[發(fā)明專利]基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量裝置及測(cè)量方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210307397.3 | 申請(qǐng)日: | 2022-03-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114659648A | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹華保;黃沛;付玉喜;袁浩;王向林;王虎山;劉柯陽;林華;王屹山;趙衛(wèi) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G01J11/00 | 分類號(hào): | G01J11/00;G01J9/00 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 趙逸宸 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 倍頻 調(diào)制 采樣 激光 脈沖 特性 測(cè)量 裝置 測(cè)量方法 | ||
1.一種基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量裝置,其特征在于:包括激光器(1)和在激光器(1)的出射光路上設(shè)置的第一分束片(2),第一分束片(2)將出射激光分為兩路,分別為參考光和待測(cè)光;
在參考光的光路上依次設(shè)有用于調(diào)節(jié)參考光光強(qiáng)的第二分束片(3)、用于折轉(zhuǎn)光路的第一反射鏡(4)、凹面銀鏡(5)、用于三倍頻的介質(zhì)片(6)和CCD相機(jī)(8);所述參考光依次通過第二分束片(3)、第一反射鏡(4)、凹面銀鏡(5)及介質(zhì)片(6)后形成第一三倍頻光,入射至CCD相機(jī)(8);
在待測(cè)光的光路上設(shè)有第三分束片(11),將待測(cè)光分為反射的基頻光與透射的信號(hào)光;基頻光的光路上依次設(shè)有第二反射鏡(10)和用于合束的尖劈對(duì)(9);信號(hào)光的光路上設(shè)有用于調(diào)節(jié)信號(hào)光光程的延遲線(14),經(jīng)過延遲線(14)的信號(hào)光入射至尖劈對(duì)(9);
所述基頻光與信號(hào)光經(jīng)尖劈對(duì)(9)合束后入射至凹面銀鏡(5),反射后入射至介質(zhì)片(6),形成第二三倍頻光,入射至CCD相機(jī)(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量裝置,其特征在于:
還包括設(shè)置在介質(zhì)片(6)和CCD相機(jī)(8)之間的濾波片(7),用于去除基頻光與信號(hào)光,保留三倍頻光。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量裝置,其特征在于:
所述延遲線(14)安裝在光學(xué)平臺(tái)上的壓電陶瓷上,延遲線(14)包括垂直設(shè)置的第三反射鏡(12)和第四反射鏡(13)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量裝置,其特征在于:
所述第一分束片(2)、第二分束片(3)和第三分束片(11)的分光比均為1:1。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量裝置,其特征在于:
所述第一反射鏡(4)、第二反射鏡(10)、第三反射鏡(12)和第四反射鏡(13)均為高反鏡,反射率大于99%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量裝置,其特征在于:
所述介質(zhì)片(6)為30μm厚的片狀,其材料為熔石英;
所述凹面銀鏡(5)的焦距為100mm;
所述CCD相機(jī)(8)為硅基的可見光相機(jī)。
7.一種基于三倍頻調(diào)制采樣的激光脈沖特性測(cè)量方法,利用權(quán)利要求1-6任一所述的激光脈沖特性測(cè)量裝置,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1)激光器(1)發(fā)出激光,經(jīng)過第一分束片(2)后分為反射光和透射光;其中,反射光作為參考光,透射光為待測(cè)光;
步驟2)參考光依次經(jīng)過入射第二分束片(3)以及第一反射鏡(4),反射后入射至凹面銀鏡(5)上;參考光經(jīng)凹面銀鏡(5)聚焦至介質(zhì)片(6)產(chǎn)生三倍頻光,記為第一三倍頻光,第一三倍頻光入射至CCD相機(jī)(8)成像,記為第一三倍頻光斑;
待測(cè)光通過第三分束片(11)分為基頻光與信號(hào)光,信號(hào)光為透射光,基頻光為反射光;基頻光入射至第二反射鏡(10),信號(hào)光入射至延時(shí)線(14),隨后同時(shí)入射至尖劈對(duì)(9)上,尖劈對(duì)(9)將基頻光與信號(hào)光進(jìn)行合束,合束后的基頻光與信號(hào)光經(jīng)凹面銀鏡(5)后再聚焦至介質(zhì)片(6)產(chǎn)生三倍頻光,記為第二三倍頻光;第二三倍頻光入射至CDD相機(jī)(8)成像,記為第二三倍頻光斑;
步驟3)通過移動(dòng)延時(shí)線(14),對(duì)基頻光與信號(hào)光在不同延時(shí)下的不同重合度的第二三倍頻光斑進(jìn)行采樣;
步驟4)將步驟3)得到的不同重合度的第二三倍頻光斑強(qiáng)度與第一三倍頻光斑強(qiáng)度進(jìn)行差分,獲得在不同延時(shí)下的三倍頻光強(qiáng)度調(diào)制曲線;
步驟5)通過對(duì)三倍頻光強(qiáng)度調(diào)制曲線進(jìn)行反演計(jì)算,獲得待測(cè)激光的波長、相位和脈沖寬度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210307397.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 發(fā)射電路裝置
- 基帶調(diào)制方法、系統(tǒng)和線性調(diào)制裝置
- 用于使用低階調(diào)制器來實(shí)施高階調(diào)制方案的方法和裝置
- 調(diào)制電路和方法
- 載波調(diào)制方法、調(diào)制裝置及調(diào)制系統(tǒng)
- 大功率交流傳動(dòng)系統(tǒng)的SVPWM同步調(diào)制過調(diào)制方法
- 調(diào)制符號(hào)間相位交錯(cuò)BPSK調(diào)制方法
- 無線調(diào)制信號(hào)調(diào)制質(zhì)量參數(shù)校準(zhǔn)設(shè)備
- 一種電機(jī)控制器的過調(diào)制方法及系統(tǒng)
- 在多調(diào)制支持通信系統(tǒng)中解調(diào)信息的方法





