[發(fā)明專利]一種雙矛盾頂觸式電子測(cè)控儀器剛?cè)岱崔D(zhuǎn)保護(hù)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210254585.4
• 申請(qǐng)日: 2022-03-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114364186B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尹瀟錕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山西大學(xué)
• 主分類號(hào): H05K5/02
• 分類號(hào): H05K5/02;H05K5/06;B08B1/00;B08B13/00
• 代理公司: 北京盛凡佳華專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11947
• 代理人: 陳文麗

本發(fā)明公開(kāi)了一種雙矛盾頂觸式電子測(cè)控儀器剛?cè)岱崔D(zhuǎn)保護(hù)裝置，包括測(cè)試儀保護(hù)殼、自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置、固定組件和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置，所述雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置活動(dòng)設(shè)于測(cè)試儀保護(hù)殼內(nèi)；所述自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置活動(dòng)設(shè)于測(cè)試儀保護(hù)殼內(nèi)，所述固定組件活動(dòng)設(shè)于測(cè)試儀保護(hù)殼上，所述固定組件與自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置活動(dòng)連接。本發(fā)明屬于電子測(cè)控儀器防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域，具體是指一種雙矛盾頂觸式電子測(cè)控儀器剛?cè)岱崔D(zhuǎn)保護(hù)裝置，外在以柔性承接剛性沖擊，予以沖擊緩沖空間，內(nèi)在通過(guò)流體壓力沖擊以強(qiáng)勁支撐進(jìn)行防護(hù)；實(shí)現(xiàn)了對(duì)縫隙的自定位的技術(shù)效果，并且針對(duì)不同縫隙實(shí)現(xiàn)無(wú)縫貼合清潔。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于電子測(cè)控儀器防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域，具體是指一種雙矛盾頂觸式電子測(cè)控儀器剛?cè)岱崔D(zhuǎn)保護(hù)裝置。

背景技術(shù)

電子測(cè)控儀器，在工作時(shí)通過(guò)傳感器來(lái)采集的信號(hào)進(jìn)行平整、濾波、模數(shù)轉(zhuǎn)換等，轉(zhuǎn)換成便于處理的數(shù)字信號(hào)，再對(duì)數(shù)字信號(hào)進(jìn)行處理以便顯示，或者發(fā)出控制信號(hào)，電子測(cè)控儀器廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)作業(yè)中，由于電子測(cè)控儀器的工作環(huán)境較為復(fù)雜，因此常使用保護(hù)裝置以完成對(duì)電子測(cè)控儀器進(jìn)行防護(hù)，提高其使用的壽命。

其大多是將電子測(cè)控儀器放入到保護(hù)的箱體內(nèi)，在使用時(shí)進(jìn)行取出，不用時(shí)進(jìn)行放置，防護(hù)的效果差；而且現(xiàn)有的電子測(cè)控儀器大多均不能緩解外界的碰撞，導(dǎo)致在日常的使用中容易遭受外界的物理侵害，從而導(dǎo)致影響電子測(cè)控儀器的使用壽命和測(cè)量精度，不利于后續(xù)工作的開(kāi)展，且現(xiàn)有的電子測(cè)控儀器大多無(wú)法對(duì)其縫隙內(nèi)的灰塵進(jìn)行清理，導(dǎo)致在灰塵較大的工作環(huán)境內(nèi)使用時(shí)灰塵易存放在設(shè)備縫隙中，極為不便。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述情況，為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明提供了一種雙矛盾頂觸式電子測(cè)控儀器剛?cè)岱崔D(zhuǎn)保護(hù)裝置，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中在對(duì)電子測(cè)控儀器進(jìn)行保存時(shí)，采用剛性承接裝置防護(hù)時(shí)，在大力沖擊下剛性承接裝置容易對(duì)電子測(cè)控儀器造成損壞，采用柔性承接裝置防護(hù)時(shí)，在硬性沖擊下，不能很好的起到防護(hù)效果的技術(shù)難題，創(chuàng)造性的提出了自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置，將自服務(wù)原理應(yīng)用到流體力學(xué)上，面對(duì)外壓時(shí)，流體移動(dòng)至內(nèi)腔，外在以柔性承接剛性沖擊，予以沖擊緩沖空間，內(nèi)在通過(guò)流體壓力沖擊以強(qiáng)勁支撐進(jìn)行防護(hù)，解決了既要柔性承接又要?jiǎng)傂苑雷o(hù)的矛盾性技術(shù)難點(diǎn)；

同時(shí)為了對(duì)電子測(cè)控儀上不同孔隙的精準(zhǔn)定位清潔，不僅需要精準(zhǔn)定位到電子測(cè)控儀器縫隙處，還要實(shí)現(xiàn)既對(duì)大縫隙進(jìn)行無(wú)死角清潔，又能對(duì)小縫隙進(jìn)行無(wú)死角清潔的目的，采用雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置，通過(guò)自服務(wù)實(shí)現(xiàn)內(nèi)流通道和外流通道在不同時(shí)刻的充盈狀態(tài)，改變硬度及垂度，在無(wú)控制裝置的情況下，實(shí)現(xiàn)了對(duì)縫隙的自定位的技術(shù)效果，并且針對(duì)不同縫隙實(shí)現(xiàn)無(wú)縫貼合清潔，解決了既要貼合大縫隙清潔又要貼合小縫隙清潔的矛盾的技術(shù)問(wèn)題。

本發(fā)明采取的技術(shù)方案如下：本發(fā)明提供的一種雙矛盾頂觸式電子測(cè)控儀器剛?cè)岱崔D(zhuǎn)保護(hù)裝置，包括測(cè)試儀保護(hù)殼、自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置、固定組件和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置，所述雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置活動(dòng)設(shè)于測(cè)試儀保護(hù)殼內(nèi)，通過(guò)自服務(wù)實(shí)現(xiàn)內(nèi)流通道和外流通道在不同時(shí)刻的充盈狀態(tài)，針對(duì)不同縫隙實(shí)現(xiàn)無(wú)縫貼合清潔，解決了既要貼合大縫隙清潔又要貼合小縫隙清潔的矛盾的技術(shù)問(wèn)題；所述自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置活動(dòng)設(shè)于測(cè)試儀保護(hù)殼內(nèi)，所述自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置設(shè)于雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置上端，自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置利用自反饋原理，面對(duì)外壓時(shí)，流體移動(dòng)至內(nèi)腔，外在以柔性承接剛性沖擊，予以沖擊緩沖空間，內(nèi)在通過(guò)流體壓力沖擊以強(qiáng)勁支撐進(jìn)行防護(hù)，解決了既要柔性承接又要?jiǎng)傂苑雷o(hù)的矛盾性技術(shù)難點(diǎn)；測(cè)試儀保護(hù)殼對(duì)自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置進(jìn)行支撐固定，所述固定組件活動(dòng)設(shè)于測(cè)試儀保護(hù)殼上，所述固定組件與自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置活動(dòng)連接，固定組件對(duì)自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置進(jìn)行固定，固定自反饋剛?cè)岱崔D(zhuǎn)承托裝置和雙矛盾式異道流體頂觸自控裝置調(diào)整后的位置。