[發明專利]一種適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置有效
| 申請號: | 202210249484.8 | 申請日: | 2022-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN114751503B | 公開(公告)日: | 2023-07-28 |
| 發明(設計)人: | 巫先坤;陳洋;程峰;趙選英;楊峰;戴建軍;李愛民 | 申請(專利權)人: | 江蘇南大華興環保科技股份公司;鹽城師范學院 |
| 主分類號: | C02F1/72 | 分類號: | C02F1/72;C02F1/78 |
| 代理公司: | 江蘇致邦律師事務所 32230 | 代理人: | 邵林;徐蓓 |
| 地址: | 224051 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 適用于 催化劑 臭氧 氧化 反應 裝置 | ||
1.一種適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,包括:殼體內自下而上設置的進料區、流化床反應區、穩流區和分離區,所述殼體和所述流化床反應區、所述穩流區之間還設置有回流區,
所述流化床反應區內設置有若干流化床層,所述流化床層與所述流化床反應區的側壁的連接處設置有連通所述回流區的循環孔,
所述進料區內設置有進料口和進氣裝置,
所述穩流區內設置有出料口,
所述分離區內設置有分離器,經所述分離器分離出的氣體通過所述殼體頂部的出氣口排出,經所述分離器分離出的液體和固體進入所述回流區;
所述回流區內設置有縱向的第一隔板,所述第一隔板將所述回流區分隔為兩個對稱設置的半圓環柱,每個所述半圓環柱內設置有兩個縱向設置的第二隔板,所述第二隔板將所述半圓環柱分隔為位于中間的催化劑回流區和兩側的反應液回流區,所述循環孔位于所述催化劑回流區內,所述反應液回流區的頂部設置有濾網。
2.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,在所述半圓環柱內,兩個所述第二隔板的頂部間距大于底部間距。
3.根據權利要求2所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,兩個所述第二隔板在所述循環孔的兩側對稱設置。
4.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述半圓環柱的底部連通回流驅動區,所述回流驅動區為弧形,所述回流驅動區內被分隔為位于中間的催化劑通道和位于兩側的反應液通道,所述催化劑通道和所述反應液通道對應所述催化劑回流區和所述反應液回流區設置,兩個所述反應液通道的出口在所述催化劑通道的出口的下方匯合形成回流液出口,所述催化劑通道的出口和所述回流液出口位于所述進料區。
5.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述分離器的縱截面為紡錘形,所述紡錘形的邊為向內凹陷的弧。
6.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述流化床反應區的直徑滿足,其中,為所述殼體的直徑,為所述流化床反應區的直徑,和的單位為m。
7.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述流化床層均勻分布于所述流化床反應區的兩側,所述流化床層的數量為,其中H為所述殼體的高度,A為所述流化床層的數量,H的單位為m。
8.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述流化床層的長度為,其中為所述輕質催化劑的密度,為物料的液體密度,為所述流化床層的摩擦系數,g為重力加速度,為所述流化床反應區的直徑,為所述輕質催化劑的粒徑,L為所述流化床層的長度,和L的單位為m,的單位為mm。
9.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述流化床層和水平面的角度滿足,其中,為所述流化床層的摩擦系數,為所述流化床層和水平面之間的角度。
10.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述循環孔的孔徑滿足,其中為所述輕質催化劑的粒徑,為所述循環孔的孔徑,和的單位為mm。
11.根據權利要求1所述的適用于輕質催化劑的臭氧氧化反應裝置,其特征在于,所述輕質催化劑的密度滿足,所述輕質催化劑的粒徑為1~10?mm,所述輕質催化劑的投加量為,其中為所述輕質催化劑的密度,為物料的液體密度,為所述殼體的直徑,H為所述殼體的高度,和H的單位為m。
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