[發(fā)明專利]基于鼻黏膜光電容積描記法的光衰指數(shù)預測系統(tǒng)及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210312293.1 | 申請日: | 2022-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN115813337A | 公開(公告)日: | 2023-03-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 顧斌;朱啟文;李益飛;譚立容;嵇亮;陳婷婷 | 申請(專利權(quán))人: | 南京信息職業(yè)技術(shù)學院 |
| 主分類號: | A61B5/00 | 分類號: | A61B5/00;G06F17/10 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224 | 代理人: | 鄧東旭 |
| 地址: | 210023 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 黏膜 光電 容積 記法 指數(shù) 預測 系統(tǒng) 方法 | ||
1.基于鼻黏膜光電容積描記法的光衰指數(shù)預測方法,其特征是,包括:
獲取用于預測的數(shù)據(jù)樣本集;
對用于預測的數(shù)據(jù)樣本集的部分數(shù)據(jù)進行滑動平均濾波,得到濾波輸出數(shù)據(jù)樣本集;
基于濾波輸出數(shù)據(jù)樣本集獲取擬合函數(shù)后,計算擬合函數(shù)和濾波輸出數(shù)據(jù)樣本集各樣本之間誤差值的平方和;
以所述誤差值的平方和最小化為目標,計算擬合函數(shù)各參數(shù)的最優(yōu)解;
基于所述擬合函數(shù)各參數(shù)的最優(yōu)解計算光衰指數(shù)穩(wěn)態(tài)值的預測值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鼻黏膜光電容積描記法的光衰指數(shù)預測方法,其特征是,所述用于預測的數(shù)據(jù)樣本集為:
D1={ΔE(tm):m=0…MN}
其中,ΔE(t)表示光衰指數(shù)隨時間t的變化函數(shù),tm為第m次采樣時刻,N為用于檢驗預測精度的數(shù)據(jù)樣本集D中樣本序號的最大者,僅在需要檢驗預測精度時才需要將數(shù)據(jù)樣本集從D1擴大至D,即:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鼻黏膜光電容積描記法的光衰指數(shù)預測方法,其特征是,所述濾波輸出數(shù)據(jù)樣本集為:
DMA={ΔEMA(tn):n=u…v,u0,vM}=filterMA(D1)
其中,DMA為濾波輸出的數(shù)據(jù)集,tn為第n采樣時刻,filterMA(·)表示滑動平均濾波算子,選取濾波輸出中的序號自u至v的一部分,ΔEMA(tn)表示filterMA(·)在時間點tn輸出的樣本。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于鼻黏膜光電容積描記法的光衰指數(shù)預測方法,其特征是,構(gòu)建如下形式的擬合函數(shù):
其中,t表示時間,a、b和c為擬合函數(shù)中的參數(shù),exp(.)表示指數(shù)函數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于鼻黏膜光電容積描記法的光衰指數(shù)預測方法,其特征是,所述擬合函數(shù)和濾波輸出數(shù)據(jù)樣本集各樣本之間誤差值的平方和采用如下形式:
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