[發(fā)明專利]一種釹鐵硼磁體的冷處理裝置及其加工方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210229464.4
• 申請日: 2022-03-09
• 公開（公告）號: CN114551082B
• 公開（公告）日: 2023-04-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱明;王寰宇;陸柄森
• 申請（專利權(quán)）人: 江西熒光磁業(yè)有限公司
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02;B22F3/03;B22F9/04;C21D6/04
• 代理公司: 贛州智府晟澤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 36128
• 代理人: 姜建華

1.一種釹鐵硼磁體的冷處理裝置，包括甩帶爐(1)、攪拌爐(2)、浸泡爐(3)、壓型爐(4)、第一運輸管(5)、第二運輸管(6)、第三運輸管(7)、第一壓力泵(8)、第二壓力泵(9)和第三壓力泵(10)，其特征在于：所述甩帶爐(1)通過第一運輸管(5)與攪拌爐(2)相連，第一運輸管(5)上安裝第一壓力泵(8)，攪拌爐(2)通過第二運輸管(6)與浸泡爐(3)相連，第二運輸管(6)上安裝第二壓力泵(9)，浸泡爐(3)通過第三運輸管(7)與壓型爐(4)相連，第三運輸管(7)上安裝第三壓力泵(10)，甩帶爐(1)包括甩帶爐內(nèi)腔(101)、預(yù)加熱層(102)、抽空泵(103)、抽空管(104)和甩帶爐底座(105)，甩帶爐(1)內(nèi)部開設(shè)有甩帶爐內(nèi)腔(101)，甩帶爐(1)一側(cè)設(shè)置有抽空泵(103)，攪拌爐(2)包括攪拌爐內(nèi)腔(201)、冷卻層(202)、攪拌裝置(203)、攪拌爐底座(204)、攪拌電機(205)、攪拌軸(206)和攪拌葉片(207)，攪拌爐(2)內(nèi)部開設(shè)有攪拌爐內(nèi)腔(201)，浸泡爐(3)包括噴氮電機(301)、浸泡爐內(nèi)腔(302)、噴氮裝置(303)、浸泡爐支撐架(304)和噴氮管(305)，浸泡爐(3)內(nèi)部開設(shè)有浸泡爐內(nèi)腔(302)，浸泡爐內(nèi)腔(302)內(nèi)安裝噴氮裝置(303)，壓型爐(4)包括壓型爐內(nèi)腔(401)、制粉裝置(402)、壓型機(403)和壓型爐支撐架(404)，壓型爐(4)內(nèi)部開設(shè)有壓型爐內(nèi)腔(401)，壓型爐內(nèi)腔(401)內(nèi)安裝有制粉裝置(402)和壓型機(403)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種釹鐵硼磁體的冷處理裝置，其特征在于：所述第一運輸管(5)一端與甩帶爐(1)一側(cè)連接，第一運輸管(5)另一端與攪拌爐(2)一側(cè)連接，第一運輸管(5)中端設(shè)置有第一壓力泵(8)，第二運輸管(6)一端與攪拌爐(2)一側(cè)連接，第二運輸管(6)另一端與浸泡爐(3)一側(cè)連接，第二運輸管(6)中端設(shè)置有第二壓力泵(9)，第三運輸管(7)一端與浸泡爐(3)一側(cè)相連，第三運輸管(7)另一端與壓型爐(4)一側(cè)相連，第三運輸管(7)中端設(shè)置有第三壓力泵(10)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種釹鐵硼磁體的冷處理裝置，其特征在于：所述甩帶爐(1)內(nèi)部開設(shè)的甩帶爐內(nèi)腔(101)與甩帶爐(1)之間設(shè)置有預(yù)加熱層(102)，甩帶爐(1)一側(cè)外壁上端與抽空管(104)一端相連，并且抽空管(104)一端延伸至甩帶爐內(nèi)腔(101)中，抽空管(104)上設(shè)置有抽空泵(103)，甩帶爐(1)另一側(cè)外壁底端與第一運輸管(5)一端相連，并且第一運輸管(5)一端延伸至甩帶爐內(nèi)腔(101)中，甩帶爐(1)底端與甩帶爐底座(105)上端相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種釹鐵硼磁體的冷處理裝置，其特征在于：所述攪拌爐(2)內(nèi)部開設(shè)的攪拌爐內(nèi)腔(201)與攪拌爐(2)之間設(shè)置有冷卻層(202)，攪拌爐內(nèi)腔(201)中安裝攪拌裝置(203)，攪拌電機(205)安裝在攪拌爐(2)頂端，攪拌電機(205)底端與攪拌軸(206)上端相連，攪拌軸(206)外壁設(shè)置有多個攪拌葉片(207)，攪拌爐(2)底端與攪拌爐底座(204)上端相連，攪拌爐(2)一側(cè)外壁底端與第一運輸管(5)一端相連，并且第一運輸管(5)延伸至攪拌爐內(nèi)腔(201)中，攪拌爐(2)另一側(cè)外壁底端與第二運輸管(6)一端相連，并且第二運輸管(6)延伸至第二運輸管(6)中。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種釹鐵硼磁體的冷處理裝置，其特征在于：所述浸泡爐內(nèi)腔(302)中安裝噴氮裝置(303)，噴氮裝置(303)外壁設(shè)置有多組噴氮管(305)，噴氮管(305)上開設(shè)有多個孔洞，浸泡爐(3)底端與浸泡爐支撐架(304)上端相連，浸泡爐支撐架(304)設(shè)置有多組，浸泡爐(3)底端與第三運輸管(7)一端相連，并且第三運輸管(7)延伸至浸泡爐內(nèi)腔(302)中。