[發(fā)明專利]一種皮帶輪多表面拍照取相裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210291761.1 | 申請日: | 2022-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN114674840A | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 侯曉峰;張弛;朱磊 | 申請(專利權(quán))人: | 上海感圖網(wǎng)絡(luò)科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956;G01N21/01 |
| 代理公司: | 無錫智麥知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32492 | 代理人: | 宋春榮 |
| 地址: | 201100 上海市閔*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 皮帶輪 表面 拍照 裝置 | ||
1.一種皮帶輪多表面拍照取相裝置,其特征在于:包括三向拍攝機構(gòu)、雙向拍攝機構(gòu)和皮帶輪移動機構(gòu),所述皮帶輪移動機構(gòu)包括第一平移組件、第二平移組件、第三平移組件、第四平移組件和移動輔助架,第一平移組件、第二平移組件、第三平移組件和第四平移組件設(shè)置在移動輔助架的一側(cè),三向拍攝機構(gòu)和第一雙向拍攝機構(gòu)設(shè)置在移動輔助架的另一側(cè);所述移動輔助架包括兩個間隔平行設(shè)置的傳遞板,兩個傳遞板下方均通過立柱支撐,所述兩個傳遞板之間的距離小于皮帶輪的外徑,所述傳遞板水平設(shè)置,所述立柱豎直設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的一種皮帶輪多表面拍照取相裝置,其特征在于:所述第一平移組件包括第一支撐板、第一左側(cè)擋塊、第一右側(cè)擋塊、第一導(dǎo)軌、第一滑塊、第一豎直板、第一水平板、第一氣缸和第一自動夾手,所述第一滑塊滑動設(shè)置在第一導(dǎo)軌上,所述第一左側(cè)擋塊與第一支撐板的左端固定連接,第一右側(cè)擋塊與第一支撐板的右端固定連接,所述第一導(dǎo)軌的兩端分別與第一左側(cè)擋塊和第一右側(cè)擋塊固定連接,所述第一豎直板的下端與第一滑塊固定連接,第一豎直板的上端與第一水平板固定連接,所述第一氣缸的缸體固定安裝在第一水平板上,第一氣缸的伸縮桿與第一自動夾手固定連接,所述第一自動夾手水平設(shè)置;所述第二平移組件包括第二支撐板、第二左側(cè)擋塊、第二右側(cè)擋塊、第二導(dǎo)軌、第二滑塊、第二豎直板、第二水平板、第二氣缸和第二自動夾手,所述第二滑塊滑動設(shè)置在第二導(dǎo)軌上,所述第二左側(cè)擋塊與第二支撐板的左端固定連接,第二右側(cè)擋塊與第二支撐板的右端固定連接,所述第二導(dǎo)軌的兩端分別與第二左側(cè)擋塊和第二右側(cè)擋塊固定連接,所述第二豎直板的下端與第二滑塊固定連接,第二豎直板的上端與第二水平板固定連接,所述第二氣缸的缸體固定安裝在第二水平板上,第二氣缸的伸縮桿與第二自動夾手固定連接,所述第二自動夾手水平設(shè)置;所述第三平移組件包括第三支撐板、第三左側(cè)擋塊、第三右側(cè)擋塊、第三導(dǎo)軌、第三滑塊、第三豎直板、第三水平板、第三氣缸和第三自動夾手,所述第三滑塊滑動設(shè)置在第三導(dǎo)軌上,所述第三左側(cè)擋塊與第三支撐板的左端固定連接,第三右側(cè)擋塊與第三支撐板的右端固定連接,所述第三導(dǎo)軌的兩端分別與第三左側(cè)擋塊和第三右側(cè)擋塊固定連接,所述第三豎直板的下端與第三滑塊固定連接,第三豎直板的上端與第三水平板固定連接,所述第三氣缸的缸體固定安裝在第三水平板上,第三氣缸的伸縮桿與第三自動夾手固定連接,所述第三自動夾手水平設(shè)置;所述第四平移組件包括第四支撐板、第四左側(cè)擋塊、第四右側(cè)擋塊、第四導(dǎo)軌、第四滑塊、第四豎直板、第四水平板、第四氣缸和第四自動夾手,所述第四滑塊滑動設(shè)置在第四導(dǎo)軌上,所述第四左側(cè)擋塊與第四支撐板的左端固定連接,第四右側(cè)擋塊與第四支撐板的右端固定連接,所述第四導(dǎo)軌的兩端分別與第四左側(cè)擋塊和第四右側(cè)擋塊固定連接,所述第四豎直板的下端與第四滑塊固定連接,第四豎直板的上端與第四水平板固定連接,所述第四氣缸的缸體固定安裝在第四水平板上,第四氣缸的伸縮桿與第四自動夾手固定連接,所述第四自動夾手水平設(shè)置。
3.如權(quán)利要求2所述的一種皮帶輪多表面拍照取相裝置,其特征在于:所述第二左側(cè)擋塊設(shè)置在第一左側(cè)擋塊與第一右側(cè)擋塊之間,第二左側(cè)擋塊與第一右側(cè)擋塊之間的距離大于第二滑塊的長度,第二滑塊的長度與第二豎直板的寬度相同,所述第二右側(cè)擋塊設(shè)置在第三左側(cè)擋塊與第三右側(cè)擋塊之間,第二右側(cè)擋塊與第三左側(cè)擋塊之間的距離大于第三滑塊的長度,第三滑塊的長度與第三豎直板的寬度相同,所述第四左側(cè)擋塊設(shè)置在第三左側(cè)擋塊與第三右側(cè)擋塊之間,第二右側(cè)擋塊與第三左側(cè)擋塊之間的距離大于第四滑塊的長度,第四滑塊的長度與第四豎直板的寬度相同。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





