[發(fā)明專利]鈦鋁復合件的處理方法、鈦鋁復合件和樹脂的結合體的制備方法及制品

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210241159.7
• 申請日: 2022-03-11
• 公開（公告）號: CN114606560A
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發(fā)明（設計）人: 金磊;胡中華;張兵
• 申請（專利權）人: 東莞市慧澤凌化工科技有限公司
• 主分類號: C25F3/08
• 分類號: C25F3/08;C25F3/14;C25F3/04;C25D11/08;C25D11/16;C25D11/18;C22C1/08
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 潘俊達

本發(fā)明提供了一種鈦鋁復合件的處理方法、鈦鋁復合件和樹脂的結合體的制備方法及制品，包括以下步驟：S1、對鈦鋁復合件進行陽極氧化處理，使得其中的鋁合金表面生成陽極氧化膜；S2、對步驟S1得到的鈦鋁復合件進行第一次蝕刻處理，使得其中的鈦合金產(chǎn)生微孔；S3、先對步驟S2得到的鈦鋁復合件進行退陽極氧化膜，再進行第二次蝕刻處理，使得其中的鋁合金產(chǎn)生微孔；完成鈦鋁復合件的處理。相比于現(xiàn)有技術，本發(fā)明采用的多步處理方法，可分別在鈦鋁復合件的鈦合金和鋁合金部分上形成均勻且獨特的微孔，由此保證了其與樹脂良好的結合強度和氣密性。

技術領域

本發(fā)明涉及復合材料技術領域，具體涉及一種鈦鋁復合件的處理方法、鈦鋁復合件和樹脂的結合體的制備方法及制品。

背景技術

在手機通訊設備、電子電器設備、汽車機械等領域，為達到減輕產(chǎn)品重量、增加結合強度等目的，金屬和樹脂一體化成型技術得到了廣泛的發(fā)展和充足的應用，目前已經(jīng)涌現(xiàn)出很多專利涉及到各種材質的微孔化注塑一體化成型技術，金屬結構已逐漸從單一金屬轉變?yōu)閺秃霞?，尤其是以不銹鋼和鋁合金復合件與樹脂一體化成型技術得到了廣泛應用和推廣。鈦合金同樣具有不銹鋼類似性質，且鈦合金比不銹鋼還具有質量輕、具有與人體很好的親和性和適應性等性質。鋁合金具有散熱好、易CNC加工，因此鈦合金和鋁合金復合件作為穿戴、智能設備的金屬骨架逐漸受到了人們的青睞。

鈦鋁復合件作為智能產(chǎn)品結構骨架的的各種加工優(yōu)勢十分明顯，但為了傳輸信號，一是加強信號傳輸，二是減少信號屏蔽，需要將設備骨架切斷防止信號屏蔽，例如智能手機天線槽從4個到現(xiàn)在普遍的8個、12個甚至更多，因此開發(fā)者運用了微孔化注塑的方式將兩個結構件進行連接，然而，此時又為表面處理提出了新的挑戰(zhàn)，鈦合金和鋁材化學性質十分迥異，兩者表面處理做微孔的方法截然不同。

專利CN105098439A中在針對不銹鋼和鈦合金，鋁合金和銅合金四種復合材料納米注塑處理時，先將鋁合金和銅合金進行遮蔽，對不銹鋼和鈦合金部分進行處理，后再對鋁合金和銅合金進行微孔化處理，再通過胺基硅烷吸附最終達到四種復合材料和樹脂一體化的高強度結合。專利CN1195889C、專利CN108608615A等則是通過在復合件上鍍銅或鍍鎳得到一層微孔層再經(jīng)注塑得到復合件和樹脂高強度結合的復合體。然而目前這些方法均是通過電鍍間接做孔，均存在步驟繁瑣等弊端，因此，如何使鈦合金和鋁合金復合件表面形成微孔，為鈦合金和鋁合金的復合件與樹脂的結合提供高強度結合及良好氣密性成為一個新的技術難點。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的之一在于：針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種鈦鋁復合件的處理方法，以解決目前因鈦和鋁化學性質迥異導致鈦鋁復合件表面納米/微米化處理工藝繁雜、造孔不均，致使鈦鋁復合件與樹脂結合后結合強度低和氣密性差的問題，經(jīng)本發(fā)明處理工藝處理得到的鈦鋁復合件與樹脂經(jīng)注塑結合后具有較好的結合強度和氣密性。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術方案：

一種鈦鋁復合件的處理方法，包括以下步驟：

S1、對鈦鋁復合件進行陽極氧化處理，使得其中的鋁合金表面生成陽極氧化膜；

S2、對步驟S1得到的鈦鋁復合件進行第一次蝕刻處理，使得其中的鈦合金產(chǎn)生微孔；

S3、先對步驟S2得到的鈦鋁復合件進行退陽極氧化膜，再進行第二次蝕刻處理，使得其中的鋁合金產(chǎn)生微孔；完成鈦鋁復合件的處理。

優(yōu)選的，步驟S1中，所述陽極氧化處理方法包括酸槽內陽極氧化、硬質陽極氧化、微弧氧化中的任意一種。

優(yōu)選的，步驟S1中，在陽極氧化處理后，繼續(xù)對鈦鋁復合件進行封孔處理，所述封孔處理包括水汽蒸發(fā)封孔、鎳鹽封孔、無鎳封孔、樹脂封孔中的任意一種。

優(yōu)選的，步驟S2中，所述第一次蝕刻處理為電化學蝕刻處理，采用的蝕刻液為酸性蝕刻液或中性蝕刻液。

優(yōu)選的，所述蝕刻液包括鹵素離子、酸、走位助劑和鈦緩蝕劑。