[發明專利]成膜裝置

在審

• 申請號: 202210174848.0
• 申請日: 2022-02-25
• 公開（公告）號: CN114959621A
• 公開（公告）日: 2022-08-30
• 發明（設計）人: 河合慈;高橋宣之;富井廣樹;櫻井克榮
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/54;C23C14/04;C23C14/56;H01L21/677;H01L21/68;H01L21/683
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 張寶榮

1.一種成膜裝置，其具備：

腔室，所述腔室將內部保持為真空；

吸附板，所述吸附板設置在所述腔室的內部，對基板進行吸附；及

基板支承部，所述基板支承部設置在所述腔室的內部，具有在所述吸附板的下方對所述基板進行支承的多個基板載置部，

所述成膜裝置的特征在于，具備：

檢知機構，所述檢知機構對所述腔室的內部被保持為真空的狀態下的所述多個基板載置部的各自的高度進行檢知；及

調節機構，所述調節機構在所述腔室的內部被保持為真空的狀態下，基于所述檢知機構的檢知結果，調節所述多個基板載置部的各自的高度。

2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，

所述檢知機構包括：

第一升降機構，所述第一升降機構使所述吸附板升降；及

接觸檢知機構，所述接觸檢知機構檢知所述吸附板與所述多個基板載置部的接觸，

在所述多個基板載置部未支承所述基板的狀態下，基于所述第一升降機構使所述吸附板下降時的所述接觸檢知機構的檢知結果，對所述多個基板載置部相對于所述吸附板的各自的高度進行檢知。

3.根據權利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，

所述接觸檢知機構包括向所述多個基板載置部的各自的基板的載置面露出的觸頭。

4.根據權利要求3所述的成膜裝置，其特征在于，

所述調節機構包括在所述腔室的內部被保持為真空的狀態下使所述多個基板載置部分別獨立地升降的第二升降機構，以多個所述觸頭分別與所述吸附板接觸的時機的時間差收斂于規定的時間內的方式調節所述多個基板載置部的各自的高度。

5.根據權利要求3所述的成膜裝置，其特征在于，

所述調節機構以多個所述觸頭分別與所述吸附板接觸的時機的時間差成為規定的時間差的方式調節所述多個基板載置部的各自的高度。

6.一種成膜裝置，其具備：

腔室，所述腔室將內部保持為真空；

吸附板，所述吸附板設置在所述腔室的內部，對基板進行吸附；及

基板支承部，所述基板支承部設置在所述腔室的內部，具有在所述吸附板的下方對所述基板進行支承的多個基板載置部，

所述成膜裝置的特征在于，具備：

檢知機構，所述檢知機構對所述多個基板載置部各自與位于所述基板載置部的上方的對象的接觸進行檢知；及

調節機構，所述調節機構在所述腔室的內部被保持為真空的狀態下，基于所述檢知機構的檢知結果，調節所述多個基板載置部的各自的高度。

7.根據權利要求6所述的成膜裝置，其特征在于，

所述成膜裝置還具備使所述吸附板升降的第一升降機構，

所述檢知機構檢知與所述吸附板的接觸，

在所述多個基板載置部未支承所述基板的狀態下，基于所述第一升降機構使所述吸附板下降時的所述檢知機構的檢知結果，所述調節機構調節所述多個基板載置部相對于所述吸附板的各自的高度。

8.根據權利要求6或7所述的成膜裝置，其特征在于，

所述檢知機構包括向所述多個基板載置部的各自的基板的載置面露出的觸頭。

9.根據權利要求6或7所述的成膜裝置，其特征在于，

檢知機構包括向所述多個基板載置部的各自的基板的載置面露出的觸頭，

所述調節機構包括在所述腔室的內部被保持為真空的狀態下使所述多個基板載置部分別獨立地升降的第二升降機構，

以多個所述觸頭分別與所述吸附板接觸的時機的時間差收斂于規定的時間內的方式調節所述多個基板載置部的各自的高度。

10.根據權利要求8所述的成膜裝置，其特征在于，

所述調節機構以多個所述觸頭分別與所述吸附板接觸的時機的時間差成為規定的時間差的方式調節所述多個基板載置部的各自的高度。