[發(fā)明專利]光源系統(tǒng)及投影設(shè)備

在審

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• 申請日: 2018-09-20
• 公開（公告）號: CN114563908A
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭祖強;杜鵬;李屹
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳光峰科技股份有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光源系統(tǒng)，其特征在于，包括

光源，所述光源用于發(fā)出激發(fā)光；

分光器件，設(shè)置在所述光源的出射光路上，所述光源出射的激發(fā)光入射到所述分光器件的下半部分；

均勻化器件，設(shè)置在所述分光器件的出射光路上，所述均勻化器件的下半部分用于對經(jīng)所述分光器件后的激發(fā)光進行勻光；

波長轉(zhuǎn)換裝置，設(shè)置在所述均勻化器件的出射光路上，用于將經(jīng)過所述均勻化器件下半部分勻光后的激發(fā)光轉(zhuǎn)換為受激光并反射所述受激光；以及

光路調(diào)節(jié)裝置，設(shè)置在所述均勻化器件與所述波長轉(zhuǎn)換裝置之間，用于調(diào)整從所述均勻化器件下半部分出射的激發(fā)光的光束方向，并調(diào)節(jié)從所述波長轉(zhuǎn)換裝置反射的未被激發(fā)的激發(fā)光至所述均勻化器件的上半部分，所述未被激發(fā)的激發(fā)光經(jīng)所述均勻化器件的上半部分均勻化后照射至所述分光器件的上半部分并被所述分光器件的上半部分反射后形成出射光；所述光路調(diào)節(jié)裝置還用于調(diào)整所述受激光的方向，使其入射至所述均勻化器件，經(jīng)所述均勻化器件均勻化的所述受激光經(jīng)所述分光器件反射后與所述未被激發(fā)的激發(fā)光共同形成所述出射光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，所述分光器件、所述均勻化器件以及所述光路調(diào)節(jié)裝置的中心位于同一條直線上，所述光源出射的所述激發(fā)光的傳輸方向與所述直線平行但不重合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，經(jīng)所述均勻化器件下半部分勻光的所述激發(fā)光與經(jīng)所述均勻化器件上半部分勻光的所述未被激發(fā)的激發(fā)光的傳輸方向平行但不重合，且二者的傳輸方向相反。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，所述分光器件的中心區(qū)域設(shè)置有使得所述激發(fā)光通過的鍍膜，所述分光器件的周側(cè)區(qū)域為高反射透鏡，所述激發(fā)光經(jīng)所述分光器件的中心區(qū)域透射到所述波長轉(zhuǎn)換裝置，所述受激光經(jīng)過所述分光器件進行反射。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，所述均勻化器件為復(fù)眼透鏡，其上設(shè)置有微透鏡單元，所述微透鏡單元將遠離所述波長轉(zhuǎn)換裝置一側(cè)表面的面分布轉(zhuǎn)化為出射光處的角分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，經(jīng)所述均勻化器件均勻化后出射的激發(fā)光與所述受激光的角度分布相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，所述光源系統(tǒng)還包括光收集系統(tǒng)，所述光收集系統(tǒng)包括至少一個凸透鏡。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，所述光源為發(fā)出第一激發(fā)光的第一光源，所述光源系統(tǒng)還包括發(fā)出第二激發(fā)光的第二光源，所述第一激發(fā)光和所述第二激發(fā)光的偏振態(tài)不同。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光源系統(tǒng)，其特征在于，所述分光器件的下半部分為反射第二激發(fā)光透射第一激發(fā)光的第一偏振區(qū)域，所述分光器的上半部分為反射第一激發(fā)光透射第二激發(fā)光的第二偏振區(qū)域。

10.一種投影設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1到9任意一項所述的光源系統(tǒng)。