[發(fā)明專利]觸控顯示面板及顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210175991.1
• 申請(qǐng)日: 2022-02-24
• 公開（公告）號(hào): CN114637419A
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顧宇;劉仁杰;黨鵬樂
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041;H01L27/32
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝

本發(fā)明涉及一種觸控模組、觸控顯示面板及顯示裝置，觸控模組包括：金屬觸控層；屬犧牲層，設(shè)于金屬觸控層的一側(cè)；偏光層，設(shè)于金屬犧牲層背向金屬觸控層的一側(cè)；金屬犧牲層中金屬的活動(dòng)性大于金屬觸控層中至少一種金屬的活動(dòng)性。上述觸控模組中，將金屬犧牲層阻擋于偏光層與金屬觸控層之間腐蝕性物質(zhì)的擴(kuò)散路徑上，相較于金屬觸控層，金屬犧牲層可先接觸到偏光層散發(fā)出的腐蝕性物質(zhì)。同時(shí)，金屬犧牲層中金屬的活動(dòng)性大于金屬觸控層中至少一種金屬的活動(dòng)性，也就是說金屬犧牲層中的金屬更加活躍，可與偏光層散發(fā)出的腐蝕性物質(zhì)先發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，消耗掉偏光層散發(fā)的腐蝕性物質(zhì)，防止腐蝕性物質(zhì)腐蝕金屬觸控層，提高金屬觸控層的可靠性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及觸控顯示面板及顯示裝置。

背景技術(shù)

目前，從市場(chǎng)趨勢(shì)來看，具有觸控功能的顯示面板已是顯示面板的主流需求。OLED觸控顯示面板成為了手機(jī)、平板電腦等電子設(shè)備青睞的對(duì)象。

其中，在OLED觸控顯示面板中，由于其OLED器件的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，對(duì)外界環(huán)境光的反射率較高，為降低整體反射率，通常在蓋板與OLED觸控顯示面板之間使用偏光層。但在，偏光層的使用會(huì)對(duì)OLED觸控顯示面板中觸控功能層造成腐蝕，腐蝕達(dá)到一定程度時(shí)還會(huì)造成觸控功能失效。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要針對(duì)觸控層容易被腐蝕失效的問題，提供一種觸控顯示面板及顯示裝置。

一種觸控模組，所述觸控模組包括：

金屬觸控層；

金屬犧牲層，設(shè)于所述金屬觸控層的一側(cè)；

偏光層，設(shè)于所述金屬犧牲層背向所述金屬觸控層的一側(cè)，并且所述金屬犧牲層在所述金屬觸控層上的正投影與所述偏光層在所述金屬觸控層上的正投影不交疊；或者，所述金屬犧牲層的至少部分設(shè)于所述金屬觸控層與所述偏光層之間，所述金屬犧牲層在所述金屬觸控層上的正投影與所述偏光層在所述金屬觸控層上的正投影至少部分交疊；

其中，所述金屬犧牲層中金屬的活動(dòng)性大于所述金屬觸控層中至少一種金屬的活動(dòng)性。

上述觸控模組中，將金屬犧牲層阻擋于偏光層與金屬觸控層之間腐蝕性物質(zhì)的擴(kuò)散路徑上，相較于金屬觸控層，金屬犧牲層可先接觸到偏光層散發(fā)出的腐蝕性物質(zhì)。同時(shí)，金屬犧牲層中金屬的活動(dòng)性大于金屬觸控層中至少一種金屬的活動(dòng)性，也就是說金屬犧牲層中的金屬更加活躍，可與偏光層散發(fā)出的腐蝕性物質(zhì)(例如碘離子或者鉀離子)先發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，消耗掉偏光層散發(fā)的腐蝕性物質(zhì)，防止腐蝕性物質(zhì)腐蝕金屬觸控層，提高金屬觸控層的可靠性。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬觸控層包括鋁層及兩層鈦層，所述鋁層設(shè)于所述兩層鈦層之間，朝向所述偏光層所在一側(cè)的所述鈦層上覆蓋有所述金屬犧牲層；

其中，所述金屬犧牲層中金屬的活動(dòng)性大于鈦的金屬活動(dòng)性，或者所述金屬犧牲層中金屬的活動(dòng)性大于鋁的金屬活動(dòng)性。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬犧牲層包括鋁、鈉和鎂中的至少一項(xiàng)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬犧牲層包括鈉和鎂中的至少一項(xiàng)的情況下，所述金屬犧牲層還包括摻雜物，以使所述金屬犧牲層中鈉或者鎂的濃度低于預(yù)設(shè)濃度。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述觸控模組具有顯示區(qū)域及圍繞所述顯示區(qū)域的非顯示區(qū)域；所述金屬觸控層包括位于所述顯示顯示區(qū)域的觸控電極、及位于所述非顯示區(qū)域且與所述觸控電極連接的觸控走線；

所述金屬犧牲層覆蓋所述觸控電極和所述觸控走線中至少一者。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述金屬犧牲層還包括阻擋部，所述阻擋部在所述金屬觸控層上的正投影與所述偏光層在所述金屬觸控層上的正投影不交疊，并且所述阻擋部向所述金屬犧牲層背離所述金屬觸控層的一側(cè)凸出設(shè)置；

顯示區(qū)域可選地，所述阻擋部的凸出高度為10um-100um；