[發明專利]熱敏記錄介質、激光印刷方法和激光印刷設備在審
| 申請號: | 202210246896.6 | 申請日: | 2022-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN115107391A | 公開(公告)日: | 2022-09-27 |
| 發明(設計)人: | 新井伸幸;山下知洋;石見知三 | 申請(專利權)人: | 株式會社理光 |
| 主分類號: | B41M5/40 | 分類號: | B41M5/40;B41J2/435;B41M5/26;B41J3/407 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 熱敏 記錄 介質 激光 印刷 方法 設備 | ||
1.一種熱敏記錄介質,其特征在于,包括:
基礎材料;
熱敏記錄層;以及
印刷層,
其中,所述印刷層相對于具有400nm或更長但700nm或更短的波長的可見光的平均吸光度A1(%),所述熱敏記錄層相對于所述可見光的平均吸光度A2(%),以及所述印刷層相對于在通過激光印刷期間的激光照射波長的平均吸光度B1(%)滿足下式:A1A2和下式:A1B1。
2.根據權利要求1所述的熱敏記錄介質,其特征在于,
所述印刷層相對于具有400nm或更長但700nm或更短的所述波長的所述可見光的所述平均吸光度是50%或更高,以及
所述印刷層相對于在通過所述激光印刷期間的所述激光照射波長的所述平均吸光度是10%或更低。
3.根據權利要求1或2所述的熱敏記錄介質,其特征在于,
所述熱敏記錄介質在激光照射方向上依次包括所述熱敏記錄層、所述印刷層和所述基礎材料。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的熱敏記錄介質,其特征在于,
所述熱敏記錄層含有著色劑、顯色劑和光熱轉換材料。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的熱敏記錄介質,其特征在于,
所述基礎材料是透明膜。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的熱敏記錄介質,其特征在于,
所述印刷層含有紅外透射著色材料。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的熱敏記錄介質,其特征在于,進一步包含:
所述熱敏記錄層上的保護層。
8.一種激光印刷方法,其特征在于,包括:
通過用激光照射在根據權利要求1至7中任一項所述的熱敏記錄介質上進行印刷。
9.根據權利要求8所述的激光印刷方法,其特征在于,
所述印刷通過以滿足下式:T1T2+T4且滿足下式:T2+T5T3的方式用所述激光照射來進行,其中,在所述式中,T1表示所述基礎材料的熔點(攝氏度℃),T2表示所述熱敏記錄介質在印刷之前的溫度(℃),T3表示所述熱敏記錄層的顯色溫度(℃),T4表示在用所述激光照射印刷期間所述印刷層的溫度升高量(℃),并且T5表示在通過所述激光印刷期間所述熱敏記錄層的溫度升高量(℃)。
10.根據權利要求8或9所述的激光印刷方法,其特征在于,
所述激光在其焦點處的光束輪廓是頂帽形。
11.根據權利要求9或10所述的激光印刷方法,其特征在于,
用所述激光照射所述熱敏記錄介質,同時將所述熱敏記錄介質設置在與所述激光的最大會聚位置不同的位置。
12.一種激光印刷設備,其特征在于,包括:
根據權利要求1至7中任一項所述的熱敏記錄介質;以及
照射單元,被配置為用激光照射所述熱敏記錄介質。
13.根據權利要求12所述的激光印刷設備,其特征在于,
所述激光印刷設備被配置成通過以滿足下式:T1T2+T4且滿足下式:T2+T5T3的方式用所述激光照射來進行,其中,在所述式中,T1表示所述基礎材料的熔點(攝氏度℃),T2表示所述熱敏記錄介質在印刷之前的溫度(℃),T3表示所述熱敏記錄層的顯色溫度(℃),T4表示在用所述激光照射印刷期間所述印刷層的溫度升高量(℃),并且T5表示在通過所述激光印刷期間所述熱敏記錄層的溫度升高量(℃)。
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