[發明專利]基板位置控制方法和基板處理系統

在審

• 申請號: 202210176155.5
• 申請日: 2022-02-25
• 公開（公告）號: CN115027943A
• 公開（公告）日: 2022-09-09
• 發明（設計）人: 植松治志;三浦知久
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B65G47/90
• 分類號: B65G47/90;H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發明提供一種基板位置控制方法和基板處理系統。基板位置控制方法包括以下工序：第一計算工序，參照存儲部來計算差分信息，存儲部存儲用于對向第一處理室和第二處理室搬送的基板進行位置調整的第一位置調整信息和第二位置調整信息，差分信息表示將基于第一位置調整信息被調整了位置的基板搬送至第二處理室的情況下的位置與將基于第二位置調整信息被調整了位置的基板搬送至第二處理室的情況下的位置之間的旋轉方向偏移和伸縮方向偏移；第二計算工序，計算用于校正旋轉方向偏移的旋轉校正值；以及第三計算工序，計算伸縮校正值，該伸縮校正值用于校正伸縮方向偏移、以及由于根據旋轉校正值校正基板的位置而產生的、旋轉校正所引起的偏移。

技術領域

本公開涉及一種基板位置控制方法和基板處理系統。

背景技術

以往，在基板處理系統設置有：搬送室，其設置有用于搬送基板的搬送裝置；多個處理室，所述多個處理室配置于搬送室的周圍；以及經由閘閥的加載互鎖室，所述閘閥開閉自如，以使無需在每次向處理室內搬送基板和從處理室內搬出基板時將處理室從真空恢復為常壓。加載互鎖室能夠在真空與常壓之間進行切換。在基板處理系統中，搬送裝置進行加載互鎖室、真空搬送室、各基板處理室之間的基板的搬送。例如，在將基板搬入加載互鎖室并使加載互鎖室內與真空處理室同樣地成為真空之后，搬送裝置將基板搬送至真空處理室內。

在加載互鎖室設置有用于調整基板的位置的位置調整機構。因此，提出如下一種技術：在基板處理系統中，在從加載互鎖室向處理室搬送基板時，通過設置于加載互鎖室的位置調整機構來進行與作為搬送目的地的處理室相應的位置調整(例如參照專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2006-324366號公報

發明內容

發明要解決的問題

根據本公開，提供一種不經由加載互鎖室地對從一個處理室向另一個處理室搬送的基板進行位置校正的技術。

用于解決問題的方案

本公開的一個方式的基板位置控制方法是基板處理系統的基板位置控制方法，所述基板處理系統具有：搬送室，其具有搬送機構，該搬送機構通過控制旋轉角度的旋轉控制和控制伸縮距離的伸縮控制來進行基板的搬送；第一處理室，其與搬送室連接；第二處理室，其與搬送室連接；以及加載互鎖室，其與搬送室連接，所述加載互鎖室具有進行基板的位置調整的位置調整機構，所述基板位置控制方法包括以下工序：第一計算工序，參照存儲部來計算差分信息，所述存儲部存儲用于對從加載互鎖室向第一處理室搬送的基板進行位置調整的第一位置調整信息和用于對從加載互鎖室向第二處理室搬送的基板進行位置調整的第二位置調整信息，所述差分信息表示將基于第一位置調整信息被調整了位置的基板搬送至第二處理室的情況下的位置與將基于第二位置調整信息被調整了位置的基板搬送至第二處理室的情況下的位置之間的、旋轉方向上的旋轉方向的偏移和伸縮方向上的伸縮方向的偏移；第二計算工序，計算用于校正差分信息所表示的旋轉方向偏移的旋轉校正值；以及第三計算工序，計算伸縮校正值，該伸縮校正值用于校正差分信息所表示的伸縮方向偏移、以及由于根據旋轉校正值在旋轉方向上校正基板的位置而在伸縮方向上產生的、旋轉校正所引起的偏移。

發明的效果

根據本公開，能夠不經由加載互鎖室地對從一個處理室向另一個處理室搬送的基板進行位置校正。

附圖說明

圖1是表示第一實施方式所涉及的基板處理系統的結構例的立體圖。

圖2是第一實施方式所涉及的基板處理系統的俯視圖。

圖3是表示第一實施方式所涉及的搬送機構的結構例的立體圖。

圖4是例示出在第一實施方式所涉及的控制器中實現的功能結構的框圖。