[發(fā)明專利]一種顯示面板和顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210121502.4 | 申請日: | 2022-02-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114464757A | 公開(公告)日: | 2022-05-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王磊;代好;王美紅;馬揚(yáng)昭 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢天馬微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/52 | 分類號(hào): | H01L51/52;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 楊義 |
| 地址: | 430205 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括光學(xué)部件區(qū);
所述光學(xué)部件區(qū)包括襯底、絕緣層和第一電極;
所述絕緣層包括第一絕緣層和第二絕緣層,所述第二絕緣層位于所述第一絕緣層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè),所述第一絕緣層包括與所述第二絕緣層接觸的第一子絕緣層;
所述第一電極位于所述第二絕緣層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè),所述第一子絕緣層中設(shè)置有至少一個(gè)第一絕緣開口;在所述顯示面板的厚度方向上,所述第二絕緣層覆蓋所述第一絕緣開口,所述第一電極與所述第一絕緣開口至少部分交疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第一絕緣層還包括位于所述第一子絕緣層靠近所述襯底一側(cè)的至少一層第二子絕緣層;
至少接觸所述第一子絕緣層的一個(gè)所述第二子絕緣層中設(shè)置有至少一個(gè)第二絕緣開口;在所述顯示面板的厚度方向上,所述第二絕緣開口與所述第一絕緣開口至少部分交疊;
所述第二絕緣層填充所述第一絕緣開口和所述第二絕緣開口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,任一所述第二子絕緣層中均設(shè)置有至少一個(gè)第二絕緣開口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,在所述顯示面板的厚度上,所述第一電極覆蓋所述第一絕緣開口。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,所述第一絕緣層中設(shè)置有一個(gè)第一絕緣開口,且所述第一絕緣開口的開口面積為S1,所述第一電極的覆蓋面積為S2,其中,0≤(S2-S1)/S1≤10%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括位于所述第二絕緣層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的像素限定層,所述像素限定層中設(shè)置有第一像素開口,所述第一像素開口暴露所述第一電極;
在所述顯示面板的厚度方向上,所述第一像素開口與所述第一絕緣開口不交疊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括位于所述第二絕緣層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的像素限定層,所述像素限定層中設(shè)置有第二像素開口,所述第二像素開口暴露所述第一電極;
在所述顯示面板的厚度方向上,所述第一絕緣開口覆蓋所述第二像素開口。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括位于所述第二絕緣層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的像素限定層,所述像素限定層中設(shè)置有第三像素開口,所述第三像素開口暴露所述第一電極;
在所述顯示面板的厚度方向上,所述第三像素開口與所述第一絕緣開口部分交疊。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括第一像素電路,所述第一像素電路與所述第一電極電連接;
所述第一像素電路包括薄膜晶體管,所述薄膜晶體管包括有源層、源漏極以及位于所述有源層與所述源漏極之間的層間絕緣層,所述層間絕緣層中設(shè)置有源漏過孔,所述源漏極通過所述源漏過孔與所述有源層電連接;
所述第一絕緣層包括所述層間絕緣層,所述第一絕緣開口包括與所述源漏過孔同一工藝制備的過孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述光學(xué)部件區(qū)還包括補(bǔ)償結(jié)構(gòu),所述補(bǔ)償結(jié)構(gòu)包括至少一層補(bǔ)償膜層;
在所述顯示面板的厚度方向上,所述第一電極與所述補(bǔ)償結(jié)構(gòu)至少部分交疊。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,所述第一電極覆蓋所述補(bǔ)償結(jié)構(gòu)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示面板,其特征在于,所述補(bǔ)償膜層包括金屬補(bǔ)償膜層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





