[發明專利]一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置在審
| 申請號: | 202210138571.6 | 申請日: | 2022-02-15 |
| 公開(公告)號: | CN114498276A | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發明(設計)人: | 郭永瑞;張娜娜;陳鑫 | 申請(專利權)人: | 重慶郵電大學 |
| 主分類號: | H01S3/109 | 分類號: | H01S3/109;H01S3/115 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 梁田 |
| 地址: | 400000 重*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 222 nm 深紫 脈沖 激光 產生 裝置 | ||
1.一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,包括自倍頻Nd:YCOB調Q激光器、腔外三倍頻激光器,所述自倍頻Nd:YCOB調Q激光器的輸出端連接所述腔外三倍頻激光器的輸入端;
所述自倍頻Nd:YCOB調Q激光器,用于把原始泵浦激光經自倍頻處理過程產生666nm紅光脈沖激光;
所述腔外三倍頻激光器,用于把所述666nm紅光脈沖激光經過三倍頻頻率轉換,得到222nm深紫外脈沖激光并輸出腔外。
2.根據權利要求1所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述自倍頻Nd:YCOB調Q激光器包括LD泵浦源(1)、第一耦合透鏡組(2)、Nd:YCOB自倍頻晶體(3)、調Q開關晶體(4)、第一輸出鏡(5)、第一45°平面鏡(6)、第一激光收集堆(7);
由所述LD泵浦源(1)發射的810nm泵浦激光經所述第一耦合透鏡組(2)進行整形后聚焦于所述Nd:YCOB自倍頻晶體(3)激發產生1332nm脈沖激光,所述1332nm激光經所述調Q開關晶體(4)后在所述Nd:YCOB自倍頻晶體(3)的前端面和所述第一輸出鏡(5)之間形成所述1332nm脈沖激光振蕩,產生的1332nm脈沖激光經所述Nd:YCOB自倍頻晶體(3)自倍頻處理過程產生666nm紅光脈沖激光,所述666nm紅光脈沖激光經第一輸出鏡(5);經第一輸出鏡(5)完全輸出的666nm紅光脈沖激光和一部分1332nm脈沖激光通過所述第一45°分束鏡(6)進行分束,反射的1332nm脈沖激光進入第一激光收集堆(7),透射的666nm紅光脈沖激光進入所述腔外三倍頻激光器。
3.根據權利要求2所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述LD泵浦源(1)是光纖耦合輸出激光二極管,其輸出激光中心波長為810nm的,光纖芯徑為600μm,數值孔徑為0.16NA。
4.根據權利要求2所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述第一耦合透鏡組(2)鍍有810nm增透膜,用于對810nm激光進行整形。
5.根據權利要求2所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述Nd:YCOB自倍頻晶體(3)是采用3.5%的Nd3+摻雜,晶體尺寸為3×3×12mm3,前端面鍍有810nm增透膜、1332nm高反膜以及666nm高反膜,后端面鍍有1332nm和666nm增透膜。
6.根據權利要求2所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述調Q開關晶體(4)是采用的聲光調Q的方式,晶體長度為30mm,衍射損耗大于80%,分離角為7.54rad;所述調Q開關晶體(4)的兩個通光面均鍍有666nm和1332nm增透膜。
7.根據權利要求2所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述第一輸出鏡(5)半徑R為100mm;所述第一輸出鏡(5)前表面鍍有1332nm高反膜和666nm增透膜,后表面鍍有666nm增透膜;且所述第一輸出鏡(5)與所述Nd:YCOB自倍頻晶體(3)的前端面距離為50mm。
8.根據權利要求2所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述第一45°入射平面鏡(6)前表面鍍有1332nm高反膜和666nm增透膜,后表面鍍有666nm增透膜。
9.根據權利要求2所述的一種222nm深紫外脈沖激光源的產生裝置,其特征在于,所述第一激光收集堆(7)收集的是1332nm脈沖激光。
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