[發明專利]一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法

在審

• 申請號: 202210342469.8
• 申請日: 2022-04-02
• 公開（公告）號: CN114892238A
• 公開（公告）日: 2022-08-12
• 發明（設計）人: 周根樹;楊慶芬;周凡
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: C25D11/30
• 分類號: C25D11/30
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 賀小停

1.一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)將鎂合金切割成塊體，打磨并拋光，然后清洗干燥得到鎂合金試樣；

2)將鎂合金試樣置于飽和堿性溶液中浸泡并水浴處理，然后清洗干燥得到前處理后鎂合金試樣；

3)將前處理后鎂合金試樣進行微弧氧化處理，然后清洗干燥，即在鎂合金上形成微弧氧化膜層。

2.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，步驟1)中鎂合金采用AZ91D鎂合金；

所述將鎂合金切割成塊體具體為：用線切割將AZ91D鎂合金切割成尺寸為Φ8x6mm的圓柱。

3.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，步驟1)中打磨具體為：依次用150#，400#，1200#，2000#的水砂紙進行打磨；清洗具體為：用丙酮超聲清洗5min，然后用乙醇超聲清洗5min。

4.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，步驟2)中飽和堿性溶液為飽和LiOH溶液、飽和Ca(OH)₂溶液或飽和Mg(OH)₂溶液。

5.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，步驟2)中水浴處理具體為：于25℃下在水浴鍋中恒溫水浴24h。

6.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，步驟3)中電解液采用單組分硅酸鹽系堿性電解液，具體地：在室溫下分別稱取硅酸鈉、氫氧化鉀和氟化鈉，依次溶解在去離子水中，即得到電解液。

7.根據權利要求6所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，所述電解液中硅酸鈉8g/L，氫氧化鉀2g/L，氟化鈉0.5g/L。

8.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，所述微弧氧化處理具體為：將前處理后鎂合金試樣與套絲后的鋁線緊密連接，并固定在電源的正極板上，然后和不銹鋼板置于配制好的電解液中，設置電參數進行微弧氧化處理。

9.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，所述電參數具體為：恒壓模式下正向電壓450V、負向電壓30V、頻率600kHz、占空比10％、處理時間15min。

10.根據權利要求1所述的一種前處理工藝提高鎂合金微弧氧化膜層耐蝕性的方法，其特征在于，步驟3)中清洗具體為：分別用去離子水、無水乙醇超聲清洗。