[發明專利]一種應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法

在審

• 申請號: 202210162415.3
• 申請日: 2022-02-22
• 公開（公告）號: CN115118887A
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發明（設計）人: 高冉冉;陸振林;陳雷;崔靳;王建永;范少波;李璟;李想;薛鈺
• 申請（專利權）人: 北京時代民芯科技有限公司;北京微電子技術研究所
• 主分類號: H04N5/235
• 分類號: H04N5/235;H04N5/243
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 張曉飛

1.一種應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于包括下列步驟：

(1)攝像機開啟自動曝光功能；

(2)選取一幀圖像中具有代表性的M*N個點代替整幅圖像，選用這M*N個點所在的坐標構建圖像特征點坐標矩陣I(M,N)；

(3)計算T₁時刻、T₁+t時刻、T₁+2t時刻輸入圖像特征點坐標矩陣I(M,N)對應的像素點的中央重點加權平均值WA₁、WA₂、WA₃；T₁表示任意時刻，t表示指定時間間隔；

(4)判斷WA₁、WA₂、WA₃是否在最佳閾值范圍[TH_min,TH_max]內，若三個中有兩個以上超出最佳閾值范圍，說明當前圖像不是曝光正常的圖像，則進入步驟(5)，執行自動曝光流程；否則，說明當前圖像是曝光正常的圖像，不作任何處理，返回步驟(3)；

(5)計算當前時刻輸入圖像的中央重點加權平均值WA，并獲取攝像機當前設置的曝光時間ET_i；

(6)根據WA₁、WA₂、WA₃以及曝光時間ET_i，控制攝像機進行增大曝光時間或減小曝光時間，實現自動曝光。

2.根據權利要求1所述的應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于：所述步驟(6)中，進行增大曝光時間的具體判定過程為：若WATH_min，且ET_iET_max，說明攝像機曝光不足，則增大曝光時間，令下一時刻的曝光時間ET_i+1＝ET_i+L，其中ET_max為攝像機支持的曝光時間的最大值，L為曝光時間改變的步長，執行完成后，返回步驟(5)；否則，進入步驟(7)。

3.根據權利要求1所述的應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于：所述步驟(6)中，進行減小曝光時間的具體判定過程為：(7)若WATH_max，且ET_iET_min，說明攝像機曝光過度，則減小曝光時間，令下一時刻的曝光時間ET_i+1＝ET_i-L，其中ET_min為攝像機支持的曝光時間的最小值，L為曝光時間改變的步長，執行完成后，返回步驟(5)；否則，返回步驟(3)。

4.根據權利要求2或3所述的應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于：所述步長其中g為曝光時間可調節的檔數。

5.根據權利要求1所述的應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于：所述步驟(1)中的攝像機，采用抗輻射攝像機。

6.根據權利要求1所述的應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于：所述步驟(1)中的攝像機，通過軟件控制，在上電初始化后默認開啟自動曝光功能。

7.根據權利要求6所述的應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于：所述步驟(1)中的攝像機，通過上位機軟件控制自動曝光功能的開啟與關閉，自動曝光功能關閉時，通過上位機軟件執行手動曝光，自動曝光功能開啟時，上位機軟件的手動曝光功能不起作用。

8.根據權利要求1所述的應用于國產抗輻射攝像機的自動曝光方法，其特征在于：步驟(3)中的中央重點加權平均算法，指對輸入的一幀圖像求加權平均時，對人眼所關心的中央區域施加較多的權值，對人眼不太關注的四周區域施加較少的權值。