[發(fā)明專利]寬光譜干涉顯微測量方法、裝置、電子設(shè)備及介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210160959.6
• 申請日: 2022-02-22
• 公開（公告）號: CN114608472A
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張為國;孫艷林;熊欣;鄧曉洲;杜春雷
• 申請（專利權(quán)）人: 珠海邁時光電科技有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;G01B11/06
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 張志輝

1.一種寬光譜干涉顯微測量方法，其特征在于，包括：

獲取待測樣品的干涉圖；

確定所述干涉圖的調(diào)制度，通過所述調(diào)制度標(biāo)識所述干涉圖的第一區(qū)域，所述第一區(qū)域用于表征符合設(shè)定閾值的相位展開區(qū)域；

對所述第一區(qū)域執(zhí)行相位展開，得到所述干涉圖多個焦面的真實相位圖；

對多個所述焦面的所述真實相位圖相位拼接，得到所述干涉圖的相位分布；

根據(jù)所述相位分布確定所述待測樣品的表面高度分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寬光譜干涉顯微測量方法，其特征在于，所述確定所述干涉圖的調(diào)制度，通過所述調(diào)制度標(biāo)識所述干涉圖的第一區(qū)域，包括：

獲取所述干涉圖的像素；

對所述干涉圖的每個像素執(zhí)行調(diào)制度計算，其計算方式為

其中M(x，y)表示所述像素的調(diào)制度，(x，y)表示所述像素的位置，其中N為相移測量的步數(shù)，n＝1，2，…，N，I_n(x，y)為第n幀所述干涉圖的灰度值；

根據(jù)所述設(shè)定閾值，將所述調(diào)制度大于等于所述設(shè)定閾值的所述第一區(qū)域作為所述相位展開區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寬光譜干涉顯微測量方法，其特征在于，所述對所述第一區(qū)域執(zhí)行相位展開，得到所述干涉圖多個焦面的真實相位圖，包括：

通過菱形相位展開算法對所述第一區(qū)域執(zhí)行相位展開，所述菱形相位展開算法通過以所述第一區(qū)域任意所述像素作為種子像元，以所述種子像元作為中心向相鄰四個所述像素執(zhí)行解包裹，以擴(kuò)散方式執(zhí)行解包裹直至完成所述第一區(qū)域所有所述像素的相位展開，得到多個焦面的真實相位圖。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寬光譜干涉顯微測量方法，其特征在于，所述對多個所述焦面的所述真實相位圖相位拼接，得到所述干涉圖的相位分布，包括：

構(gòu)建第一焦面R₁和第二焦面R₂的標(biāo)志矩陣P_v1和P_v2，所述第一焦面和所述第二焦面重合區(qū)域為R₁₂，計算重合區(qū)域的相位值均差Δφ₁₂

其中，°為Hardmar積，N₁₂為重合區(qū)域像素數(shù)，根據(jù)重合區(qū)域的相位值均差Δφ₁₂，對不同位置相位分布圖執(zhí)行拼接，拼接公式φ_stitch(x，y)為

將所有位置的焦面中的所述第一區(qū)域展開相位拼接完后，得到所述相位分布；

其中φ(x，y)為所述像素(x，y)的相位差。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的寬光譜干涉顯微測量方法，其特征在于，所述方法還包括：

構(gòu)建標(biāo)志矩陣用于表征所述第一區(qū)域及第二區(qū)域，所述標(biāo)志矩陣為

P_v(x，y)為所述標(biāo)志矩陣在所述像素(x，y)的取值，其中M(x，y)為調(diào)制度，k_m為所述設(shè)定閾值，標(biāo)志為1的區(qū)域為所述第一區(qū)域，標(biāo)志為0的區(qū)域為所述第二區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的寬光譜干涉顯微測量方法，其特征在于，所述根據(jù)所述相位分布確定所述待測樣品的表面高度分布，包括：

將所述相位分布減去最小二乘法擬合的平面，進(jìn)而通過

計算得到所述待測樣品的表面高度分布；

其中，λ₀為寬光譜白光光源中心波長，h(x，y)為所述像素(x，y)表面高度分布，φ(x，y)為所述像素(x，y)的相位差。