[發明專利]一種感光干膜

在審

• 申請號: 202210331813.3
• 申請日: 2022-03-30
• 公開（公告）號: CN114706274A
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發明（設計）人: 林曉英;鮑亞童;童榮柏;李春銳;徐文前
• 申請（專利權）人: 杭州福斯特電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/115
• 分類號: G03F7/115;G03F7/11
• 代理公司: 杭州鈐韜知識產權代理事務所(普通合伙) 33329
• 代理人: 安佳偉;趙杰香

1.一種感光干膜，其特征在于，所述感光干膜包括感光層和位于感光層一側的基材層，所述基材層包含與所述感光層接觸的第一表面和與第一表面相對的第二表面，所述第一表面和/或第二表面具有不平滑結構；所述不平滑結構包括凸起和/或凹陷，所述凸起和/或凹陷的形狀包括無規形狀或者規則的圓錐狀、圓柱狀、圓臺狀、棱錐狀、棱柱狀、棱臺狀中的一種或多種。

2.根據權利要求1所述的感光干膜，其特征在于，所述凸起和/或凹陷的間距R₁為20-50μm，凸起和/或凹陷的寬度或直徑R₂為20-40μm。

3.根據權利要求2所述的感光干膜，其特征在于，所述凸起和/或凹陷的R₁和R₂的關系滿足0.1μm≤R₁-R₂≤20μm。

4.根據權利要求1所述的感光干膜，其特征在于，所述不平滑結構通過物理打磨、化學腐蝕、化學噴涂、納米壓印、等離子刻蝕或3D打印的方式形成。

5.根據權利要求1所述的感光干膜，其特征在于，所述第一表面的粗糙度Rz為0.1-20μm。

6.根據權利要求5所述的感光干膜，其特征在于，所述基材層的第二表面的粗糙度Rz較第一表面的粗糙度Rz低0-20μm。

7.根據權利要求1所述的感光干膜，其特征在于，所述感光干膜還包括位于感光層另一側的保護層。

8.根據權利要求7所述的感光干膜，其特征在于，所述基材層和所述保護層選自PET層、PE層或PP層中的一種或多種，厚度為30-75μm。

9.根據權利要求1所述的感光干膜，其特征在于，所述感光干膜在50-90℃、4-10kgf的壓力下經熱輥合或真空壓合方式將所述感光層遠離所述基材層的表面與電路板貼合后，去除基材層，以ASTM D523方法測得所述感光層遠離電路板的表面的光澤度小于30GU。