[發明專利]光學器件制作方法在審
| 申請號: | 202210311237.6 | 申請日: | 2022-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN114624843A | 公開(公告)日: | 2022-06-14 |
| 發明(設計)人: | 談順毅 | 申請(專利權)人: | 上?;巯k娮涌萍加邢薰?/a> |
| 主分類號: | G02B7/02 | 分類號: | G02B7/02 |
| 代理公司: | 上海段和段律師事務所 31334 | 代理人: | 李源 |
| 地址: | 200082 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 器件 制作方法 | ||
1.一種光學器件制作方法,其特征在于:包括至少一個第一光學器件(1)和至少一個第二光學器件(2),通過膠合或填充的方式制作成整體,所述制作方法包括曝光第二光學器件(2)區域或部分第二器件(2)區域,遮蔽第一光學器件(1)區域或部分第一器件(1)區域。
2.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述制作方法,所述第二器件(2)通過使用液態材料填充物填充第一器件(1)部分區域,固化填充材料后制成包含第二器件(2)的完整器件。
3.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述制作方法,通過光學掩膜遮蔽所述區域。
4.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述制作方法還包括曝光過程中在光學器件上施加作用力。
5.根據權利要求4所述的光學器件制作方法,其特征在于,施加作用力的所述方法包括將掩膜體(3)一個表面制作成與成型后光學器件一個表面面型一致,將所述掩膜施加一定的力貼合在所述表面上進行曝光。
6.根據權利要求3所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述掩膜體(3)采用不會被膠材或固化的材料粘貼的材料制成。
7.根據權利要求4所述的光學器件制作方法,其特征在于,施加作用力的所述方法包括將掩膜體(3)一個表面制作成與成型后光學器件一個表面面型一致,在所述掩膜體(3)和所述第一器件(1)和/或第二器件(2)之間還有一層不會被膠材或固化后的材料粘貼的材料,將所述掩膜體(3)施加一定的力貼合在所述不會被膠材或固化后的材料粘貼的材料上,所述材料貼合在器件表面上進行曝光。
8.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述制作方法還包括,曝光后清洗第一器件(1)和/或第二器件(2)和/或清洗未曝光區域。
9.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,曝光之后再拋光或研磨第一器件(1)和/或第二器件(2)表面。
10.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,對于所述第一器件(1)和/或第二器件(2)進行再次固化。
11.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述第一器件(1)和/或第二器件(2)表面制作有對位標志,通過對位標志對位后再對器件進行曝光。
12.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述第一器件(1)和/或第二器件(2)具有多層結構。
13.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述第一器件(1)和/或第二器件(2)制作有導流槽。
14.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,分多次曝光第一器件(1)和/或第二器件(2)不同區域。
15.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述第一器件(1)和/或第二器件(2)至少部分交界面上鍍有反射或部分反射,和/或吸收或部分吸收性質的膜層。
16.根據權利要求1所述的光學器件制作方法,其特征在于,所述第二器件(2)或部分第二器件(2)與第一器件(1)裝配時各自溫度不同。
17.一種光學器件制作方法,其特征在于:至少一個第一光學器件和形狀與第二光學器件吻合的制具或模具,先制作出第一光學器件,將其固定在所述制具或模具之中,填充液態光學材料形成第二光學器件。
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