[發明專利]一種靶材拍攝裝置及其拍攝方法在審
| 申請號: | 202210344189.0 | 申請日: | 2022-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN115065769A | 公開(公告)日: | 2022-09-16 |
| 發明(設計)人: | 姚力軍;潘杰;黃引馳;黃文杰;蔡楊港;楊其垚 | 申請(專利權)人: | 寧波陽明工業技術研究院有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/225 | 分類號: | H04N5/225;H04N5/235;F16M11/04;F16M11/14;F16M11/18;F16M11/28;F16M11/42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 拍攝 裝置 及其 方法 | ||
本發明提供了一種靶材拍攝裝置及其拍攝方法,所述靶材拍攝裝置包括支架,所述支架包括支撐柱,所述支撐柱的頂部設置有載物臺,所述支撐柱上套設有圓筒環,所述圓筒環上設置有第一支撐桿和第二支撐桿,所述第一支撐桿上設置有拍攝模塊,所述第二支撐桿上設置有補光模塊,所述第一支撐桿和第二支撐桿以圓筒環為圓心繞支撐柱轉動;所述拍攝模塊包括攝像機,所述攝像機設置有調節組件和固定組件,所述調節組件調節攝像機的高度和角度,所述固定組件用于固定攝像機。本發明通過固定組件和調節組件對攝像機的位置和角度進行調整,結合補光模塊配合,使調節穩定的攝像機對靶材進行全方位旋轉拍攝,具有拍攝效率高、便于操作和靈活性高等特點。
技術領域
本發明屬于靶材檢測技術領域,涉及一種靶材拍攝裝置及其拍攝方法。
背景技術
靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
目前,市場上通常采用的半導體靶材產品拍攝一體裝置是通過人為撥動施力給支撐桿使產品轉動來進行攝像的,這樣就會造成攝像不連續,而且大大浪費了人力資源,此外,拍攝過程中的拍攝視野小,不能適用于大多數的靶材產品的攝像,實用性低,而且該裝置在轉動時,攝像機容易摔落,且不能適用于大多數的攝像機的夾緊,而且并沒有發光板,使得拍攝的照片清晰度不高,影響使用者的后續使用。
CN113566748A公開了一種濺射靶材檢測機構,包括輸料裝置以及檢測裝置;所述檢測裝置包括機械手、翻轉組件、升降旋轉組件以及拍攝組件,所述機械手安裝于所述升降旋轉組件的上方并能夠在所述升降旋轉組件的上方沿水平方向和縱向移動,所述翻轉組件與所述升降旋轉組件間隔設置,所述拍攝組件與所述升降旋轉組件間隔設置,所述翻轉組件翻轉所述升降旋轉組件上的物料,所述升降旋轉組件旋轉升降物料,所述拍攝組件拍攝檢測物料表面的平整度。
因此,如何提供一種靶材拍攝裝置,能夠簡化拍攝過程,適用于不同靶材和攝像機,成為目前迫切需要解決的技術問題。
發明內容
針對現有技術存在的不足,本發明的目的在于提供一種靶材拍攝裝置及其拍攝方法,通過固定組件和調節組件對攝像機的位置和角度進行調整,進一步地結合補光模塊配合,使調節穩定的攝像機對靶材進行全方位旋轉拍攝,具有拍攝效率高、便于操作和靈活性高等特點。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
第一方面,本發明提供了一種靶材拍攝裝置,所述靶材拍攝裝置包括支架,所述支架包括支撐柱,所述支撐柱的頂部設置有載物臺,所述支撐柱上套設有圓筒環,所述圓筒環上設置有第一支撐桿和第二支撐桿,所述第一支撐桿上設置有拍攝模塊,所述第二支撐桿上設置有補光模塊,所述第一支撐桿和第二支撐桿以圓筒環為圓心繞支撐柱轉動。
所述拍攝模塊包括攝像機,所述攝像機設置有調節組件和固定組件,所述調節組件調節攝像機的高度和角度,所述固定組件用于固定攝像機。
本發明通過設置調節組件和固定組件對攝像機的位置進行調節固定,避免人工拍攝過程中拍攝不穩定的問題發生,進一步地,通過設置補光模塊對靶材補光,并配合攝像機和補光模塊繞支撐柱轉動,即繞載物臺上的靶材轉動,實現連續穩定的拍攝,有效減少人力浪費,適用于各種攝像機類型和不同靶材種類,具有實用性強、靈活度高和便于操作等特點。
作為本發明的一個優選技術方案,所述補光模塊包括設置于第二支撐桿上的Y型支撐桿,所述Y型支撐桿的開口結構上活動設置有發光板。
優選地,所述發光板的兩側均設置有轉動銷,所述發光板通過所述轉動銷活動設置于所述Y型支撐桿上。
作為本發明的一個優選技術方案,所述調節組件包括設置于所述第一支撐桿上的調節柱,所述調節柱的柱槽內插設有伸縮桿,所述伸縮桿的伸出端連接所述的固定組件。
本發明通過設置伸縮桿結構對攝像機的高度進行調節,使得攝像機拍照的視野更廣,且適合大多數的產品拍照,增加實用性。
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