[發(fā)明專利]一種基于散射識(shí)別的錐束計(jì)算機(jī)斷層掃描成像方法與系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210299797.4 | 申請(qǐng)日: | 2022-03-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114399564B | 公開(公告)日: | 2022-08-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小野光;吉振寧;郭詠梅;郭詠陽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 康達(dá)洲際醫(yī)療器械有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T11/00 | 分類號(hào): | G06T11/00;G01N23/046 |
| 代理公司: | 寧波市鄞州盛飛專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33243 | 代理人: | 龍洋 |
| 地址: | 315800 浙江省寧*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 散射 識(shí)別 計(jì)算機(jī) 斷層 掃描 成像 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種基于散射識(shí)別的錐束計(jì)算機(jī)斷層掃描成像方法,其特征在于,通過探測(cè)器接收發(fā)射器發(fā)射的原始射線,所述探測(cè)器包括依次設(shè)置的頂部探測(cè)器、準(zhǔn)直器和基層探測(cè)器,包括步驟:
S1:控制發(fā)射器向目標(biāo)組織發(fā)射預(yù)設(shè)頻譜寬度的原始射線;
S2:通過頂部探測(cè)器獲取穿透目標(biāo)組織后原始射線在各像素點(diǎn)處的第一射線強(qiáng)度;
S3:通過基層探測(cè)器獲取經(jīng)由準(zhǔn)直器散射衰減后原始射線在各像素點(diǎn)處的第二射線強(qiáng)度;
S4:通過對(duì)應(yīng)像素點(diǎn)處的第一射線強(qiáng)度和第二射線強(qiáng)度,估算原始射線穿透目標(biāo)組織后的散射射線強(qiáng)度;
S5:基于估算的散射射線強(qiáng)度,通過第二射線強(qiáng)度估算剔除散射射線后的初級(jí)射線強(qiáng)度;
S6:根據(jù)各像素點(diǎn)處的初級(jí)射線強(qiáng)度構(gòu)建目標(biāo)組織的斷層掃描成像;
所述S4步驟中,散射射線強(qiáng)度的估算表示為如下公式:
式中,Sest為估算的散射射線強(qiáng)度,Iceil為第一射線強(qiáng)度,Ibase為第二射線強(qiáng)度,A為初級(jí)射線在頂部探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例,B為散射射線在頂部探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例;
所述S5步驟中,初級(jí)射線強(qiáng)度的估算表示為如下公式:
式中,Pest為估算的初級(jí)射線強(qiáng)度,為初級(jí)射線在基層探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例,為散射射線在基層探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例。
2.如權(quán)利要求1所述的一種基于散射識(shí)別的錐束計(jì)算機(jī)斷層掃描成像方法,其特征在于,所述頂部探測(cè)器對(duì)射線低阻,基層探測(cè)器對(duì)射線高阻。
3.如權(quán)利要求1所述的一種基于散射識(shí)別的錐束計(jì)算機(jī)斷層掃描成像方法,其特征在于,所述頂部探測(cè)器對(duì)于射線強(qiáng)度具有位置靈敏度。
4.一種基于散射識(shí)別的錐束計(jì)算機(jī)斷層掃描成像系統(tǒng),其特征在于,包括:
發(fā)射器,用于向目標(biāo)組織發(fā)射預(yù)設(shè)頻譜寬度的原始射線;
頂部探測(cè)器,用于獲取穿透目標(biāo)組織后原始射線在各像素點(diǎn)處的第一射線強(qiáng)度;
準(zhǔn)直器,用于衰減原始射線穿透過目標(biāo)組織和頂部探測(cè)器后的散射射線;
基層探測(cè)器,用于獲取經(jīng)由準(zhǔn)直器散射衰減后原始射線在各像素點(diǎn)處的第二射線強(qiáng)度;
數(shù)據(jù)處理單元,用于根據(jù)對(duì)應(yīng)像素點(diǎn)處的第一射線強(qiáng)度和第二射線強(qiáng)度,估算原始射線穿透目標(biāo)組織后的散射射線強(qiáng)度,并基于估算的散射射線強(qiáng)度,通過第二射線強(qiáng)度估算剔除散射射線后的初級(jí)射線強(qiáng)度;
成像處理單元,用于根據(jù)各像素點(diǎn)處的初級(jí)射線強(qiáng)度構(gòu)建目標(biāo)組織的斷層掃描成像;
所述頂部探測(cè)器、準(zhǔn)直器和基層探測(cè)器依次連接;
所述數(shù)據(jù)處理單元中,散射射線強(qiáng)度的估算表示為如下公式:
式中,Sest為散射射線強(qiáng)度,Iceil為第一射線強(qiáng)度,Ibase為第二射線強(qiáng)度,A為初級(jí)射線在頂部探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例,B為散射射線在頂部探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例;
所述數(shù)據(jù)處理單元中,初級(jí)射線強(qiáng)度的估算表示為如下公式:
式中,Pest為估算的初級(jí)射線強(qiáng)度,為初級(jí)射線在基層探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例,為散射射線在基層探測(cè)器內(nèi)被吸收的比例。
5.如權(quán)利要求4所述的一種基于散射識(shí)別的錐束計(jì)算機(jī)斷層掃描成像系統(tǒng),其特征在于,所述頂部探測(cè)器對(duì)射線低阻,基層探測(cè)器對(duì)射線高阻。
6.如權(quán)利要求4所述的一種基于散射識(shí)別的錐束計(jì)算機(jī)斷層掃描成像系統(tǒng),其特征在于,所述頂部探測(cè)器對(duì)于射線強(qiáng)度具有位置靈敏度。
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