[發明專利]一種滿角度無限旋轉單電位器及高精度角度校測方法在審
| 申請號: | 202210143771.0 | 申請日: | 2022-02-17 |
| 公開(公告)號: | CN114420396A | 公開(公告)日: | 2022-04-29 |
| 發明(設計)人: | 樊昌元;周麒丞;蘇德斌;郭在華;譚杰;王財麗;王俊傑;陳盈宇;任鴻濤;張迪;胡輝棟 | 申請(專利權)人: | 成都信息工程大學 |
| 主分類號: | H01C10/34 | 分類號: | H01C10/34;H01C1/16;G01B7/30;G01P3/44;G01P15/08 |
| 代理公司: | 成都正煜知識產權代理事務所(普通合伙) 51312 | 代理人: | 袁宇霞 |
| 地址: | 610000 四川省成都市雙*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 角度 無限 旋轉 電位器 高精度 方法 | ||
1.一種滿角度無限旋轉單電位器,外殼(1)、電極座(7)、頂蓋(2),其特征在于,所述電極座(7)安裝于外殼(1)內通過頂蓋(2)固定,所述電極座(7)的頂面設置上碳膜圈(4-1),在電極座(7)的底面設置下碳膜圈(4-2),所述上碳膜圈(4-1)設有上碳膜圈開口(4-1-1),下碳膜圈(4-2)設有下碳膜圈開口(4-2-1),上碳膜圈開口(4-1-1)與下碳膜圈開口(4-2-1)在水平上的投影不重合,所述電極座(7)中心設置有轉軸(3),轉軸(3)上設置有電極片(5),電極片(5)包括與上碳膜圈(4-1)電接觸的上電極片(5-1)和與下碳膜圈(4-2)電接觸的下電極片(5-2)。
2.根據權利要求1所述的一種滿角度無限旋轉單電位器,其特征在于,上碳膜圈開口(4-1-1)處的一端為上碳膜圈電極引出端(B),上碳膜圈電極引出端(B)通過電極(6)引出,另一端為上碳膜圈跳線端(A);
下碳膜圈開口(4-2-1)處的一端為下碳膜圈電極引出端(C),下碳膜圈電極引出端(C)通過電極(6)引出,另一端為下碳膜圈跳線端(D);
上碳膜圈跳線端(A)與下碳膜圈跳線端(D)通過跳線電連接。
3.根據權利要求1所述的一種滿角度無限旋轉單電位器,其特征在于,下碳膜圈跳線端(D)與上碳膜圈跳線端(A)的錯位角度為θ,θ即電器角度相位差。
4.根據權利要求1所述的一種滿角度無限旋轉單電位器,其特征在于,
電位器旋轉角度α為:
其中,vc為電極片(5)處電壓,I為恒流源電流,R1、R2分別是下碳膜圈和上碳膜圈的電阻,γ為上碳膜圈開口(4-1-1)和下碳膜圈開口(4-2-1)對應的機械角度,θ為下碳膜圈跳線端(D)與上碳膜圈跳線端(A)的錯位角度,即電器角度相位差。
5.根據權利要求1所述的一種滿角度無限旋轉單電位器,其特征在于,上碳膜圈(4-1)和下碳膜圈(4-2)半徑、材料、面積等完全一樣。
6.根據權利要求1所述的一種滿角度無限旋轉單電位器,其特征在于,外殼(1)包括為圓筒腔結構,包括下圓筒腔(1-1)和上圓筒腔(1-2),所述下圓筒腔(1-1)空腔半徑小于上圓筒腔(1-2)的空腔半徑,下圓筒腔(1-1)與上圓筒腔(1-2)之間形成環狀臺階,電極座(7)設置于形成環狀臺階上。
7.根據權利要求6所述的一種滿角度無限旋轉單電位器,其特征在于,頂蓋(2)包括頂面(2-1)和圓筒腔(2-2),圓筒腔(2-2)的外表面插入圓筒腔(1-2)內與上圓筒腔(1-2)過盈配合。
8.一種權利要求1所述的1-7任一所述的一種360度電位器的高精度角度校測方法,其特征在于,包括以下步驟:
第1步:CPU中央處理器啟動ADC每毫秒轉換一次數據,得到時長n毫秒,連續n次電位器中心抽頭的毫秒電壓瞬時數據,并存儲為v0、v1、……vn-1,判斷這n個值的相鄰電壓值是否有超過m毫伏的,若有去掉該值,插值代替,即用該值前后值的均值代替該值,若最后一個值vn,超過15毫伏,則用2vn-2-vn-3代替vn-1,去掉最大兩個和最小兩個值,求剩下的值的算術平均值,得到的均值即為n毫秒電壓瞬時值b0,判斷如0≤b0≤vS,否則存儲α0;
第2步:間隔時間nΔt,重復第1步得到α1,存儲α0、α1;
第3步:計算角速度存儲ω0;
第4步:間隔n毫秒再重復第1步,第2步和第3步,循環后得到并存儲角度α0、α1、α2,角速度ω0、ω1;
第5步:計算角加速度,存儲λ0;
上述步驟中,其中,I為恒流源電流,R1、R2分別是下碳膜圈和上碳膜圈的電阻,γ為上碳膜圈開口(4-1-1)和下碳膜圈開口(4-2-1)對應的機械角度,θ為下碳膜圈跳線端(D)與上碳膜圈跳線端(A)的錯位角度,即電器角度相位差。
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