[發(fā)明專利]根據(jù)光學(xué)顯微鏡圖像判斷十層以內(nèi)石墨烯具體層數(shù)的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210165055.2 | 申請(qǐng)日: | 2022-02-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114544629A | 公開(公告)日: | 2022-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孟國(guó)棟;詹涪至;折俊藝;謝晉安;王常齡;夏凌寒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/84 | 分類號(hào): | G01N21/84 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 賀小停 |
| 地址: | 710049 *** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 根據(jù) 光學(xué) 顯微鏡 圖像 判斷 以內(nèi) 石墨 具體 層數(shù) 方法 | ||
1.根據(jù)光學(xué)顯微鏡圖像判斷十層以內(nèi)石墨烯具體層數(shù)的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:根據(jù)理論公式計(jì)算獲取十層以內(nèi)不同層數(shù)石墨烯在特定基底下的理論對(duì)比度值;
步驟2:在相同光源下,獲取特定基底和已知層數(shù)石墨烯在該特定基底下的光學(xué)顯微鏡圖片;
步驟3:對(duì)步驟2中的光學(xué)顯微鏡圖片提取若干個(gè)R、G、B刺激值,并求平均,得到R、G、B的相對(duì)刺激值;
步驟4:對(duì)步驟3中的R、G、B的相對(duì)刺激值賦予權(quán)重,使得賦予權(quán)重后的R、G、B相對(duì)刺激值之和接近步驟1中計(jì)算得到的石墨烯在特定基底下的理論對(duì)比度值;
步驟5:在相同光源下,獲取特定基底和在該特定基底下待測(cè)層數(shù)石墨烯的光學(xué)顯微鏡圖片;
步驟6:對(duì)步驟5中的光學(xué)顯微鏡圖片中的特定基底和待測(cè)石墨烯區(qū)域提取R、G、B刺激值,求取相對(duì)刺激值;
步驟7:根據(jù)步驟4中得到的R、G、B相對(duì)刺激值權(quán)重,將步驟6中待測(cè)位置的R、G、B相對(duì)刺激值乘以權(quán)重后求和,得到實(shí)驗(yàn)對(duì)比度值;
步驟8:將步驟7中的實(shí)驗(yàn)對(duì)比度值與步驟1中計(jì)算得到的不同層數(shù)石墨烯的理論對(duì)比度值逐一比較,判斷石墨烯層數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的根據(jù)光學(xué)顯微鏡圖像判斷十層以內(nèi)石墨烯具體層數(shù)的方法,其特征在于,所述步驟1中理論公式為:
C=0.0046+0.0925N-0.00255N2
式中,C為理論對(duì)比度值,N為石墨烯層數(shù),N10。
3.如權(quán)利要求1所述的根據(jù)光學(xué)顯微鏡圖像判斷十層以內(nèi)石墨烯具體層數(shù)的方法,其特征在于,所述步驟3中利用MATLAB軟件的impixel函數(shù),提取若干個(gè)特定基底和已知層數(shù)石墨烯在該特定基底下的光學(xué)顯微鏡圖片的R、G、B刺激值。
4.如權(quán)利要求3所述的根據(jù)光學(xué)顯微鏡圖像判斷十層以內(nèi)石墨烯具體層數(shù)的方法,其特征在于,所述步驟3中R、G、B的相對(duì)刺激值的計(jì)算公式如下:
式中,Rni、Gni、Bni分別為n層石墨烯光學(xué)顯微鏡圖片上第i個(gè)點(diǎn)的R、G、B刺激值,Rn、Gn、Bn為n層石墨烯的R、G、B刺激值,CRn、CGn、CBn分別為n層石墨烯的R、G、B相對(duì)刺激值,R0、G0、B0為特定基底的R、G、B刺激值。
5.如權(quán)利要求4所述的根據(jù)光學(xué)顯微鏡圖像判斷十層以內(nèi)石墨烯具體層數(shù)的方法,其特征在于,所述步驟4中對(duì)R、G、B的相對(duì)刺激值賦予權(quán)重,具體為:
(1-α)Cnω1CRn+ω2CGn+ω3CBn(1+α)Cn
式中,α為對(duì)比度值偏差允許范圍,ωi為R、G、B相對(duì)刺激值權(quán)重,i=1,2,3,Cn為n層石墨烯的理論對(duì)比度值。
6.如權(quán)利要求5所述的根據(jù)光學(xué)顯微鏡圖像判斷十層以內(nèi)石墨烯具體層數(shù)的方法,其特征在于,所述步驟4中通過求解采用隨機(jī)機(jī)會(huì)約束模型,得到滿足約束條件和目標(biāo)函數(shù)的權(quán)重,所述目標(biāo)函數(shù)如下所示:
約束條件為:
P{(1-α)Cnω1CRn+ω2CGn+ω3CBn(1+α)Cn}β
0≤ωi≤1,i=1,2,3
ω1+ω2+ω3=1
式中,P{·}為概率事件,β為條件成立置信水平。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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