[發明專利]等離子體處理系統、輸送臂和環狀部件的輸送方法

在審

• 申請號: 202210275803.2
• 申請日: 2022-03-21
• 公開（公告）號: CN115148571A
• 公開（公告）日: 2022-10-04
• 發明（設計）人: 長山將之
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;B65G47/92
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

本發明提供等離子體處理系統、輸送臂和環狀部件的輸送方法，能夠輸送設置在處理基片的周邊的環狀部件。本發明的等離子體處理系統包括：處理腔室；配置于上述處理腔室內的基片支承臺；環狀部件，其配置在上述基片支承臺的外緣部，具有與上述基片支承臺接觸的下表面、上述下表面的相反側的上表面和將上述上表面與上述下表面之間連接的側面；以及輸送臂，其保持上述上表面或上述側面，來對上述處理腔室送入或送出上述環狀部件。

技術領域

本發明涉及等離子體處理系統、輸送臂和環狀部件的輸送方法。

背景技術

在等離子體處理裝置中，使用設置于處理基片的周邊的環狀部件(例如，專利文獻1和專利文獻2)。該環狀部件隨著使用而劣化，因此需要更換。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-216614號公報

專利文獻2：日本特開2011-054933號公報

發明內容

發明要解決的技術問題

本發明提供一種技術，其用于輸送設置在處理基片的周邊的環狀部件。

用于解決技術問題的技術方案

依照本發明的一個方面，提供一種等離子體處理系統，其包括：處理腔室；配置于上述處理腔室內的基片支承臺；環狀部件，其配置在上述基片支承臺的外緣部，具有與上述基片支承臺接觸的下表面、上述下表面的相反側的上表面和將上述上表面與上述下表面之間連接的側面；以及輸送臂，其保持上述上表面或上述側面，來對上述處理腔室送入或送出上述環狀部件。

發明效果

本發明能夠提供一種技術，其用于輸送設置在處理基片的周邊的環狀部件。

附圖說明

圖1是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的結構例的圖。

圖2是表示本實施方式的基片處理系統之一例的概略結構的剖視圖。

圖3是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法的圖。

圖4是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法的圖。

圖5是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法的圖。

圖6是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其一)的圖。

圖7是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其二)的圖。

圖8是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其三)的圖。

圖9是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其三)的圖。

圖10是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其四)的圖。

圖11是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其四)的圖。

圖12是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其五)的圖。

圖13是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其六)的圖。

圖14是說明本實施方式的等離子體處理系統之一例的環狀部件的輸送方法中的保持方法(其七)的圖。