[發(fā)明專利]光微影設(shè)備及其用于去除污染物的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210137556.X | 申請日: | 2022-02-15 |
| 公開(公告)號: | CN114779582A | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃昱智;邱毓凱;鄭介任;陳立銳 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光微影 設(shè)備 及其 用于 去除 污染物 方法 | ||
1.一種光微影設(shè)備,其特征在于,包含:
一晶圓卡盤,具有一表面;
一清潔電極,用以產(chǎn)生一電場;以及
一馬達(dá),用于使該清潔電極旋轉(zhuǎn),其中當(dāng)該清潔電極在該晶圓卡盤附近旋轉(zhuǎn)時,帶電粒子自該表面被吸附至該清潔電極。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,該晶圓卡盤為一靜電卡盤。
3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,該清潔電極包含具有至少兩個對稱軸的一形狀。
4.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,該形狀為圓形,且該電場為一雙極電場。
5.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,該形狀為一規(guī)則多邊形,且該電場為一雙極電場。
6.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,該形狀為一星形及一扇形中的一者,且其中該電場為一雙極電場。
7.如權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其特征在于,進(jìn)一步包含以下中的至少一者:一交流電源、一直流電源及一無線電源,用于為該清潔電極充電。
8.如權(quán)利要求7所述的設(shè)備,其特征在于,該清潔電極進(jìn)一步具有電隔離的一第一帶正電部分及一第二帶負(fù)電部分。
9.一種用于去除光微影設(shè)備污染物的方法,其特征在于,包含以下步驟:
在一晶圓夾具的一表面上方設(shè)置一雙極電極;
為該雙極電極充電;
使該雙極電極旋轉(zhuǎn);以及
使該晶圓夾具及該雙極電極中的至少一者相對于彼此移動,使得在該雙極電極旋轉(zhuǎn)的同時,該晶圓夾具的該表面上的帶電粒子被吸引至該雙極電極的一表面上。
10.一種用于去除光微影設(shè)備污染物的方法,其特征在于,包含以下步驟:
使用一清潔石自一晶圓卡盤表面去除具有一第一尺寸的大污染物粒子;
在該晶圓卡盤表面上方設(shè)置帶有具有至少兩個對稱軸的一對稱表面的一清潔電極;
為該清潔電極充電以產(chǎn)生一對稱電場;
使該清潔電極在該晶圓卡盤表面上方旋轉(zhuǎn),使得具有一第二尺寸的帶電殘余粒子由該清潔電極的該對稱表面使用該對稱電場自該晶圓卡盤表面吸附,
其中該第一尺寸大于該第二尺寸。
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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