[發明專利]一種紫外探測器及其制備方法和應用在審
| 申請號: | 202210317233.9 | 申請日: | 2022-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN114744071A | 公開(公告)日: | 2022-07-12 |
| 發明(設計)人: | 李國強;唐鑫;王文樑;鄭昱林;曹犇 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | H01L31/109 | 分類號: | H01L31/109;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 齊鍵 |
| 地址: | 510641 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紫外 探測器 及其 制備 方法 應用 | ||
本發明公開了一種紫外探測器及其制備方法和應用。本發明的紫外探測器的組成包括依次層疊設置的襯底、GaN外延層、AlGaN勢壘層和源?漏電極層,AlGaN勢壘層中設置有多個鎂摻雜AlxGa1?xN區域,x取0.01~0.5。本發明的紫外探測器的制備方法包括以下步驟:1)在襯底上依次外延生長GaN外延層和AlGaN勢壘層;2)在AlGaN勢壘層中形成鎂摻雜AlxGa1?xN區域;3)在AlGaN勢壘層上沉積源?漏電極層,即得紫外探測器。本發明的紫外探測器的暗電流小、靈敏度高、響應速度快,且其制備過程簡單、無有害副產物產生,適合進行大規模量產。
技術領域
本發明涉及光電探測器技術領域,具體涉及一種紫外探測器及其制備方法和應用。
背景技術
近些年來,隨著紫外光電探測器被廣泛應用在導彈預警、航空航天、疾病診斷等軍事和民生領域,紫外探測技術發展迅速。然而,市場上主流的光電倍增管和硅基光電二極管存在體積大、易損壞、效率低等缺點,已經難以滿足日益增長的實際應用需求。III族氮化物(例如:GaN)具有優異的物理和化學性能,被認為是制備紫外探測器的理想材料。目前,GaN基紫外探測器主要包括光伏型探測器和光電導型探測器這兩類,前者存在摻雜工藝難度大、成本高等問題,后者存在暗電流較大、響應速度較慢等問題,均還遠遠沒有達到可以實際商業應用的程度。
因此,開發一種高靈敏度、快速響應、制備工藝簡單、成本低的紫外探測器具有十分重要的意義。
發明內容
本發明的目的在于提供一種紫外探測器及其制備方法和應用。
本發明所采取的技術方案是:
一種紫外探測器,其組成包括依次層疊設置的襯底、GaN外延層、AlGaN勢壘層和源-漏電極層;所述AlGaN勢壘層中設置有多個鎂摻雜AlxGa1-xN區域,x取0.01~0.5。
優選的,所述襯底選自硅襯底、藍寶石襯底、碳化硅襯底中的一種。
優選的,所述GaN外延層的厚度為400nm~600nm。
優選的,所述AlGaN勢壘層的厚度為80nm~150nm。
優選的,所述AlGaN勢壘層中的多個鎂摻雜AlxGa1-xN區域按照間距5μm~10μm進行設置。多個鎂摻雜AlxGa1-xN區域呈現叉指型分布,有利于提高器件的響應度,加快器件響應速度(相鄰鎂摻雜AlxGa1-xN區域之間的間隔越窄,器件的性能提升越明顯,但若寬度太窄,鎂摻雜AlxGa1-xN區域則容易融合)。
優選的,所述鎂摻雜AlxGa1-xN區域在AlGaN勢壘層中的嵌入深度為30nm~50nm。
優選的,所述源-漏電極層的組成包括源電極和漏電極。
優選的,所述源電極和漏電極均是由Ti、Al、Ni和Au四層金屬層組成。
上述紫外探測器的制備方法包括以下步驟:
1)在襯底上依次外延生長GaN外延層和AlGaN勢壘層;
2)在AlGaN勢壘層上沉積叉指形狀的鎂金屬層,再進行退火,形成鎂摻雜AlxGa1-xN區域,再通過酸溶液清洗除去AlGaN勢壘層表面殘余的金屬鎂;
3)在AlGaN勢壘層上沉積源電極和漏電極,再進行退火,形成源-漏電極層,即得紫外探測器。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





