[發(fā)明專利]一種去除砷化鎵芯片封裝的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210329753.1 | 申請(qǐng)日: | 2022-03-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114864437A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-08-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尚躍;陳建;賈麗娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海聚躍檢測(cè)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海金盛協(xié)力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31242 | 代理人: | 嚴(yán)帥 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區(qū)中*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 去除 砷化鎵 芯片 封裝 方法 | ||
1.一種去除砷化鎵芯片封裝的方法,其特征在于,該方法采用濃硫酸與乙酸混合液腐蝕去除砷化鎵芯片的環(huán)氧樹脂封裝,從而保留砷化鎵襯底。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,所述采用濃硫酸與乙酸的混合液腐蝕去除砷化鎵芯片的環(huán)氧樹脂封裝體,包括:將濃硫酸與乙酸以體積比3:1混合進(jìn)行加熱,通過(guò)控制所述混合液的溫度來(lái)控制對(duì)砷化鎵芯片環(huán)氧樹脂封裝的腐蝕速度。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,對(duì)所述混合液進(jìn)行加熱,通過(guò)控制所述濃硫酸與乙酸混合液的溫度來(lái)控制對(duì)砷化鎵芯片環(huán)氧樹脂封裝的腐蝕速度,具體為:先將所述混合液加熱至沸騰后停止加熱、并將待去除環(huán)氧樹脂封裝的砷化鎵封裝投入到所述濃硫酸中完全浸沒(méi),經(jīng)過(guò)預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)、待所述砷化鎵芯片的環(huán)氧樹脂封裝充分腐蝕后將其與所述混合液分離。
4.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述濃硫酸的質(zhì)量份數(shù)為80%,所述預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)為30秒。
5.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,在將所述砷化鎵芯片與所述混合液分離,使用酒精對(duì)所述砷化鎵芯片進(jìn)行清洗。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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