[發(fā)明專(zhuān)利]直寫(xiě)光刻設(shè)備及其的分區(qū)曝光方法及裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210242537.3
• 申請(qǐng)日: 2022-03-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114721228A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-07-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 程建高;董帥;趙美云;蔡健
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京景聞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11742
• 代理人: 盧春燕

本發(fā)明提出一種直寫(xiě)光刻設(shè)備及其的分區(qū)曝光方法及裝置，方法包括：確定PCB板上每個(gè)原始分區(qū)對(duì)應(yīng)的對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)；根據(jù)對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)確定與對(duì)位靶點(diǎn)對(duì)應(yīng)的鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)的坐標(biāo)；根據(jù)對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)及鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)的坐標(biāo)重新確定PCB板的分區(qū)及與分區(qū)對(duì)應(yīng)的變換模式；根據(jù)分區(qū)及變換模式確定所述分區(qū)的映射矩陣；根據(jù)映射矩陣確定目標(biāo)曝光坐標(biāo)，并根據(jù)目標(biāo)曝光坐標(biāo)對(duì)PCB板進(jìn)行曝光。本發(fā)明通過(guò)采用相同的變換模式對(duì)PCB板的分區(qū)進(jìn)行變換，并根據(jù)分區(qū)及變換模式確定分區(qū)的映射矩陣，根據(jù)映射矩陣確定目標(biāo)曝光坐標(biāo)，實(shí)現(xiàn)對(duì)PCB板的曝光，從而，避免在每個(gè)分區(qū)采用各自變換參數(shù)進(jìn)行變換，導(dǎo)致分區(qū)之間出現(xiàn)錯(cuò)位及白邊問(wèn)題，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種直寫(xiě)光刻設(shè)備及其的分區(qū)曝光方法及裝置。

背景技術(shù)

目前，在PCB(Printed Circuit Board，印制線路板)曝光制程中，通常是將整個(gè)PCB板進(jìn)行分區(qū)對(duì)位，在每個(gè)分區(qū)內(nèi)使用各自的參數(shù)進(jìn)行變換，每個(gè)分區(qū)的變換參數(shù)由各自分區(qū)的對(duì)位靶點(diǎn)決定。

然而，在對(duì)每個(gè)分區(qū)使用各自的參數(shù)進(jìn)行變換時(shí)，若在分區(qū)之間存在圖形，容易在分區(qū)之間出現(xiàn)圖形錯(cuò)位和白邊現(xiàn)象，從而使得PCB曝光過(guò)程中出現(xiàn)圖形錯(cuò)位及白邊問(wèn)題，從而影響曝光質(zhì)量，使得PCB板的生產(chǎn)質(zhì)量較差。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。

為此，本發(fā)明的第一個(gè)目的在于提出一種用于直寫(xiě)光刻設(shè)備的分區(qū)曝光方法，該方法采用相同的變換模式對(duì)PCB板的分區(qū)進(jìn)行變換，并根據(jù)分區(qū)及變換模式確定分區(qū)的映射矩陣，根據(jù)映射矩陣確定目標(biāo)曝光坐標(biāo)，實(shí)現(xiàn)對(duì)PCB板的曝光，從而，避免在每個(gè)分區(qū)采用各自變換參數(shù)進(jìn)行變換，導(dǎo)致分區(qū)之間出現(xiàn)錯(cuò)位及白邊問(wèn)題，從而，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。

為此，本發(fā)明的第二個(gè)目的在于提出一種用于直寫(xiě)光刻設(shè)備的分區(qū)曝光裝置。

為此，本發(fā)明的第三個(gè)目的在于提出一種直寫(xiě)光刻設(shè)備。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的第一方面的實(shí)施例提出了一種用于直寫(xiě)光刻設(shè)備的分區(qū)曝光方法，該方法包括：確定PCB板上每個(gè)原始分區(qū)對(duì)應(yīng)的對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)；根據(jù)所述對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)確定與所述對(duì)位靶點(diǎn)對(duì)應(yīng)的鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)的坐標(biāo)；根據(jù)所述對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)及所述鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)的坐標(biāo)重新確定所述PCB板的分區(qū)及與所述分區(qū)對(duì)應(yīng)的變換模式；根據(jù)所述分區(qū)及所述變換模式確定所述分區(qū)的映射矩陣；根據(jù)所述映射矩陣及確定目標(biāo)曝光坐標(biāo)，并根據(jù)所述目標(biāo)曝光坐標(biāo)對(duì)所述PCB板進(jìn)行曝光。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于直寫(xiě)光刻設(shè)備的分區(qū)曝光方法，通過(guò)確定與對(duì)位靶點(diǎn)對(duì)應(yīng)的鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)坐標(biāo)，并根據(jù)對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)及鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)的坐標(biāo)重新確定PCB板的分區(qū)及與分區(qū)對(duì)應(yīng)的變化模式，即，采用相同的變換模式對(duì)PCB板的分區(qū)進(jìn)行變換，并根據(jù)分區(qū)及變換模式確定分區(qū)的映射矩陣，根據(jù)映射矩陣確定目標(biāo)曝光坐標(biāo)，實(shí)現(xiàn)對(duì)PCB板的曝光，從而，避免在每個(gè)分區(qū)采用各自變換參數(shù)進(jìn)行變換，導(dǎo)致分區(qū)之間出現(xiàn)錯(cuò)位及白邊問(wèn)題，從而，提高了產(chǎn)品質(zhì)量。

在一些實(shí)施例中，根據(jù)所述對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)及所述鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)的坐標(biāo)確定所述PCB板的分區(qū)及與所述分區(qū)對(duì)應(yīng)的變換模式，包括：確定與所述對(duì)位靶點(diǎn)距離最遠(yuǎn)的鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)，并將所述對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)與所述距離最遠(yuǎn)的鄰域?qū)ξ稽c(diǎn)的坐標(biāo)之間的距離作為局域影響半徑；根據(jù)所述對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)及所述局域影響半徑重新確定所述PCB板的分區(qū)；根據(jù)所述PCB板的分區(qū)確定與所述分區(qū)對(duì)應(yīng)的變換模式。

在一些實(shí)施例中，根據(jù)所述對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)及所述局域影響半徑重新確定所述PCB板的分區(qū)，包括：將所述對(duì)位靶點(diǎn)的坐標(biāo)作為圓心，以所述圓心為基準(zhǔn)按照所述局域影響半徑在所述PCB板上畫(huà)圓，以重新確定所述PCB板的分區(qū)。