[發(fā)明專利]訓練圖像集生成方法、裝置及設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210161005.7
• 申請日: 2022-02-22
• 公開（公告）號: CN114581728A
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發(fā)明（設計）人: 鄧寶松;尚天賜;姚雯;朱效洲
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍軍事科學院國防科技創(chuàng)新研究院
• 主分類號: G06V10/774
• 分類號: G06V10/774;G06V20/40;G06V10/26;G06K9/62
• 代理公司: 北京奧文知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11534
• 代理人: 張文

1.一種訓練圖像集生成方法，其特征在于，所述訓練圖像集生成方法包括：

獲取包含目標圖像的第一圖像集，所述目標圖像通過圖形分割生成目標圖形，獲取包含所述目標圖形的目標圖形集；

將所述目標圖形集中每個目標圖形進行標注，每個目標圖形生成對應的目標圖形信息；

隨機選取所述多個目標圖形信息獲取所述對應的多個目標圖形，將所述多個目標圖形通過第一圖形圖層參數(shù)生成方法生成第一圖層參數(shù)，并將所述生成第一圖層參數(shù)的多個目標圖形合成第一前景圖像，獲取包含有效背景圖像的背景圖像集，將所述第一前景圖像與所述背景圖像集中一個有效背景圖像組合生成訓練樣本，或將所述第一前景圖像與所述背景圖像集中一個有效背景圖像組合并添加一種天氣情況生成訓練樣本；

或者，獲取包含遮擋物圖像的第二圖像集，所述遮擋物圖像通過圖形分割生成遮擋物圖形，獲取包含所述遮擋物圖形的遮擋物圖形集，將所述遮擋物圖形集中每個遮擋物圖形進行標注，每個遮擋物圖形生成對應的遮擋物圖形信息，隨機選取所述多個目標圖形信息和遮擋物圖形信息獲取所述對應的多個目標圖形和遮擋物圖形，將所述多個目標圖形和遮擋物圖形通過第二圖形圖層參數(shù)生成方法生成第二圖層參數(shù)，并將所述生成第二圖層參數(shù)的多個目標圖形和遮擋物圖形合成第二前景圖像，獲取包含有效背景圖像的背景圖像集，將所述第二前景圖像與所述背景圖像集中一個有效背景圖像組合生成訓練樣本，或將所述第二前景圖像與所述背景圖像集中一個有效背景圖像組合并添加一種天氣情況生成訓練樣本；

匯集多張訓練樣本形成訓練圖像集。

2.如權利要求1所述的訓練圖像集生成方法，其特征在于，所述圖形分割包括：

31)在所述待分割圖像上選取種子像素點進行人工標注；

32)將所述人工標注的種子像素點作為生長起始點，按照生長規(guī)則對所述待分割圖像上的像素點進行識別，若生長起始點鄰域中像素點符合生長規(guī)則，則劃分至生長起始點所在區(qū)域，若鄰域中像素點不符合生長規(guī)則，則不進行劃分；

33)重復上述步驟32)，直至對所述待分割圖像上的像素點識別完畢或將所述待分割圖像上所有符合生長規(guī)則的像素點全部劃分至所述生長起始點所在區(qū)域。

3.如權利要求1所述的訓練圖像集生成方法，其特征在于，

所述將所述目標圖形集中每個目標圖形進行標注，每個目標圖形生成對應的目標圖形信息，所述目標圖形信息包括目標圖形包圍框和目標圖形類別標記，所述目標圖形包圍框包括：

基于目標圖形像素坐標獲取所述目標圖形集中每個目標圖形分別在縱軸和橫軸的最大值和最小值；

根據(jù)所述每個目標圖形在縱軸最大值和最小值作兩條平行于縱軸的直線，根據(jù)所述每個目標圖形在橫軸最大值和最小值作兩條平行于橫軸的直線，四條直線形成所述目標圖形的包圍框，四條直線的四個交點為所述目標圖形包圍框的頂點；

所述將所述遮擋物圖形集中每個遮擋物圖形進行標注，每個遮擋物圖形生成對應的遮擋物圖形信息，所述遮擋物圖形信息包括遮擋物圖形包圍框和遮擋物圖形標記，所述遮擋物圖形包圍框包括：

基于遮擋物圖形像素坐標獲取所述遮擋物圖形集中每個遮擋物圖形分別在縱軸和橫軸的最大值和最小值；

根據(jù)所述每個遮擋物圖形在縱軸最大值和最小值作兩條平行于縱軸的直線，根據(jù)所述每個遮擋物圖形在橫軸最大值和最小值作兩條平行于橫軸的直線，四條直線形成所述遮擋物圖形的包圍框，四條直線的四個交點為所述遮擋物圖形包圍框的頂點。

4.如權利要求3所述的訓練圖像集生成方法，其特征在于，所述目標圖形類別標記為1，遮擋物圖形類別標記為0。