[發(fā)明專利]一種五金易潔表面處理的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210129870.3
• 申請日: 2022-02-11
• 公開（公告）號: CN114457309A
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發(fā)明（設計）人: 林孝發(fā);林孝山;胡征宇;劉小龍
• 申請（專利權）人: 九牧廚衛(wèi)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/58;B05D7/24;C23C14/06;C23C14/14
• 代理公司: 廈門市首創(chuàng)君合專利事務所有限公司 35204
• 代理人: 張松亭;游學明

本發(fā)明公開了一種五金易潔表面處理的方法，具體包括如下步驟：安裝多弧離子鍍靶材，靶材可以是鉻、鋯、鈦中的一種或多種；裝載清洗烘干后的電鍍樣品，抽真空達到本底真空后，進行離子鍍膜；保持潔凈，將上述PVD鍍膜后的樣品轉(zhuǎn)噴涂掛具后噴涂納米易潔材料；將噴涂納米易潔材料后的樣品進行烘烤干燥，烘考溫度在60～140℃，時間為20～60min。本發(fā)明通過PVD物理氣相沉積工藝，在五金產(chǎn)品表面沉積一層具有一定粗糙度的金屬膜層，再在所制膜層表面噴涂一層納米易潔材料，獲得具有較強耐刮擦性能、易潔使用壽命長的產(chǎn)品表面，這種方法成本低且制程簡單。

技術領域

本發(fā)明屬于五金表面處理技術領域，具體涉及一種五金易潔表面處理的方法。

背景技術

廚衛(wèi)五金產(chǎn)品電鍍或PVD涂層表面容易被各類污染源附著從而形成印記、不易清潔的問題一直是廚衛(wèi)行業(yè)的一大痛點。在金屬表面獲得具備一定耐磨性能及結(jié)合力的易潔涂層同時不改變金屬色澤的現(xiàn)有技術方案非常少，技術路線通常包括以下兩種：降低表面能和構筑微觀結(jié)構。降低表面能可以通過直接涂覆地表面能涂層，但厚度過低則耐磨性能差，厚度過高則改變金屬質(zhì)感；或者通過離子注入降低表面能，但離子注入對基材有特定的要求且需要較高的溫度，工藝時間長成本高。構筑微觀結(jié)構的工藝則耐磨性能較差且不適用于復雜的工件。

目前市面上已有的在不改變金屬質(zhì)感色澤的前提下，增加廚衛(wèi)五金產(chǎn)品的易潔功能的解決方案(AF Coating)是直接在五金電鍍層之上或者在濺射氧化硅/氧化鋁鍍層之上，以噴涂或者蒸鍍的方式涂鍍低表面能的材料，例如氟硅烷、氟硅化合物、全氟類化合物等。但是直接在五金電鍍層上噴涂的方案結(jié)合力差不耐磨；濺射鍍膜后噴涂或蒸發(fā)鍍膜的方案成本高、對設備要求高、制程復雜，同時對生產(chǎn)環(huán)境要求較高。

因此非常有必要開發(fā)一種成本低、制程簡單同時有較強耐刮擦性能、易潔使用壽命長的五金易潔表面處理的方法以滿足廚衛(wèi)五金產(chǎn)品生產(chǎn)的需要。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術存在的缺陷，提供一種成本低、制程簡單同時有較強耐刮擦性能、易潔使用壽命長的五金易潔表面處理的方法，通過PVD物理氣相沉積工藝，在五金電鍍鉻產(chǎn)品表面沉積一層具有一定粗糙度的金屬膜層，再在所制膜層表面噴涂一層納米易潔材料，在不改變金屬色澤質(zhì)感的條件下獲得具有較強耐刮擦性能、易潔使用壽命長的產(chǎn)品表面。

為了實現(xiàn)以上目的，本發(fā)明的技術方案為一種五金易潔表面處理的方法，具體包括如下步驟：

(1)安裝多弧離子鍍靶材，靶材可以是鉻、鋯、鈦中的一種或多種；

(2)裝載清洗烘干后的電鍍樣品，抽真空進行PVD鍍膜，達到本底真空后，進行離子鍍膜，工作氣體為氬氣，反應氣體(根據(jù)鍍膜要求)為氮氣、乙炔、甲烷中的一種或多種，鍍膜真空為0.1～0.5pa，鍍膜電流為80～120A，鍍膜時間為2～6min；

(3)保持潔凈，將上述PVD鍍膜后的樣品轉(zhuǎn)噴涂掛具后噴涂納米易潔材料；

(4)將噴涂納米易潔材料后的樣品進行烘烤干燥，烘考溫度在60～140℃，時間為20～60min。

在本發(fā)明一較佳實施例中，所述步驟(1)中靶材為鋯、鉻、鈦中的一種或多種。

在本發(fā)明一較佳實施例中，所述步驟(2)PVD鍍膜工藝為多弧離子鍍工藝，可沉積純金屬膜或者碳化物或氮化物等反應膜，最終外觀可以是電鍍鉻色、金色、玫瑰金色、槍色、黑色等。

在本發(fā)明一較佳實施例中，所述步驟(2)中鍍膜本底真空為0.002-0.008pa，鍍膜真空0.1-0.5pa，電弧靶電流80-100A，鍍膜時間為2-6min.

在本發(fā)明一較佳實施例中，所述步驟(2)中PVD鍍膜表面粗糙度Ra值4-15μm，Rq值10-100μm。

在本發(fā)明一較佳實施例中，所述步驟(2)中鍍膜厚度范圍0.1-0.6μm。