[發(fā)明專利]基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210146725.6 | 申請日: | 2022-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN114582990B | 公開(公告)日: | 2022-08-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 何欣;劉旭;郝翔 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/0232 | 分類號: | H01L31/0232;H01L31/113;G02B5/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 劉靜 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 表面 寬帶 隨機 光譜 場效應(yīng) | ||
1.一種基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,由下至上依次為導(dǎo)電襯底、氧化物絕緣層、摻雜金屬的介質(zhì)薄膜層;所述介質(zhì)薄膜層上設(shè)有隨機光譜吸收器和位于所述隨機光譜吸收器兩側(cè)的源極、漏極;所述導(dǎo)電襯底作為柵極;
所述隨機光譜吸收器包括第一金屬層,所述第一金屬層上開有正六邊形陣列排布的納米孔,形成表面等離子體激元SPP;每個納米孔中均依次填充介質(zhì)層形成介質(zhì)納米碟,填充第二金屬層形成金屬納米碟;所述金屬納米碟形成局部表面等離子體LSP;
通過調(diào)制所述隨機光譜吸收器的透射光和反射光的相位,使得所述透射光和所述反射光的相位差之和ψ=mπ,且隨機數(shù)m隨波長在1-2范圍內(nèi)隨機變化時,能夠產(chǎn)生吸收率隨波長在最大值和最小值之間隨機波動的光譜曲線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,通過調(diào)整所述納米孔的形狀和尺寸、所述介質(zhì)納米碟和所述金屬納米碟的厚度,實現(xiàn)對所述隨機光譜吸收器的透射光和反射光的相位調(diào)制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,所述襯底采用摻雜硼的P型硅基。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,所述氧化物絕緣層采用二氧化硅絕緣層,厚度為10-20納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,所述介質(zhì)薄膜層采用摻雜鋁的氧化鋅薄膜層,是場效應(yīng)管中熱電子躍遷的通道,厚度為30-50納米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,所述隨機光譜吸收器為超表面結(jié)構(gòu),所述第一金屬層和所述第二金屬層的材料可以相同也可以不同,選用鋁、銀、金;所述納米孔中的介質(zhì)層材料為二氧化硅。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,所述隨機光譜吸收器中,所述第一金屬層和所述第二金屬層的厚度分別是10-40納米,所述納米孔中的介質(zhì)層厚度為50-150納米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,所述隨機光譜吸收器中,所述納米孔的形狀為中心對稱幾何形狀,采用圓形、同心圓環(huán)形、正多邊形或同心正多邊環(huán)形;所述納米孔的最大外徑不超過3微米。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面的超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管,其特征在于,所述超寬帶隨機光譜場效應(yīng)管的工作波長范圍覆蓋近紫外光、可見光、近紅外和部分中紅外,即波長為0.3-3.6微米;數(shù)值孔徑可達(dá)0.9。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





