包括凸起及臺(tái)階部，所述凸起及所述臺(tái)階部沿所述發(fā)光模塊的周長形成于所述外管，使得能夠安裝所述光源模塊。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，

所述外管包括紫外線反射率高的材料，使得從所述光源模塊照射的光在所述配管的內(nèi)部被反射。