[發(fā)明專利]一種低反特清中性色三銀低輻射鍍膜玻璃及制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210315961.6
• 申請日: 2022-03-29
• 公開（公告）號: CN114560636A
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 熊建;宋宇;江維;徐敏;鄭志強(qiáng)
• 申請（專利權(quán)）人: 咸寧南玻節(jié)能玻璃有限公司;中國南玻集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 咸寧鴻信專利代理事務(wù)所(普通合伙) 42249
• 代理人: 劉喜

本發(fā)明提供了一種低反特清中性色三銀低輻射鍍膜玻璃及制備方法，屬于磁控濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域；一種低反特清中性色三銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片層和鍍膜層，鍍膜層自玻璃基片層向外依次復(fù)合有十六個(gè)膜層，其中第一層為第一電介質(zhì)層，第二層為第一低輻射層，第三層為第一阻擋保護(hù)層，第四層、第五層和第六層組成第二電介質(zhì)層，第七層為第二低輻射層，第八層為第三低輻射層,第九層為第二阻擋保護(hù)層，第十層、第十一層和第十二層組成第三電介質(zhì)層，第十三層為第四低輻射層,第十四層為第二阻擋保護(hù)層，第十五層為第三電介質(zhì)層，第十六層為抗劃傷耐摩擦層。本發(fā)明玻璃呈中性色，且具有光透性優(yōu)良等優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于磁控濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種低反特清中性色三銀低輻射鍍膜玻璃及制備方法。

背景技術(shù)

作為一種優(yōu)良的建筑材料，玻璃由于其良好的通透性，具有透光防風(fēng)雪的功能，被廣泛應(yīng)用于建筑上。隨著現(xiàn)代科技水平的發(fā)展，玻璃被賦予各種新的內(nèi)涵，其中l(wèi)ow-E玻璃以其美觀大方的顏色、較好的質(zhì)感以及優(yōu)良的節(jié)能特性，在建筑幕墻領(lǐng)域已受到廣泛應(yīng)用。Low-E玻璃又稱低輻射玻璃，常使用磁控濺射法在玻璃基片表面沉積出納米膜層，進(jìn)而改變玻璃的光學(xué)、電學(xué)、機(jī)械和化學(xué)等方面的性能，達(dá)到裝飾、節(jié)能、環(huán)保等目的。

作為節(jié)能建筑材料，low-E玻璃的節(jié)能特性與普通玻璃及熱反射鍍膜玻璃相比，Low-E玻璃對遠(yuǎn)紅外輻射具有極高的反射率?？杀３质覂?nèi)溫度穩(wěn)定，減少建筑加熱或制冷的能耗，起到了非常優(yōu)秀的節(jié)能降耗作用。而特清Low-E玻璃在保障絕佳的保溫性能的同時(shí)具有較高的可見光透射率，所以采光效果好，適用于北方寒冷地區(qū)和部分地域的高通透性建筑，突出自然采光效果?，F(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)：

1)現(xiàn)有高透三銀低輻射鍍膜玻璃透過顏色仍難以滿足客戶需求。

2)現(xiàn)有高透三銀膜系普遍存在耐氧化性差，單片保存時(shí)間短。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有的技術(shù)存在的上述問題，提供一種低反特清中性色三銀低輻射鍍膜玻璃及制備方法，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是如何通過鍍膜層排列及鍍膜工藝的優(yōu)化設(shè)計(jì)，使整個(gè)鍍膜玻璃呈中性色，且具有良好的光透性。

本發(fā)明的目的可通過下列技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：一種低反特清中性色三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，本鍍膜玻璃包括玻璃基片層和鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復(fù)合有十六個(gè)膜層，其中第一層為第一電介質(zhì)層，第二層為第一低輻射層，第三層為第一阻擋保護(hù)層，第四層、第五層和第六層組成第二電介質(zhì)層，第七層為第二低輻射層，第八層為第三低輻射層,第九層為第二阻擋保護(hù)層，第十層、第十一層和第十二層組成第三電介質(zhì)層，第十三層為第四低輻射層,第十四層為第二阻擋保護(hù)層，第十五層為第三電介質(zhì)層，第十六層為抗劃傷耐摩擦層。

在上述一種低反特清中性色三銀低輻射鍍膜玻璃，所述第一層為ZnAlO_x層，鍍膜厚度為5到20納米；所述第二層為Ag層,鍍膜厚度為3到10納米；所述第三層為AZO層，鍍膜厚度為5到8納米；所述第四層為SiN_x層，鍍膜厚度為30到45納米；所述第五層為ZnSnO_x層,鍍膜厚度為15到20納米；所述第六層為ZnAlO_x層,鍍膜厚度為15到20納米；所述第七層為Ag層,鍍膜厚度為2到10納米；所述第八層為Cu層，鍍膜厚度為2到10納米；所述第九層為AZO層，鍍膜厚度為5到8納米；所述第十層為SiN_x層，鍍膜厚度為30到50納米；所述第十一層為ZnSnO_x層，鍍膜厚度為20到30納米；所述第十二層為ZnAlO_x層，鍍膜厚度為15到25納米；所述第十三層為Ag層，鍍膜厚度為4到10納米；所述第十四層為AZO層，鍍膜厚度為5到8納米；所述第十五層為ZnAlO_x層，鍍膜厚度為30到50納米；所述第十六層為ZrO_x層，鍍膜厚度為5到10納米。