[發(fā)明專利]化合物氟化硼磷酸銨和氟化硼磷酸銨非線性光學(xué)晶體及制備方法和用途在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210336816.6 | 申請(qǐng)日: | 2022-03-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114604845A | 公開(公告)日: | 2022-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘世烈;程丙良;李子健;張方方 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | C01B25/455 | 分類號(hào): | C01B25/455;C30B9/12;C30B11/14;C30B29/12;G02F1/355 |
| 代理公司: | 烏魯木齊中科新興專利事務(wù)所(普通合伙) 65106 | 代理人: | 張莉 |
| 地址: | 830011 新疆維吾爾*** | 國省代碼: | 新疆;65 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化合物 氟化 磷酸銨 非線性 光學(xué) 晶體 制備 方法 用途 | ||
1.一種化合物氟化硼磷酸銨,其特征在于該化合物的化學(xué)式為(NH4)3B11PO19F3,分子量為565.01,采用固相法制成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物氟化硼磷酸銨制備方法,其特征在于采用固相反應(yīng)法,具體操作按下列步驟進(jìn)行:
按摩爾比NH4∶B∶P∶F=3-7∶12-24∶1-2∶6-12將含NH4化合物為NH4PF6和(NH4)2CO3,或NH4PF6和NH4HCO3,含B化合物為H3BO3或B2O3,含P化合物為NH4PF6,含F(xiàn)化合物為NH4PF6混合均勻,裝入高壓水熱釜或石英管中密封,放到馬弗爐或干燥箱中,以10-20℃/h的速率升溫至380-500℃,恒溫1-5天,然后以0.5-2℃/h的速率降至30℃,打開高壓水熱釜或石英管,即得到化合物(NH4)3B11PO19F3。
3.一種氟化硼磷酸銨非線性光學(xué)晶體,其特征在于該晶體的化學(xué)式為(NH4)3B11PO19F3,分子量為565.01,晶體屬三方晶系,空間群為
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210336816.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 非線性晶體溫度控制裝置
- 非線性晶體溫度控制裝置
- 非線性項(xiàng)的選擇裝置及方法、辨識(shí)系統(tǒng)及補(bǔ)償系統(tǒng)
- 一種寬帶射頻功率放大器記憶非線性模型及建模方法
- 非線性子系統(tǒng)基于作為非線性模型后跟線性模型的級(jí)聯(lián)的模型的自適應(yīng)預(yù)失真
- 一種適用于不確定性系統(tǒng)的非線性度量方法
- 基于分部分段多項(xiàng)式近似的數(shù)字預(yù)失真和后失真
- 數(shù)字調(diào)制器非線性校正
- 用于多非線性參數(shù)耦合系統(tǒng)的參數(shù)辨識(shí)方法及其辨識(shí)設(shè)備
- 一種激光非線性晶體溫控裝置





