[發明專利]一種聚四氟乙烯表面的蝕刻方法在審
| 申請號： | 202210244077.8 | 申請日： | 2022-03-14 |
| 公開（公告）號： | CN114571089A | 公開（公告）日： | 2022-06-03 |
| 發明（設計）人： | 崔宇;沈佩珠;施江英 | 申請（專利權）人： | 崔宇;沈佩珠;施江英 |
| 主分類號： | B23K26/362 | 分類號： | B23K26/362;B23K26/402;B23K26/70 |
| 代理公司： | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人： | 馬叢 |
| 地址： | 201706 上海市青浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 聚四氟乙烯 表面 蝕刻 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種聚四氟乙烯表面的蝕刻方法，其特征在于，包括以下步驟：將聚四氟乙烯表面進行激光蝕刻；
所述激光的波長為4～15μm。
2.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光的波長為6～10.6μm。
3.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光的輸出功率為50W～200W。
4.根據權利要求1或3所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光的輸出功率為80W～100W。
5.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光的掃描速度≤7000mm/s。
6.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述聚四氟乙烯表面在激光蝕刻前的翹曲度≤2mm。
7.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光蝕刻在激光發生器中進行，所述激光發生器為氣體激光發生器，所述氣體激光發生器的工作氣體為二氧化碳、氮氣和氦氣的混合氣體。
8.根據權利要求7所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光蝕刻的步驟包括：將聚四氟乙烯固定，調節聚四氟乙烯與激光發生器之間的距離，使聚四氟乙烯表面處于激光焦距處，設置激光輸出功率和激光掃描速度，使激光對聚四氟乙烯表面實施掃射。
9.根據權利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光蝕刻前還包括對聚四氟乙烯進行清潔。
10.根據權利要求1或8所述的蝕刻方法，其特征在于，所述激光蝕刻后還包括對聚四氟乙烯進行冷卻。
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