[發明專利]接合劑層形成用組合物、層疊體、層疊體的制造方法及層疊體的處理方法

在審

• 申請號: 202210329346.0
• 申請日: 2022-03-30
• 公開（公告）號: CN115141552A
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發明（設計）人: 內田一幸;佐藤惠
• 申請（專利權）人: 日鐵化學材料株式會社
• 主分類號: C09J4/02
• 分類號: C09J4/02;C09J4/06;G03F7/004;G03F7/027;B32B17/00;B32B15/00;B32B15/04;B32B17/06;B32B17/10;B32B27/30;B32B27/06;B32B9/00;B32B9/04;B32B15/082
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉

1.一種接合劑層形成用組合物，為用以形成接合劑層的組合物，該接合劑層是接合支撐體與被粘物，且可通過照射光而使所述支撐體與所述被粘物分離，且該組合物包含

(A)含不飽和基的聚合性化合物、

(B)紫外線吸收劑、及

(F)溶劑；

其中，相對于固體成分的全部質量，所述(B)紫外線吸收劑的含量為10質量％以上80質量％以下。

2.根據權利要求1所述的接合劑層形成用組合物，其中，所述(A)含不飽和基的聚合性化合物包含(A1)堿可溶性樹脂，且

所述(A1)成分是重均分子量為1000以上40000以下的樹脂。

3.根據權利要求1或2所述的接合劑層形成用組合物，其中，

所述(A1)堿可溶性樹脂是下述通式(1)所示的樹脂，

式(1)中，Ar獨立地為碳數為6以上14以下的芳香族烴基，構成Ar的氫原子的一部分可被選自由碳數為1以上10以下的烷基、碳數6以上10以下的芳基或芳基烷基、碳數3以上10以下的環烷基或環烷基烷基、碳數1以上5以下的烷氧基、及鹵素基所成組中的取代基取代，R₁分別獨立地為碳數2以上4以下的亞烷基，l分別獨立地為0以上3以下的數值，G分別獨立地為(甲基)丙烯酰基、或者下述通式(2)或下述通式(3)所示的取代基，Y為4價的羧酸殘基；Z分別獨立地為氫原子或下述通式(4)所示的取代基，Z的至少1個為下述通式(4)所示的取代基；n是平均值為1以上20以下的數值；

式(2)及(3)中，R₂為氫原子或甲基，R₃為碳數2以上10以下的亞烷基或烷基亞芳基，R₄為碳數2以上20以下的飽和或不飽和的烴基，p為0以上10以下的數值；

式(4)中，W為2價或3價的羧酸殘基，m為1或2的數值。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的接合劑層形成用組合物，其中，所述(A)含不飽和基的聚合性化合物包含(A2)不具有堿可溶性基的含不飽和基的聚合性化合物。

5.根據權利要求4所述的接合劑層形成用組合物，其中，所述(A2)不具有堿可溶性基的含不飽和基的聚合性化合物包含經環氧烷改性或內酯改性的具有(甲基)丙烯酰基的化合物。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的接合劑層形成用組合物，其中，所述(B)紫外線吸收劑的波長355nm的光的吸光度為0.10以上。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的接合劑層形成用組合物，其中，所述(B)紫外線吸收劑是重均分子量(Mw)為1000以上的化合物。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的接合劑層形成用組合物，其中，所述(B)紫外線吸收劑為具有苯并三唑結構的化合物。

9.一種層疊體，具有

支撐體、

被粘物、及

接合劑層，該接合劑層是配置于所述支撐體與所述被粘物之間的包含權利要求1至8中任一項所述的接合劑層形成用組合物的硬化物。

10.根據權利要求9所述的層疊體，其中，所述支撐體是350nm以上450nm以下的波長的光的穿透率為70％以上的支撐體。

11.一種層疊體的制造方法，包含：

對支撐體及被粘物的至少一者的表面，賦予權利要求1至8中任一項所述的接合劑層形成用組合物而形成接合劑層的步驟；

隔著所述所形成的接合劑層，使所述支撐體與所述被粘物接合的步驟。

12.一種層疊體的處理方法，具有：

準備權利要求9或10所述的層疊體的步驟；

對所述接合劑層照射光而使所述支撐體與所述被粘物分離的步驟。