[發(fā)明專利]液晶元件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210271385.X | 申請日: | 2022-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN115113448A | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 小橋淳二;岡真一郎;富岡安;井桁幸一 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社日本顯示器 |
| 主分類號: | G02F1/137 | 分類號: | G02F1/137;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳偉;閆劍平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 元件 | ||
本發(fā)明提供一種液晶元件。根據(jù)一實施方式,液晶元件包括:透明基板,其具有第1主面;在一個方向上排列的多個構(gòu)造體,其配置于所述第1主面;取向膜,其配置于各所述構(gòu)造體的表面;以及液晶層,其具有膽甾型液晶并與所述取向膜相接,所述膽甾型液晶的螺旋軸相對于所述第1主面傾斜,各所述構(gòu)造體具有相對于所述第1主面傾斜的第1面,在多個所述構(gòu)造體中,各所述第1面彼此平行,所述取向膜夾設(shè)在所述第1面與所述液晶層之間。
本申請主張基于2021年3月19日提出的日本專利申請第2021-046120號的優(yōu)先權(quán),并引用該日本申請所記載的全部記載內(nèi)容。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的實施方式涉及液晶元件。
背景技術(shù)
近年來,研究了使用膽甾型液晶的各種液晶元件。膽甾型液晶具有對應(yīng)于螺距反射特定波長的光的性質(zhì)。在一個例子中,作為設(shè)置在光學(xué)層的凹凸面上的反射層,提出了應(yīng)用膽甾型液晶的光學(xué)體。
作為將這樣的膽甾型液晶取向為規(guī)定的方向并用于在面內(nèi)形成期望的相位分布的技術(shù),已知使用光取向劑的圓偏振光干涉曝光法。但是,由于能夠干涉曝光的范圍有限,而很難實現(xiàn)大面積化。
發(fā)明內(nèi)容
實施方式的目的在于提供能夠?qū)崿F(xiàn)大面積化及量產(chǎn)化的液晶元件。
根據(jù)一個實施方式,液晶元件包括:透明基板,其具有第1主面;在一個方向上排列的多個構(gòu)造體,其配置于所述第1主面;取向膜,其配置在各所述構(gòu)造體的表面;以及液晶層,其具有膽甾型液晶并與所述取向膜相接,所述膽甾型液晶的螺旋軸相對于所述第1主面傾斜,各所述構(gòu)造體具有相對于所述第1主面傾斜的第1面,在多個所述構(gòu)造體中,各所述第1面彼此平行,所述取向膜夾設(shè)在所述第1面與所述液晶層之間。
根據(jù)其他實施方式,液晶元件包括:透明基板,其具有第1主面;在一個方向上排列的多個構(gòu)造體,其配置于所述第1主面;取向膜,其配置在各所述構(gòu)造體的表面;以及液晶層,其具有膽甾型液晶并與所述取向膜相接,所述膽甾型液晶的螺旋軸相對于所述第1主面傾斜,所述構(gòu)造體的表面形成為包含第1上表面、高度與所述第1上表面不同的第2上表面、以及在所述第1上表面與所述第2上表面之間的側(cè)面的階梯狀,所述取向膜夾設(shè)在所述第1上表面及所述第2上表面與所述液晶層之間。
根據(jù)實施方式,能夠提供能夠?qū)崿F(xiàn)大面積化及量產(chǎn)化的液晶元件。
附圖說明
圖1是示出實施方式的液晶元件10的一例的剖視圖。
圖2是用于說明反射型偏振衍射光柵RPG的光學(xué)作用的圖。
圖3是示出液晶元件10的一個構(gòu)成例的剖視圖。
圖4是示出圖3所示的液晶元件10的構(gòu)造體20的立體圖。
圖5是示出液晶元件10的其他構(gòu)成例的剖視圖。
圖6是示出液晶元件10的其他構(gòu)成例的剖視圖。
圖7是示出液晶元件10的其他構(gòu)成例的剖視圖。
圖8是示出液晶元件10的其他構(gòu)成例的剖視圖。
圖9是示出液晶元件10的其他構(gòu)成例的剖視圖。
圖10是示出液晶元件10的其他構(gòu)成例的剖視圖。
圖11是示出液晶元件10的實施例1的剖視圖。
圖12是示出液晶元件10的實施例2的剖視圖。
圖13是示出液晶元件10的實施例3的剖視圖。
圖14是示出液晶元件10的其他例的剖視圖。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





