[發明專利]一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置在審
| 申請號: | 202210117546.X | 申請日: | 2022-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN114233083A | 公開(公告)日: | 2022-03-25 |
| 發明(設計)人: | 邢雪峰;趙菊 | 申請(專利權)人: | 南通華屹減震科技有限公司 |
| 主分類號: | E04H9/02 | 分類號: | E04H9/02;E04B1/98 |
| 代理公司: | 深圳泛航知識產權代理事務所(普通合伙) 44867 | 代理人: | 鄧愛軍 |
| 地址: | 226000 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 水平 雙向 調節 渦流 tmd 裝置 | ||
1.一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,包括回字形基座(1),其特征在于,所述回字形基座(1)內設有導向支撐組件,所述導向支撐組件活動有配重塊(4),所述配重塊(4)左右兩側均設有調節式機械阻尼組件,所述配重塊(4)前后側壁設有水平雙向調節電渦流阻尼器組件。
2.根據權利要求1所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述導向支撐組件包括限位板(2)、導向桿(11)和安裝螺帽(17),所述回字形基座(1)通過等間距開設的橫孔滑動配合有導向桿(11),所述導向桿(11)一端固定有限位板(2),所述限位板(2)內壁與回字形基座(1)外壁貼合接觸,所述導向桿(11)另一端通過內螺紋與安裝螺帽(17)螺紋連接,且安裝螺帽(17)內壁與回字形基座(1)外壁貼合接觸。
3.根據權利要求2所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述配重塊(4)下端等間距開設有滑孔(19),所述配重塊(4)外壁與滑孔(19)外壁滑動配合。
4.根據權利要求1-3任一所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述調節式機械阻尼組件包括阻尼彈簧(3)、調節螺紋套(18)、安裝套(23)、螺紋槽(27)和滑動套(28),所述安裝套(23)對稱安裝于回字形基座(1)內壁,所述安裝套(23)外壁開設有螺紋槽(27),所述螺紋槽(27)螺紋連接有調節螺紋套(18),所述調節螺紋套(18)外端轉動有阻尼彈簧(3),所述阻尼彈簧(3)左端固定有滑動套(28),所述滑動套(28)外端內壁與安裝套(23)內壁滑動配合。
5.根據權利要求4所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述滑動套(28)對稱安裝于配重塊(4)左右側壁上。
6.根據權利要求1所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述水平雙向調節電渦流阻尼器組件包括蓋板(5)、轉動板(6)、搖桿(7)、安裝側板(9)、上永磁鐵(10)、安裝槽(12)、直軸(15)、下永磁鐵(20)、齒板(21)和調節齒圈(22),所述回字形基座(1)前后內壁上對稱設有安裝側板(9),上端所述的安裝側板(9)設有上永磁鐵(10),下端所述的安裝側板(9)設有下永磁鐵(20),所述配重塊(4)頂部開設有安裝槽(12),所述蓋板(5)安裝在安裝槽(12)內,所述蓋板(5)頂部中端處通過軸承轉動有直軸(15),所述直軸(15)上端設有轉動板(6),所述轉動板(6)頂部外側設有搖桿(7),所述直軸(15)底部調節齒圈(22),所述調節齒圈(22)沿著圓周方向嚙合有兩組相同的齒板(21),所述齒板(21)外端均設有電渦流板(24),且電渦流板(24)上下端分別與上永磁鐵(10)底部和下永磁鐵(20)底部滑動配合。
7.根據權利要求6所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述上永磁鐵(10)和下永磁鐵(20)磁極相反設置。
8.根據權利要求7所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述配重塊(4)內開設有橫槽(26),所述齒板(21)和調節齒圈(22)設于橫槽(26)內,且所述電渦流板(24)與橫槽(26)貼合滑動連接。
9.根據權利要求8所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述電渦流板(24)頂部一側開設有刻度線(25)。
10.根據權利要求9所述的一種基于水平雙向調節的電渦流TMD裝置,其特征在于,所述蓋板(5)設有用于直軸(15)制動的制動結構,所述制動結構包括滑板(8)、定位齒圈(13)、定位齒塊(14)和定位彈簧(16),所述搖桿(7)和轉動板(6)通過直孔貼合滑動有滑板(8),所述滑板(8)底部連接有定位齒塊(14),所述定位齒塊(14)嚙合有定位齒圈(13),所述定位齒圈(13)與調節齒圈(22)齒槽數相同,所述定位齒圈(13)安裝于蓋板(5)頂部,所述定位齒塊(14)頂部和轉動板(6)底部之間設有定位彈簧(16),所述定位彈簧(16)套設在滑板(8)外側。
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