[發(fā)明專利]溫度探測器的畸變校正方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210321364.4 | 申請日: | 2022-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN114689194A | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 熊雯;張帆;邱鵬;葉盛;楊洲 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢鋼鐵有限公司 |
| 主分類號: | G01K7/00 | 分類號: | G01K7/00;G01K15/00;G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京眾達(dá)德權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570 | 代理人: | 劉瑞越 |
| 地址: | 430080 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 溫度 探測器 畸變 校正 方法 裝置 設(shè)備 介質(zhì) | ||
1.一種面陣CCD溫度探測器的畸變校正方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取面陣CCD溫度探測器中每個像元的像元信息、材料量子效率和電荷變化量因子;
根據(jù)所述每個像元的像元信息、材料量子效率和電荷變化量因子,建立實(shí)際灰度矩陣;
對所述實(shí)際灰度矩陣進(jìn)行增益和偏移校正,得到校正后的目標(biāo)灰度矩陣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述實(shí)際灰度矩陣進(jìn)行增益和偏移校正,得到校正后的目標(biāo)灰度矩陣包括:
根據(jù)所述面陣CCD溫度探測器的非均勻性響應(yīng)校正算法,建立預(yù)配的校正灰度矩陣;
根據(jù)所述實(shí)際灰度矩陣和所述校正灰度矩陣之間的關(guān)聯(lián)關(guān)系,對所述實(shí)際灰度矩陣進(jìn)行增益系數(shù)和偏移系數(shù)的校正,得到校正后的所述目標(biāo)灰度矩陣。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述實(shí)際灰度矩陣為:H=RE+γ,所述校正灰度矩陣為:G=KE+σ;其中,
H為所述實(shí)際灰度矩陣,G為所述校正灰度矩陣,R和K為對應(yīng)灰度矩陣中的增益系數(shù)矩陣,γ和σ為對應(yīng)灰度矩陣中的偏移系數(shù)矩陣。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述關(guān)聯(lián)關(guān)系為:Gij=AijHij+Bij,其中(i,j)表示所述像元的行列編號,Aij和Bij均為像元(i,j)的系數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述目標(biāo)灰度矩陣為:
其中,和為第一光照下像元(i,j)的灰度值,和為第二光照下像元(i,j)的灰度值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項所述的方法,其特征在于,所述像元信息包括像元和所述像元的像元面積。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,所述像元是根據(jù)所述面陣CCD溫度探測器的曝光時間、電子電荷量、入射光頻率和普朗克常數(shù)確定的。
8.一種面陣CCD溫度探測器的畸變校正裝置,其特征在于,所述裝置包括:獲取模塊、建立模塊和校正模塊,其中:
所述獲取模塊,用于獲取面陣CCD溫度探測器中每個像元的像元信息、材料量子效率和電荷變化量因子;
所述建立模塊,用于根據(jù)所述每個像元的像元信息、材料量子效率和電荷變化量因子,建立實(shí)際灰度矩陣;
所述校正模塊,用于對所述實(shí)際灰度矩陣進(jìn)行增益和偏移校正,得到校正后的目標(biāo)灰度矩陣。
9.一種終端設(shè)備,其特征在于,所述終端設(shè)備包括:處理器、存儲器、通信接口和總線;所述處理器、所述存儲器和所述通信接口通過所述總線連接并完成相互間的通信;所述存儲器存儲可執(zhí)行程序代碼;所述處理器通過讀取所述存儲器中存儲的可執(zhí)行程序代碼來運(yùn)行與所述可執(zhí)行程序代碼對應(yīng)的程序,以用于執(zhí)行如上權(quán)利要求1-7中任一項所述的面陣CCD溫度探測器的畸變校正方法。
10.一種計算機(jī)可讀存儲介質(zhì),其特征在于,所述計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)存儲有程序,當(dāng)所述程序運(yùn)行在終端設(shè)備時執(zhí)行如上權(quán)利要求1-7中任一項所述的面陣CCD溫度探測器的畸變校正方法。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢鋼鐵有限公司,未經(jīng)武漢鋼鐵有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210321364.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





