[發(fā)明專利]石墨盤烘烤夾具及烘烤裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210154369.2 | 申請日: | 2022-02-21 |
| 公開(公告)號: | CN114199031B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 谷禮杰;堯舜;胡斌;劉晨暉;董國亮;康聯(lián)鴻;湯秀娟 | 申請(專利權(quán))人: | 華芯半導(dǎo)體研究院(北京)有限公司;華芯半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C30B25/10;F27D5/00;F27B17/00 |
| 代理公司: | 北京中知法苑知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11226 | 代理人: | 李明;趙吉陽 |
| 地址: | 101300 北京市順*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 石墨 烘烤 夾具 裝置 | ||
本申請公開了一種石墨盤烘烤夾具及烘烤裝置,所述石墨盤烘烤夾具包括烘烤架(1),所述烘烤架(1)上安裝有多個(gè)橫梁(2),每個(gè)所述橫梁(2)上均設(shè)有凹槽(3),對應(yīng)所述凹槽(3)構(gòu)成石墨盤(7)的圓周邊;所述烘烤架(1)上還設(shè)有兩組平行相對的長通孔(4),所述橫梁(2)的兩端分別設(shè)于一所述長通孔(4)內(nèi),在外力作用下,所述橫梁(2)旋轉(zhuǎn)和/或沿所述長通孔(4)移動(dòng),以調(diào)整所述圓周邊的半徑。本申請實(shí)施例的石墨盤烘烤夾具,其烘烤架上設(shè)有可供橫梁移動(dòng)和選擇的長通孔,橫梁能夠通過旋轉(zhuǎn)和/或移動(dòng)來調(diào)整支撐角度和支撐位置,從而可以適用于不同半徑長度和不同形狀的石墨盤。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請屬于半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種石墨盤烘烤夾具及使用該石墨盤烘烤夾具的烘烤裝置。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,反應(yīng)腔內(nèi)石墨件的種類也越來越多,烤盤爐及烤盤夾具的使用也越來越廣泛,因此,各項(xiàng)影響因素也在不斷改善中。目前烤盤夾具主要根據(jù)石墨件的尺寸制作,功能單一。
發(fā)明內(nèi)容
本申請旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一,提供一種石墨盤烘烤夾具及使用該石墨盤烘烤夾具的烘烤裝置。
根據(jù)本申請實(shí)施例的第一方面,提供了一種石墨盤烘烤夾具,包括烘烤架,所述烘烤架上安裝有多個(gè)橫梁,每個(gè)所述橫梁上均設(shè)有凹槽,對應(yīng)所述凹槽構(gòu)成石墨盤的圓周邊;
所述烘烤架上還設(shè)有兩組平行相對的長通孔,所述橫梁的兩端分別設(shè)于一所述長通孔內(nèi),在外力作用下,所述橫梁旋轉(zhuǎn)和/或沿所述長通孔移動(dòng),以調(diào)整所述圓周邊的半徑。
可選的,所述橫梁包括:
梁本體,所述凹槽設(shè)于所述梁本體上;
導(dǎo)向桿,每個(gè)所述梁本體的兩端均同軸連接所述導(dǎo)向桿,所述橫梁通過所述導(dǎo)向桿設(shè)于所述長通孔內(nèi);
緊固件,所述緊固件設(shè)于所述導(dǎo)向桿上,用于將所述橫梁固定在所處位置。
可選的,所述導(dǎo)向桿穿設(shè)在所述長通孔內(nèi),所述緊固件設(shè)于在所述導(dǎo)向桿穿過所述長通孔的一端。
可選的,所述緊固件包括緊固螺栓,所述緊固螺栓套設(shè)于所述導(dǎo)向桿穿過所述長通孔的一端。
可選的,所述橫梁的兩端設(shè)有導(dǎo)向板,所述導(dǎo)向板與所述烘烤架間隙配合。
可選的,每組所述長通孔包括上通孔和下通孔;其中:
所述下通孔設(shè)于所述圓周邊的圓心下方,且水平設(shè)置,部分所述橫梁的設(shè)于所述下通孔內(nèi);
所述上通孔對稱的設(shè)于所述圓周邊的圓心兩側(cè),且向上彎曲設(shè)置,其余所述橫梁對稱的設(shè)于所述上通孔內(nèi)。
可選的,所述上通孔內(nèi)對稱的設(shè)有兩個(gè)所述橫梁;所述下通孔內(nèi)對稱的設(shè)有兩個(gè)所述橫梁。
可選的,所述上通孔包括弧形段和水平段,所述水平段對稱的設(shè)于所述弧形段的側(cè)面,且所述水平段與所述弧形段連通。
可選的,所述凹槽的側(cè)面或側(cè)面的開口部分向槽外傾斜。
根據(jù)本申請實(shí)施例的第二方面,提供了一種烘烤裝置,包括第一方面中任一項(xiàng)實(shí)施例所述的石墨盤烘烤夾具。
本申請的上述技術(shù)方案具有如下有益的技術(shù)效果:
本申請實(shí)施例的石墨盤烘烤夾具,其烘烤架上設(shè)有可供橫梁移動(dòng)和選擇的長通孔,橫梁能夠通過旋轉(zhuǎn)和/或移動(dòng)來調(diào)整支撐角度和支撐位置,從而可以適用于不同半徑長度和不同形狀的石墨盤。
附圖說明
圖 1是本申請示例性實(shí)施例中一種石墨盤烘烤夾具的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是圖1的側(cè)視圖;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華芯半導(dǎo)體研究院(北京)有限公司;華芯半導(dǎo)體科技有限公司,未經(jīng)華芯半導(dǎo)體研究院(北京)有限公司;華芯半導(dǎo)體科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210154369.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





