[發(fā)明專利]基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶可調(diào)太赫茲超材料吸收器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210252844.X | 申請日: | 2022-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN114498069A | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 付麥霞;王金義;楊鵬須;葉玉超;夏娜 | 申請(專利權(quán))人: | 河南工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | H01Q17/00 | 分類號: | H01Q17/00;G02B5/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 450001 河南省鄭州市高新技*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 鏤空 結(jié)構(gòu) 寬帶 可調(diào) 赫茲 材料 吸收 | ||
1.基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,由周期結(jié)構(gòu)組成,其特征在于包括若干在平面上沿同一個方向周期排列的基本單元;每個基本單元包括三層:上層為鏤空“王”字形圖案石墨烯層,中間為電介質(zhì)聚酰亞胺層,下層為金屬層。
2.實際加工過程為:首先在襯底上形成介質(zhì)層薄膜,然后在介質(zhì)層上采用化學(xué)方法或物理方法鍍一層石墨烯薄膜形成石墨烯層,按照設(shè)定的周期和基本單元的個數(shù),通過光刻或電子束曝光對石墨烯進(jìn)行刻畫,去掉多余的石墨烯薄膜,刻蝕出鏤空“王”字型石墨烯圖案,進(jìn)而構(gòu)成具有周期結(jié)構(gòu)的石墨烯層,當(dāng)所有石墨烯層一次性刻畫完畢后,需要在石墨烯層上鍍一層導(dǎo)電膠。
3.如權(quán)利要求1所述的基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,其特征在于,所述的每個基本單元對應(yīng)的鏤空王字型石墨烯圖案結(jié)構(gòu)相同,其具體結(jié)構(gòu)形狀如下:王字型的長為12μm,寬為2μm。
4.如權(quán)利要求1所述的基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,其特征在于所述中間電介質(zhì)層的材料為聚酰亞胺,所述介質(zhì)層的厚度h=15~17μm。
5.如權(quán)利要求1所述的基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,其特征在于所述下層為金屬層,其厚度為0.1~0.5μm。
6.如權(quán)利要求1所述的基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,其特征在于,所述每個單元結(jié)構(gòu)的周期是 19*19μm。
7.如權(quán)利要求1所述的基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,其特征在于,所述石墨烯的費(fèi)米能級為0.6eV~1.2eV。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,其特征在于:所述鏤空王字型石墨烯(2)為單層原子排列結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鏤空結(jié)構(gòu)的寬帶太赫茲超材料吸收器,其特征在于:所述底層金屬(4)是為了阻止太赫茲波穿透。
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