[發(fā)明專利]一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜及制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210294946.8 | 申請日： | 2022-03-23 |
| 公開（公告）號： | CN114665003A | 公開（公告）日： | 2022-06-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王金斌;唐銘鍇;任傳來;鐘高闊;戴李雨芬;鐘向麗;譚叢兵;張園;安峰 | 申請（專利權(quán)）人： | 湘潭大學(xué) |
| 主分類號： | H01L37/02 | 分類號： | H01L37/02;C23C14/28;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京慕達(dá)星云知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人： | 齊寶玲 |
| 地址： | 411105 湖*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 缺陷 偶極子 柔性 薄膜 制作方法 | ||
1.一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜，其特征在于，包括：云母襯底，以及在所述云母襯底上依次生長的緩沖層、底電極層和鐵電功能層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜，其特征在于，所述緩沖層的材料為CoFe2O4薄膜，厚度為8-15nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜，其特征在于，所述底電極層的材料為SrRuO3薄膜，厚度為25-50nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜，其特征在于，所述鐵電功能層的材料為Pb(Zr0.2Ti0.8)O3薄膜，厚度為240-320nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜的制作方法，其特征在于，具體包括：
1)通過脈沖激光沉積工藝，在云母襯底上生長緩沖層；
其中，選擇光滑平整的所述云母襯底；
2)通過脈沖激光沉積工藝，在所述緩沖層上生長底電極層；
3)通過脈沖激光沉積工藝，在所述底電極層上生長鐵電功能層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜的制作方法，其特征在于，
步驟1)所述在云母襯底上生長緩沖層所采用的脈沖激光沉積工藝中的激光器為波長248nm的KrF準(zhǔn)分子激光器，激光能量為300mj；其具體參數(shù)為靶基距為70mm，沉積氣氛為40±10mTorr氧氣，襯底溫度為600±30℃，沉積時(shí)間為3min-5min。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜的制作方法，其特征在于，
步驟2)所述在緩沖層上生長底電極層所采用的脈沖激光沉積工藝中的激光器為波長248nm的KrF準(zhǔn)分子激光器，激光能量為300mj；其具體參數(shù)為靶基距為70mm，沉積氣氛為70±20mTorr氧氣，襯底溫度為600±30℃，沉積時(shí)間為4min-8min。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種含缺陷偶極子的柔性鐵電薄膜的制作方法，其特征在于，
步驟3)所述在底電極層上生長鐵電功能層所采用的脈沖激光沉積工藝中的激光器為波長248nm的KrF準(zhǔn)分子激光器，激光能量為400±30mj，詳細(xì)參數(shù)為靶基距為70mm，沉積氣氛為100±50mTorr氧氣，襯底溫度為600±30℃，沉積時(shí)間為30min-40min。
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