[發(fā)明專利]一種晶圓清洗裝置及清洗系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210120127.1
• 申請(qǐng)日: 2022-01-30
• 公開（公告）號(hào): CN114589183B
• 公開（公告）日: 2022-12-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 錢誠(chéng);童建;李剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇亞電科技有限公司
• 主分類號(hào): B08B11/02
• 分類號(hào): B08B11/02;B08B1/00;B08B1/04;B08B5/02;B08B13/00
• 代理公司: 北京商專潤(rùn)文專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11317
• 代理人: 陳平

本發(fā)明涉及一種晶圓清洗裝置及清洗系統(tǒng)，一種晶圓清洗裝置，包括清洗裝置本體，其所述清洗裝置本體的頂部設(shè)置有上框組件，所述上框的內(nèi)部設(shè)置有清理機(jī)構(gòu)，所述清洗裝置本體的內(nèi)部設(shè)置有調(diào)整機(jī)構(gòu)，所述上框組件包括有立式電機(jī)，所述立式電機(jī)的輸出軸通過(guò)聯(lián)軸器固定連接有一端貫穿并延伸至上框內(nèi)部的立軸，所述立軸的外表面固定安裝有旋轉(zhuǎn)盤，所述旋轉(zhuǎn)盤的底部固定安裝有氣缸，所述清理機(jī)構(gòu)包括有清理盤，所述清理盤的頂部與氣缸的底部固定安裝。該晶圓清洗裝置及清洗系統(tǒng)，通過(guò)設(shè)置有上框組件，通過(guò)立式電機(jī)和氣缸的設(shè)置，使得清理機(jī)構(gòu)具備旋轉(zhuǎn)和上下移動(dòng)的功能，進(jìn)而達(dá)到對(duì)晶圓進(jìn)行高效清刷的目的。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及晶圓清洗技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種晶圓清洗裝置及清洗系統(tǒng)。

背景技術(shù)

晶圓是指制作硅半導(dǎo)體電路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種，然后慢慢拉出，形成圓柱形的單晶硅，硅晶棒在經(jīng)過(guò)研磨，拋光，切片后，形成硅晶圓片，也就是晶圓，晶圓的主要加工方式為片加工和批加工，即同時(shí)加工一片或多片晶圓，隨著半導(dǎo)體特征尺寸越來(lái)越小，加工及測(cè)量設(shè)備越來(lái)越先進(jìn)，使得晶圓加工出現(xiàn)了新的數(shù)據(jù)特點(diǎn)，同時(shí)，特征尺寸的減小，使得晶圓加工時(shí)，空氣中的顆粒數(shù)對(duì)晶圓加工后質(zhì)量及可靠性的影響增大，而隨著潔凈的提高，顆粒數(shù)也出現(xiàn)了新的數(shù)據(jù)特點(diǎn)。

現(xiàn)有的晶圓清洗裝置大清洗晶圓的時(shí)候不方便對(duì)晶圓進(jìn)行尺寸的調(diào)節(jié)，導(dǎo)致在清洗時(shí)只能夠清洗單一尺寸的晶圓，清洗刷使用時(shí)間過(guò)久容易造成損壞，現(xiàn)有技術(shù)不方便對(duì)清洗刷進(jìn)行拆換，且在清洗過(guò)程中不易對(duì)晶圓的反面進(jìn)行清洗，造成清洗效果差，故而提出一種晶圓清洗裝置及清洗系統(tǒng)來(lái)解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問(wèn)題

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種晶圓清洗裝置及清洗系統(tǒng)，具備清洗效果好和適用范圍廣的優(yōu)點(diǎn)，解決了不方便對(duì)晶圓進(jìn)行尺寸的調(diào)節(jié)，導(dǎo)致在清洗時(shí)只能夠清洗單一尺寸的晶圓，清洗刷使用時(shí)間過(guò)久容易造成損壞，現(xiàn)有技術(shù)不方便對(duì)清洗刷進(jìn)行拆換，且在清洗過(guò)程中不易對(duì)晶圓的反面進(jìn)行清洗，造成清洗效果差的問(wèn)題。

(二)技術(shù)方案

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種晶圓清洗裝置，包括清洗裝置本體，其所述清洗裝置本體的頂部設(shè)置有上框組件，所述上框的內(nèi)部設(shè)置有清理機(jī)構(gòu)，所述清洗裝置本體的內(nèi)部設(shè)置有調(diào)整機(jī)構(gòu)；

所述上框組件包括有立式電機(jī)，所述立式電機(jī)的輸出軸通過(guò)聯(lián)軸器固定連接有一端貫穿并延伸至上框內(nèi)部的立軸，所述立軸的外表面固定安裝有旋轉(zhuǎn)盤，所述旋轉(zhuǎn)盤的底部固定安裝有氣缸；

所述清理機(jī)構(gòu)包括有清理盤，所述清理盤的頂部與氣缸的底部固定安裝，所述清理盤的底部活動(dòng)安裝有刷板，所述刷板的頂部固定安裝有兩個(gè)一端貫穿并延伸至清理盤內(nèi)部的插件，所述清理盤的左右兩側(cè)均開設(shè)有定位孔，兩個(gè)所述定位孔的左右兩側(cè)均活動(dòng)安裝有一端貫穿并延伸至插件外部的卡栓，所述清理盤的頂部和底部均設(shè)置有定位組件；

所述調(diào)整機(jī)構(gòu)包括有貼邊倉(cāng)，所述貼邊倉(cāng)的外表面與清洗裝置本體的內(nèi)壁固定安裝，所述貼邊倉(cāng)的內(nèi)壁與清洗裝置本體的內(nèi)壁之間活動(dòng)安裝有活動(dòng)盤，所述活動(dòng)盤的左側(cè)活動(dòng)安裝有一端貫穿并延伸至清洗裝置本體外部的安裝桿，所述安裝桿的左側(cè)固定安裝有搖盤，所述搖盤的左側(cè)設(shè)置有鎖把組件，所述清洗裝置本體的內(nèi)部活動(dòng)安裝有兩個(gè)軸桿，右側(cè)所述軸桿的右側(cè)與清洗裝置本體的內(nèi)腔右側(cè)壁活動(dòng)安裝，左側(cè)所述軸桿的左側(cè)與活動(dòng)盤的右側(cè)固定連接，兩個(gè)所述軸桿的外表面均活動(dòng)安裝有尺板，兩個(gè)所述尺板的相對(duì)一側(cè)均固定安裝有尺寸盤，兩個(gè)所述尺板的內(nèi)腔相背一側(cè)分別與兩個(gè)軸桿的相對(duì)一側(cè)之間固定安裝有電動(dòng)推桿。

進(jìn)一步，兩個(gè)所述定位組件均包括有兩個(gè)定位倉(cāng)，同側(cè)兩個(gè)所述定位倉(cāng)均開設(shè)于清理盤的內(nèi)部，兩個(gè)所述定位孔的內(nèi)部均活動(dòng)安裝有兩個(gè)跳板，同側(cè)兩個(gè)所述跳板的相背一側(cè)分別與同側(cè)兩個(gè)定位倉(cāng)的內(nèi)腔相對(duì)一側(cè)壁之間固定安裝有彈性桿，同側(cè)兩個(gè)所述跳板的相對(duì)一側(cè)均固定安裝有一端貫穿并延伸至卡栓內(nèi)部的栓頭。