[發明專利]一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置

有效

• 申請號: 202210118569.2
• 申請日: 2022-02-08
• 公開（公告）號: CN114452868B
• 公開（公告）日: 2023-04-25
• 發明（設計）人: 龐國平;陳文堅;林春生;陳克彥
• 申請（專利權）人: 睿科集團（廈門）股份有限公司
• 主分類號: B01F31/20
• 分類號: B01F31/20;B01F35/30;B01F35/31;B01F101/23
• 代理公司: 廈門市天富勤知識產權代理事務所(普通合伙) 35244
• 代理人: 唐紹烈

1.一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：包括旋轉驅動機構(1)、驅動盤(2)、試管架組件(3)、平衡塊(4)，所述旋轉驅動機構(1)連接并驅動所述驅動盤(2)隨一轉軸(5)旋轉，所述試管架組件(3)與所述平衡塊(4)分別在所述轉軸(5)兩側，且同時限定沿垂直于所述轉軸(5)的一直線滑動，所述驅動盤(2)圍繞所述轉軸(5)所在直線開設有橢圓軌道(6)，所述試管架組件(3)上固定有第一隨動器(7)，所述平衡塊(4)上固定有第二隨動器(8)，所述第一隨動器(7)和所述第二隨動器(8)限定沿所述橢圓軌道(6)相對運動，進而通過旋轉所述驅動盤(2)帶動所述試管架組件(3)和所述平衡塊(4)反向同步往復運動。

2.如權利要求1所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述驅動盤(2)的質心位于所述轉軸(5)所在軸線上。

3.如權利要求1所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述轉軸(5)水平設置，且垂直于所述驅動盤(2)盤面。

4.如權利要求1所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述轉軸(5)設置在一支座(9)上，所述平衡塊(4)與所述試管架組件(3)滑動設置在所述支座(9)上。

5.如權利要求4所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述支座(9)向上延伸形成有導軌支架(23)，所述導軌支架(23)上設置有第一直線導軌(10)和第二直線導軌(11)，所述第一直線導軌(10)和所述第二直線導軌(11)位于垂直于所述轉軸(5)的同一直線上，所述試管架組件(3)通過所述第一直線導軌(10)滑動連接在所述支座(9)上，所述平衡塊(4)通過所述第二直線導軌(11)滑動連接在所述支座(9)上。

6.如權利要求4所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述支座(9)底部設置有第一緩沖墊(12)，所述第一緩沖墊(12)底部連接有底座(13)，所述底座(13)底部設置有第二緩沖墊(14)。

7.如權利要求1所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述旋轉驅動機構(1)包括電機(15)、同步帶傳動機構(16)，所述同步帶傳動機構(16)連接在所述電機(15)與所述驅動盤(2)之間，以通過所述電機(15)驅動所述驅動盤(2)旋轉。

8.如權利要求1所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述第一隨動器(7)包括有第一導向輪(17)，所述第二隨動器(8)包括有第二導向輪(18)，所述第一導向輪(17)和所述第二導向輪(18)在所述橢圓軌道(6)內，沿所述橢圓軌道(6)相對滾動。

9.如權利要求1所述一種萃取前處理高頻垂直震蕩裝置，其特征在于：所述驅動盤(2)為圓盤，所述轉軸(5)位于所述驅動盤(2)的圓盤軸線上。