[發(fā)明專利]具有定向電子束的平面燈絲在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210121453.4 | 申請日: | 2022-02-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114914139A | 公開(公告)日: | 2022-08-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | E·米勒 | 申請(專利權(quán))人: | 莫克斯泰克公司 |
| 主分類號(hào): | H01J35/06 | 分類號(hào): | H01J35/06 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 蔡悅 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 定向 電子束 平面 燈絲 | ||
平面燈絲11f可以包括多種材料以增加在期望方向上的電子發(fā)射并抑制在不期望方向上的電子發(fā)射。燈絲11f可以包括在頂材料TM和底材料BM之間的芯材料CM。頂材料TM可以具有最低的功函數(shù)WFt;底材料BM可以具有最高的功函數(shù)WFb;并且芯材料CM可以具有中間的功函數(shù)WFc(WFtWFcWFb)。燈絲11f在頂面31t處的寬度Wt可以大于其在底面31b處的寬度Wb(WtWb)。這種形狀使得更容易地用底材料BM包覆邊緣31e,因?yàn)檫吘?1e朝向?yàn)R射靶傾斜并且部分面向?yàn)R射靶。這種形狀還有助于將更多的電子引導(dǎo)到靶14的中心,并減少在不期望的方向上的電子發(fā)射。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明大體上涉及X射線源。
背景技術(shù)
X射線有許多用途,包括成像、X射線熒光分析、X射線衍射分析和靜電耗散。X射線管的陰極和陽極之間的大電壓,有時(shí)是加熱的燈絲,會(huì)導(dǎo)致電子從陰極發(fā)射到陽極。陽極可以包括靶材料。靶材料可以響應(yīng)來自陰極的撞擊電子而產(chǎn)生X射線。
發(fā)明內(nèi)容
X射線管可以包括彼此電絕緣的陰極和陽極。陰極可以包括被配置為向陽極處的靶發(fā)射電子的燈絲。靶可以被配置為響應(yīng)來自燈絲的撞擊電子而發(fā)射X射線。
燈絲可以是細(xì)長的電線,其具有面向靶的頂面,與頂面相對的底面,以及在頂面和底面之間延伸的彼此相對的兩個(gè)邊緣。
Ai≤80°,其中Ai是燈絲的頂面和邊緣之間的內(nèi)角。
附圖說明(附圖并不一定是按照比例繪制的)
圖1a是包括燈絲11f的透射靶X射線管10a的橫截面?zhèn)纫晥D,燈絲11f被配置為將電子以電子束16的形式發(fā)射到靶14。X射線17可以穿過靶14和相鄰的X射線窗口13從X射線管10a發(fā)射出。
圖1b是類似于X射線管10a的透射靶X射線管10b的橫截面?zhèn)纫晥D。X射線管10b具有與X射線管10a不同形狀的陽極12和電絕緣結(jié)構(gòu)15。
圖2是包括燈絲11f的反射靶側(cè)窗X射線管20的橫截面?zhèn)纫晥D,燈絲11f被配置為將電子以電子束16的形式發(fā)射到靶14。靶14可以被配置為發(fā)射X射線17穿過X射線管20的內(nèi)部,并穿過X射線窗13從X射線管20發(fā)射出。
圖3是具有螺旋形和蛇形形狀的燈絲11f的俯視圖。
圖4是圖3的燈絲11f沿圖3中的線4-4的橫截面?zhèn)纫晥D。
圖5a是燈絲11f的電線31的一部分的橫截面?zhèn)纫晥D,頂材料TM位于頂面31t,底材料BM位于底面31b。
圖5b是燈絲11f的電線31的一部分的橫截面?zhèn)纫晥D,頂材料TM位于頂面31t,底材料BM位于底面31b,和兩個(gè)邊緣31e。
圖6a是燈絲11f的電線31的一部分的橫截面?zhèn)纫晥D,頂材料TM位于頂面31t,底材料BM位于底面31b,并且芯材料CM位于頂材料TM和底材料BM之間。
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