[發(fā)明專利]發(fā)光基板及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210258122.5 | 申請日: | 2022-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN114695619A | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙永超 | 申請(專利權(quán))人: | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/44 | 分類號: | H01L33/44;H01L33/48;H01L33/00 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 蘇蕾 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 及其 制造 方法 | ||
1.一種發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
提供一陣列基板,所述陣列基板包括基板和設(shè)置于所述基板上的導(dǎo)電墊;
形成覆蓋所述導(dǎo)電墊和所述基板的油墨層,所述油墨層包括預(yù)設(shè)區(qū)域,所述預(yù)設(shè)區(qū)域與所述導(dǎo)電墊的位置相對應(yīng);
采用第一預(yù)設(shè)波長的光從第一側(cè)對所述預(yù)設(shè)區(qū)域之外的所述油墨層進行照射的同時,從第二側(cè)對所述預(yù)設(shè)區(qū)域之外的所述油墨層進行加熱,所述第一側(cè)為所述基板遠離所述油墨層的一側(cè)、所述油墨層遠離所述基板的一側(cè)中的一者,所述第二側(cè)為所述基板遠離所述油墨層的一側(cè)、所述油墨層遠離所述基板的一側(cè)中的另一者;
去除所述預(yù)設(shè)區(qū)域的油墨層,得到圖案化油墨層;
將發(fā)光單元綁定于所述導(dǎo)電墊上,得到所述發(fā)光基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述基板是透光的,所述從第二側(cè)對所述預(yù)設(shè)區(qū)域之外的油墨層進行加熱包括如下步驟:
采用第二預(yù)設(shè)波長的光從所述第二側(cè)對所述預(yù)設(shè)區(qū)域之外的油墨層進行照射,所述第二側(cè)為所述基板遠離所述油墨層的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述第一預(yù)設(shè)波長的光與所述第二預(yù)設(shè)波長的光相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述第一預(yù)設(shè)波長大于或等于365納米且小于或等于450納米,且所述第一預(yù)設(shè)波長的光與所述第二預(yù)設(shè)波長的光均為激光。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述第一預(yù)設(shè)波長的光與所述第二預(yù)設(shè)波長的光不同,且所述第一預(yù)設(shè)波長小于所述第二預(yù)設(shè)波長。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述第一預(yù)設(shè)波長的光為激光,所述第二預(yù)設(shè)波長的光為紅外光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述去除所述預(yù)設(shè)區(qū)域的油墨層之后,且將發(fā)光單元綁定于所述導(dǎo)電墊上之前,所述方法還包括:
對所述圖案化油墨層進行清洗。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述油墨層為白色油墨層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,所述油墨層的厚度大于或等于40微米且小于或等于70微米。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述發(fā)光基板的制造方法,其特征在于,在形成覆蓋所述導(dǎo)電墊和所述基板的油墨層之后,且在采用第一預(yù)設(shè)波長的光從第一側(cè)對預(yù)設(shè)區(qū)域之外的所述油墨層進行照射之前,所述方法還包括:
去除所述油墨層中的溶劑。
11.一種發(fā)光基板,其特征在于,所述發(fā)光基板由權(quán)利要求1-10任一項所述發(fā)光基板的制造方法制備得到。
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